大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能分析

电子枪聚焦性能是由电极结构决定的。本文通过计算机模拟的方式对三种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的光点形貌进行了系统模拟。对各电子枪聚焦特性进行的分析和比较表明电子束形成区、主透镜结构对屏蔽中心、角部的着屏光点及不同电流下聚焦的稳定性都有较大的影响。     

基于Spindt冷阴极的行波管电子枪设计

针对X波段小型化Spindt冷阴极螺旋线行波管进行了电子枪设计.基于皮尔斯型电子枪结构,联合PPM高频聚焦系统,以电子注聚焦特性为优化目标,采用CST粒子工作室对电子枪结构和工作参数进行了优化设计,获得了 30 mA工作电流下电子注填充比为0.68的良好电子注聚焦.在此电子枪结构和高频结构下,分析了特定电流下电子注聚焦...     

日立公司最新电子枪技术

对日立公司新一代彩色显像管用电子枪的结构及性能进行了剖析和系统讨论. 聚焦对比实验显示出日立公司新一代电子枪具有优越的聚焦性能.     

U—B电子枪探讨

Ｕ－Ｂ电子枪可以在高的阳极电压证工作，因而能够增强ＣＰＴ的亮度，改善枪的聚焦性能，本文对Ｕ－Ｂ电子枪的结构和进行了探讨。     

0.345 THz微电真空FWG-TWT的电子光学系统

对于太赫兹微电真空折叠波导行波管(FWG-TWT)放大器,高流通率是试验测试中首先需要达到的技术指标,是器件连续工作时高效束?波互作用的前提。电子光学系统包括电子枪、周期永磁聚焦系统(PPM)和收集极。本文通过对电子枪的高品质束流的产生、PPM对束流的聚焦2个方面研究束流的直流流通率。首先依据Vaughan迭代综合法初步选定电子枪的基本结构尺寸,然后通过粒子跟踪程序及PIC程序对电子枪的结构参数进行仿真优化,初步实现了0.345 THz FWG-TWT放大器所需的束流品质;进行了电子光学系统的电子枪和PPM的一体化数值模拟,研究了电子的直流流通率,最终流通率模拟结果达到100%。     

U－B电子枪探讨

Ｕ－Ｂ电子枪可以在高的阳极电压下工作，因而能够增强ＣＰＴ的亮度，改善枪的聚焦性能，本文对Ｕ－Ｂ电子枪的结构和性能进行了探讨。     

日立公司最新电子枪技术

本文对日立公司新一代彩色显像管用电子枪的结构及性能进行了剖析和系统讨论。其超大椭圆孔的主透镜使有效直径比上一代电子枪提高了25％，电子束形成区实现最优化设计，不同电流下聚焦的稳定性提高，同时进入主透镜的电子束发散角在水平和垂直方向不同，实现与主透镜的最佳配合，充分发挥了主透镜中共同透镜为椭圆孔透镜的特点。聚焦对比实验也显示出日立公司新一代电子枪聚焦的优异性能。     

动态聚焦电子枪的计算与分析

采用动态聚焦电子枪能够提高ＣＲＴ的边缘分辩率，本文对一种动态聚焦电子枪进行了计算与分析，并讨论了其静态聚焦特性，动态聚焦特性及四极场的作用。     

动态聚焦电子枪的模拟与实验研究

动态聚焦技术是为了满足大屏幕高分辨率彩色显像管及高分辨率彩色显示管的发展需求而产生的一项新技术。在本文中，作者首先提出了一种动态聚焦电子枪结构，进行了数值计算与分析，制作了动态聚焦电子枪并装管实验。通过对实验样管的测试与分析。证实该枪性能良好，动态聚集效果明显。     

场致发射阵列阴极电子枪的设计及模拟研究

讨论了微波管用电子枪的一般参数和要求，对于在微波管中应用场发射阵列阴极电子枪的情况作了分析，表明其中存在的主要问题是电子注散焦。通过比较场发射电子注聚焦的几种方法，利用传统电子枪整体聚焦的思想，初步设计了一个场发射阵列阴极电子枪模型，它包括场致发射阵列阴极，一个Whelnelt电极，一个聚焦电极和一个阳极。通过利用Mafia软件对电子注轨迹的模拟计算，对电子枪的聚焦部分进行了改进。     

A high-resolution electron gun for thermoplastic recording using prefocus deflection

A demagnification gun of high resolution was developed for thermoplastic recording by deflecting the electron beam at the entry of a large focusing lens. The unconventional approach of prefocus deflection allows close spacing between the "short" focusing lens and the target (phosphor screen or thermoplastic tape) required for demagnification and results in a gun with a relatively short length. The diameter of the focusing lens is about three times larger than the 25-mm diameter area to be scanned in order to keep spot distortions of the deflected beam at a minimum. Electrostatic focusing combined with magnetic deflection was selected. The special focusing lens that is used is shaped for low aberrations, increased demagnification and increased deflection sensitivity. Small deflection fields are required since the electron beam is being deflected in the accelerating field while the electron velocities are still low. The gun operates at 10 kv and delivers a 5-micron spot at 1µa. This corresponds to a resolution of 5000 spot diameters at average current densities in excess of 5 amp/cm². In spite of the high resolution, the over-all length of the gun measured from the target is only 9 inches.     

高斯电子束曝光系统

电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段,在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色。虽然现在最先进的电子束聚焦技术可以得到几个纳米的电子束斑,但是由于邻近效应问题,依然很难使用电子束光刻技术得到接近其理论极限的纳米尺度图形,对电子束曝光系统的基本原理及其邻近效应校正技术进行了研究,并得到一些比较理想的曝光结果。     

Amplitude-division three-electron-wave interference for observing pure phase objects having low spatial frequency

A new interferometry is presented for direct visualization of pure phase objects having low spatial frequency, such as electromagnetic microfields. A thin crystal of silicon prepared using argon ion milling is installed at the standard specimen position. This silicon crystal works as an electron beam splitter and forms diffraction spots in the back focal plane. Using the objective aperture, [000], [111] and [111] spots are selected as coherent electron sources to illuminate the specimen located at the area-selecting aperture position. The lattice image of silicon is formed below the area-selecting aperture position by decreasing the electric current of the objective lens. Three defocused images of the specimen are observed in the fluorescent screen by overexciting the first intermediate lens. We have successfully visualized equipotential lines around a latex particle charged by electron beam irradiation. The computer-simulated image was consistent with the experimental image.     

非相干叠加激光发射系统光学设计

介绍了一种适用于三束激光非相干叠加聚焦的新型激光发射光学系统,工作波长1 080 nm,全视场角0.6。系统为离轴两镜反射结构,对三束紧密排列的激光光束进行扩束聚焦,系统主镜为口径303 mm的椭球面反射镜,系统像质接近衍射极限,并且可以通过控制次镜轴向位置调焦适应不同目标距离。计算了叠加后的激光光斑的功率密度分布和环围功率曲线,设计在目标距离1 000 m时叠加光斑半径9 mm内的环围功率大于95%,此激光发射系统结构简单,长径比小,聚焦质量满足使用需求,激光光斑能量得到有效叠加。     

海上大气激光传输特性仿真研究

大气光学效应是影响激光器作用效能的重要因素之一。基于多层相位屏法,针对海上大气环境下激光水平传输做了大量数值仿真,通过在湍流相位屏上叠加热晕以及衰减引起的相位变化,综合考虑三者对激光传输特性的影响;分析了不同激光初始功率、不同折射率结构常数、不同能见度以及有无热晕情况下接收面处激光光斑半径,质心漂移均方根和环围功率比的变化规律。仿真结果表明:激光初始功率越强,热晕效应越明显,光斑畸变越严重,光束质量变差;折射率结构常数越大,湍流效应越强,光斑扩展与光束漂移现象越明显,平均功率密度下降,环围功率比增加;能见度越小,激光能量衰减越严重,环围功率比越大;热晕效应会加大光斑扩展程度,增加光束漂移量和环围功率比。研究结果可为海上大气环境对激光器作用效能评估提供一定的理论依据。     

一维阵列电子注平面聚焦系统磁场分布特性

针对平面集成行波管对一维阵列电子注聚焦的应用需求,设计了4通道电子注平面磁聚焦系统。将各通道磁场轴向和横向分量沿轴分布特征计算结果与测试结果进行对比,确认了Opera软件计算磁场分布特征的准确性。为与轴对称周期永磁(PPM)聚焦系统电子注通道内磁场分布特性进行对比,建立了轴对称PPM聚焦系统模型,测试结果与计算结果一致性较好。通过平面聚焦系统与轴对称PPM聚焦系统电子注通道内的磁场纵向和横向分布特性对比表明,两种聚焦系统电子注通道内纵向和横向磁场具有相同的分布特征,在离轴相同位置的圆周上横向磁场分量与轴向分量的比值均为B_x/B_z≈0.11,该平面聚焦系统可实现一维阵列圆形电子注的良好聚焦。     

大屏幕彩色显像管电子枪技术

对近年来大屏幕彩色显像管员子枪专有技术进行了讨论,系统分析了电子束形成区、主透镜、会聚透镜系统及动态聚焦方式等。通过计算机模拟、实际效果的比较等手段对各种技术特征进行了全面的总结、评价。     

新型带状注毫米波器件的研究进展

近年来国际上关于毫米波带状电子注器件的研究工作表明这类器件潜在的巨大技术优势与应用潜力,同时也面临诸多技术难点。本文就毫米波带状器件的技术优势,国内外发展现状与趋势,以及面临的技术问题进行了深入分析。重点给出了我们正在开展的W波段带状注电子光学系统方面的工作,目前已经研制出了采用Wiggler聚焦的带状注束管,带状注电子枪压缩成形后的椭圆截面束流宽高比为25∶1。初步测试表明,带状注束管工作电压60 kV,工作电流2.58 A,传输距离50mm时,直流通过率达到了55%左右。目前,有关毫米波带状电子注聚焦与传输的性能优化与进一步的测试工作正在进行中。     

Astigmatic electron gun for the beam-indexing color television display

Though the beam-indexing color television display has some obvious advantages when compared with other display systems, the electron-optical demands are very high. First, these demands and the imaging system to be used are discussed. It turns out that the beam must be astigmatic to obtain optimum performance. The beam shape is prescribed by the deflection-coil design. This beam shape, giving rise to a vertically elongated spot of sufficiently small dimensions, is obtained by using an astigmatic gun of special design in combination with a simple rotation-symmetrical focusing lens. After a general discussion of the focusing properties of this combination, the intensity distributions along both the minor and the major axis of the spot on the screen are calculated and compared with experiments. The gamma of the beam current characteristic is measured as well as calculated. Its dependence on the beam current is small up to beam currents of about 3 mA. Moreover, the cathode loading is calculated as a function of the beam current. Without special means of dynamic correction, satisfactory color reproduction in normal picture material is obtained up to peak currents of 1.5 mA in 110°-25 in tubes. Higher beam currents would be attainable in the absence of a residual deflection error which causes a tilt of the spot near the corners of the screen. The structure of the picture is quite acceptable at a triplet pitch of 1.2 mm without using a lenticular screen.