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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 31 毫秒
1.
采用PECVD技术,以TEOS为源,对In0.53Ga0.47As材料进行表面钝化,研究了SiO2/In0.53Ga0.47As的界面态,提出降低界面态密度的方法,使其降低到8.5×10^10eV^-1cm^-2。  相似文献   

2.
M otorola公司的 MRFIC1859是一款双频单电源(3.6V)RF集成功率放大器,设计用于GSM900/DCS1800手持无线装置。改变匹配电路,它也可以用于3频GSM900/DCS1800/PCS1900装置。3.6V下的典型特性是:GSM:Pout=35.8dBm, PAE=53%;DCS: Pout=34dBm, PAE=43%。它具有一个宽频带(900-1800MHz)内部负电压产生器,此负电压产生器是基于输入载波经2级缓冲器放大后的RF整流(见图1)。这种方法消除了采用dc/dc…  相似文献   

3.
最近,《日本半导体产业新闻》报道,日本松下电工(株)菰田博士提出 BSD(弹道电子表面发射显不, Ballistic  electron Surface-emitting Display)。此方案类似于 FED,但BSD发射电子冷阴极不用FED的微尖结构,而采用下电极上低温多晶硅发射电子。BSD关键技术是在多晶硅晶界上形成5nm左右均匀微晶的多孔化技术。BSD优点:(1)工作电压为20V左右;(2)功耗为PDP的1/3,107cm(42in)的BSD功耗小于100W;(3)亮度大于20 000cd/m…  相似文献   

4.
孙平  张良莹 《电子器件》1995,18(2):125-129
本文对采用MOD法制备的PLZT(8/65/35)铁电薄膜的电性能进行了研究。MOD法可以在ITO/G,Pt/Ti/Si和Pt/LN基片上制备出具有优良铁电性能的PLZT铁电薄膜,采用Pt下电极的PLZT薄膜,Ps〉32μC/cm^2,而采用ITO电极的也得到了Ps=27μC/cm^2的好结果。本文还讨论了下电极和基片对薄膜电性能的影响。  相似文献   

5.
张浩 《电信技术》2000,(4):33-34
N ISDN给用户提供两种速率接口 :基本速率接口(BRA)和基群码率接入(PRA)。BRA由2个B通道(64kb/s)和1个D通道(16kb/s)组成 ;PRA由30个B通道(64kb/s)和1个D通道(64kb/s)组成。本文将介绍PRA及其在S-12J上的实现。1PRA简介通常PRA通过NT2 ISDNPABX(ISPBX)给用户提供服务 ,ISPBX也是一个PABX ,大部分ISPBX的数据存放在PARM(SACEPABX)中 ,能够通过2Mb/s的PRA接口实现点到点的连接。2Mb/sPCM由30…  相似文献   

6.
128×1元GaAs/AlGaAs多量子阱扫描红外焦平面的红外成像   总被引:2,自引:1,他引:2  
研制成功了128×1元GaAs/AlGaAs多量子阱扫描型红外焦平面(FPAs),器件的响应率达到RP=2.02×10^6V/W,截止波长为λ=8.6μm,根据常规的黑体探测率定义,得到器件的黑体探测率为Db=2.37×10^6cm.Hz/W,并最终获得了清晰的曙物体残留热像图。  相似文献   

7.
低能量激光镇痛的脊髓神经化学机制研究   总被引:2,自引:2,他引:0  
探讨低能量激光辐照足三里穴可能诱发脊髓5-HT、DYN参与镇痛的机制。He-Ne激光(剂量55、110、165J/cm^2)辐照单侧大鼠足三里穴,以辐射热甩尾法测定痛阈,应用荧光分光光度法及放射免疫分析技术分别测定脊髓5-HT、5-HIAA及DYN功能片段DynA1-13含量。结果:与自身基础痛阈比较,55J/cm^2,165J/cm^2组痛阈升高分别为显著和非常显著(P〈0.05、P〈0.01)  相似文献   

8.
用于1.2μmCMOS70MS/sADC阵列中的一种10位5MS/s逐次逼近ADC单元=A10-bit5MS/ssuccessiveapproximationADCcellusedina70MS/sADCarrayin1.2μmCMOS[刊,英]/Y...  相似文献   

9.
ADSL收发器的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
公岷 《通信技术》2000,(3):82-85,92
介绍了一种用DSP核(DSP Core)实现ADSL(Asymmetric Digital Subscriber Line)用户端收发器(Transceiver)的研制与开发。  相似文献   

10.
LP-MOCVD制备AlGaInP高亮度橙黄色发光二极管   总被引:6,自引:3,他引:3  
利用LP-MOCVD外延生长AlGaInPDH结构橙黄色发光二极管.引入厚层Al0.7Ga0.3As电流扩展层和Al0.5Ga0.5As-AlAs分布布拉格反射器(DBR).20mA工作条件下,工作电压1.9V,发光波长峰值在605nm,峰值半宽为18.3nm,管芯平均亮度达到20mcd,最大29.4mcd,透明封装成视角(2θ1/2)15°的LED灯亮度达到1cd.  相似文献   

11.
采用计算机控制的快速辐射加热、超低压CVD(RRH/VLP-CVD)方法生长了Si/Si0.7Ge0.3/Sip-型调制掺杂双异质结构.研究了该结构的输运性质,其空穴霍尔迁移率高达300cm2/V·s(300K,薄层载流于浓度ps为2.6e13cm-2)和8400cm2/V·s(77K,ps为1.1e13cm-2).  相似文献   

12.
硅基GaAs/GaAlAs平面光波导的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
分析了金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD)GaAs/GaAsAl/GaAs/Si材料结构的性能,用MOCVD法地硅衬底上生长了GaAs/GaAsAl/GaAs材料,并用这种材料制备了平面光波导样品,测定了1.3μm,单模激光的传输损耗小于0.65dB/cm。  相似文献   

13.
我们已开发117cm(46英寸)高分辨率、高亮度和高对比度背式投影显示器,这各显示器能自动地显示三种方式的图象,例如:LD(NTSC)、LD-远景(NTSC)和DH。显示器的规格是水平分辨率800线(16:9),1370cd/m^2(亮度峰值)、100(对比率)和672mm厚度。此篇文章报导有关实现这种高性能显示器的技术。  相似文献   

14.
谢茂浓  杜开瑛 《微电子学》1998,28(3):172-175
采用高频(1MHz)C-V测试和红外谱,研究了工艺参数对Xe激发真空紫外光(VUV)直接光CVD SiO2的SiO2/Si界面特性的影响。结果表明:衬底温度Ts对固定氧化物电荷密度ΔNot、慢界面态密度ΔNst的影响比反应室总气压Pc和SiH2/O2分压比显著。ΔNot和ΔNst在110℃附近有极小值,大小为10^10cm^-2量级。Ts〉120℃,ΔNot呈正电荷性,Ts〈110℃,ΔNot呈负  相似文献   

15.
本文对Lattice公司pLSI/ispLSI 1000系列高密度可编程逻辑器件和AMD公司MACH100/200系列PAL器件作了简要的比较。Lattice公司和AMD公司都是可编程逻辑器件的重要生产厂家,本文对Lattice的代表产品pLSI/ispLSI1000系列高密度可编程逻辑器件和AMD公司的代表产品MACH100/200系列,PAL在以下几个方面进行了比较:(1)逻辑块的尺寸;(2)  相似文献   

16.
研制了用Nd-YLF激光器泵浦的掺Pr^3+氟化物光纤放大器(PDFA)组件,其最大信号增益和噪声指数分别是20dB和5dB。在输入信号功率11.0dBm时,得到19.2dBm的输出功率,试验结果证明:该PDFA组件用于副载波复用多信道AM-VSB视频信号传输时,具有低噪声特性。  相似文献   

17.
贾正根 《光电技术》1999,40(2):64-68
本文介绍PDP的新发展,新的PDP分辨率达到1024×1024,亮度高达500cd/m^2,功耗从300W下降到250W,PDP将成为HDTV的优秀候选者。  相似文献   

18.
本文报道用低压有机金属化合物化学气相淀积(LP-MOCVD)外延生长InGaAsP/InP应变量子阶材料,材料参数与外延条件的关系,量子阱器件的结构设计及其器件应用.用所生长的材料研制出宽接触阈值电流密度小于400A/cm2(腔长400μm),DC-PBH结构阈值7~12mA的1.3μm量子阱激光器和宽接触阈值电流密度小于600A/cm2(腔长400μm),DC-PBH结构阈值9~15mA的1.55μm量子阶激光器以及高功率1.3μm量子阱发光二极管和InGaAsPIN光电探测器.  相似文献   

19.
合成了一种新型的Eu^3+配合物-Eu(BA)2(MAA)(Phen),并将其作为红光发射材料制备了结构为Glass/ITO/Eu(BA)2(MAA)(Phen)/A1r的有机电致发光薄膜器件。这种材料具有很强的荧光和很好的单色性且比较强的电致发光。器件的开戾电压为12V。在电压为26V的正向驱动下,器件的亮度为15cd/m^2,发光效率为0.251m/W。结合测量粉末、薄膜状态下的荧光光谱、激发  相似文献   

20.
李运钧  姚宁 《光电子.激光》1997,8(5):358-361,376
利用脉冲激光沉积技术(Pulsed Laser Deposition)首次制备出非晶碳-聚酰亚胺复合薄膜,用其做为冷阴极,观察到其场致电子发射的预击穿现象,预击穿后阈值场强为7V/μm,最大发射电流密度为1.2mA/cm^2。利用透明导电薄膜阳技术可观察到电子在薄膜阴极表明的发射区域。用扫描电子显微镜(SEM)观察了预击穿后发射区域的表面形貌的变化,并对复合薄膜的预击穿现象的场电子发射机理进行了探  相似文献   

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