Si3N4／纳米SiC复相陶瓷显微结构的研究

本研究通过采用纳米SiC粉体及有机前驱体两种途径,制备了Si_3N_4/纳米SiC粒子(Si_3N_4/纳米SiCp)复相陶瓷,研究了这些材料的显微结构特点,讨论了材料强化的机制与显微结构的关系。     

玻璃表面的透明半导体薄膜

对玻璃表面透明半导体薄膜的组成、纳米结构、性质和制造方法进行了综述,并探讨了研究和应用的趋势。     

连续热镀锌表面的钛盐钝化膜研究

研究了一种适用于连续热镀锌钢板表面处理的钛盐钝化膜.通过正交试验和单因素试验,确定了钛盐钝化工艺的最佳条件为:Ti(SO4)2 8 g/L、H2O2 80 mL/L、HNO3 6 mL/L、H3PO46 mL/L,钝化温度30℃,钝化时间1Os.扫描电镜和能谱分析发现,由最佳工艺得到的钝化膜均匀致密,由O、P、Ti和Z...     

硝酸镧对锌铝镁合金表面钝化膜耐蚀性的影响

为解决锌铝镁钢板的耐蚀性问题,以硝酸镧作为稀土添加剂在其表面制备丙烯酸树脂-硅烷-稀土钝化膜层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射光谱分析、电化学工作站、中性盐雾试验等方法,研究了不同硝酸镧添加量对钝化膜结构及耐蚀性的影响。结果表明,钝化膜以堆积方式沉积到基材表面,硝酸镧添加量为0.5%时,耐盐雾试验时间可达到72 h,腐蚀电流密度降低至1.11×10^-6A·cm^-2,相较于基体降低了两个数量级,耐黑变性良好。     

镀锌钝化膜耐蚀性能的研究

简单介绍了新开发的ＣＨ钝化工艺及其特点,用恒电量技术对比测试了ＣＨ钝化工艺形成的经膜和常规钝和化膜,ＣＨ钝化膜的Ｒｐ、Ｒｆ值大,Ｃｄ、Ｃｆ值小;再应用循环伏安法在－１．０２－－１．６８Ｖ范围进行测试,发现ＣＨ钝化膜的循环伏安图经１０次循环后仍与第一次的一样。两种测试说明了ＣＨ钝化膜常规钝化的耐蚀性高。两种电化学测试的结果与其它方法的结果的一致。     

镀锌层低铬军绿钝化膜性能的研究

经ＳＥＭ、钝化膜层色泽和湿热环境的耐蚀实验证明：镀锌层低铬军绿钝化膜比中铬钝化膜的胞状结构细小致密耐蚀性较高,并且低铬钝化的成膜过程不呈线性关系而是分为两个不同的阶段。     

改性低铬钝化膜耐蚀性的研究

由于常规低铬钝化膜的耐蚀性不能达到中性盐雾试验的标准。采用在低铬钝化液中添加钛（ＩＶ）对低铬纯化膜进行改性。利用ＳＥＭ、ＸＰＳ等方法研究了所得钝化膜的形工通过极化电阻的测量和中性盐雾试验研究了钝化膜的耐蚀性。结果发现,钛（ＩＶ）的加入能明显提高钝化膜的耐蚀性,这是由于钝化膜中形成和硫酸氧钛,它们掺杂在钝化膜及其腐蚀产物中,有效抑制了锌镀层的腐蚀。     

镀锌层三价铬黑色钝化膜耐蚀性的研究

采用单因素实验方法研究操作条件对三价铬黑色钝化膜耐蚀性的影响。通过测试,钝化液的pH、温度、时间和杂质Zn2+对三价铬黑色钝化膜耐蚀性影响很大,添加剂A剂、B剂和杂质Fe2+对三价铬黑色钝化膜耐蚀性影响较小。当操作条件ρ(A剂)为60～70 mL/L、ρ(B剂)为70～80mL/L、pH为2.0～2.2、θ为23～26℃、t为60 s时,钝化膜外观均匀黑亮,耐蚀性能最佳,中性盐雾试验生白锈t大于200 h。实际生产中,应控制操作条件在最佳范围之内,才能保证钝化膜的质量。     

不同体系中镀锡板钝化膜的制备与研究

分别采用无机体系、有机体系、无机-有机复合体系对镀锡板进行钝化处理。采用硫酸铜点滴试验、电化学测试等方法检验钝化膜的性能。结果表明:钼酸盐-植酸复合钝化的效果接近铬酸盐钝化的,所得膜层平整,均匀地覆盖了镀锡板表面,起到了保护镀锡板的作用。     

CVD金刚石膜表面晶粒度的研究

采用热丝CVD法连续沉积金刚石,其晶粒尺寸与沉积时间至非线性关系,随着时间的延长,晶粒生长速率降低;工艺条件对金刚石膜表面晶粒度的影响主要与产生二次形核的时机有关。高的衬底温度和工作气压有利于得到粗大的晶粒尺寸,提高碳源浓度可使未成膜前的晶粒尺寸增大,而对成膜后的晶粒尺寸只有在浓度足够大时才产生显著影响。     

Ti／TiN多层膜显微结构的研究

用透射电镜研究了Ti/TiN多层膜的显微形貌,并用X射线衍射与透射电镜的微束电子衍射相结合的方法获得多层膜的晶体结构、相组成及其空间分布的信息。证明了Ti/TiN多层膜有明显的分层结构,在每对相邻的Ti层和TiN层之间,均存在Ti_2N界面过渡层,在膜基界面处存在FeTi过渡层。多层膜的晶粒呈纤维状,其尺寸随单层厚度的降低而减小,此即多层膜的晶粒细化效应,它伴随着膜层硬度的增加。     

新型高效节能磷化钝化液的研制

介绍了一种新型高效节能磷化钝化液的制备及使用方法。并将此产品与传统的同类产品的技术经济指标进行了对比,它与传统的磷化钝化液相比,具有快速、高效、节能、成本低和污染小等特点     

热丝辅助等离子体化学气相法生长c－BN薄膜

用热丝辅助射频等离子体化学气相沉积法（ＰＣＶＤ）合成：ｃ－ＢＮ薄膜获得成功。实验结果表明，灯丝温度、反应气压、衬底温度、灯丝与衬底距离对薄膜质量有重要影响。     

用有机前驱体制备Si3N4／纳米SiC复相陶瓷的研究

本研究成功地用有机前驱体引入纳米ＳｉＣ粒子制备出Ｓｉ３Ｎ４／纳米ＳｉＣｐ复相陶瓷。研究了制备工艺和有机前驱体加入量对材料性能及显著结构的影响，并对材料显微结构特点与强韧化机制进行了分析讨论。     

活性炭纤维的表面特性及其对有机蒸气的吸附研究

利用脉冲经化学吸附仪和Ｘ－ 光电子能谱仪分析了两种ＡＣＦ的表面物理性质和化学性质。并且用称量法研究了ＡＣＦ对不同浓度的四氯化碳（ＣＣｌ４） 、二硫化碳（ＣＳ２） 、丙酮（Ｃ３Ｈ６Ｏ） 和苯（Ｃ６Ｈ６） 等四种有机蒸气的吸附行为。研究证实,ＡＣＦ的孔结构和表面化学性质,以及有机物的性质和浓度都对吸附过程产生影响。     

低温APCVD法制备氮化硅薄膜

本实验用常压化学气相沉积法（ＡＰＣＶＤ）在平玻璃基板上沉积了氮化硅薄膜,研究了基板温度、反应气体比例,热处理等对氮化硅薄膜制备的影响,发现在７００℃以下,ＮＨ３／ＳｉＨ４流量比例为１５／１时制得较纯的氮化硅薄膜,比常规ＡＰＣＶＤ法制备温度低大约１５０℃。     

基于微滤工艺处理微污染地表水的一体化设备开发研究

本文报导了一体化膜混凝反应器(MCR)，该设备采用连续进水、间歇出水的运行方式，对Ⅱ类和V类及劣V类地表水进行处理。结果表明：MCR对浊度、有机物和细菌有良好的去除效果；采用合适的投药量，出水水质可以满足生活饮用水卫生规范(2001)的要求。试验从2002年7月运行到12月，滤饼层和膜污染阻力之和仅占膜总阻力的25．4％；对膜进行清洗，发现膜比通量能恢复到新膜的99．7％。     

采用有机前驱体制备Si3N4／SiC纳米复相陶瓷

本研究采用有机前驱体为主要原料，通过热解及烧结制备了两类Ｓｉ３Ｎ４／ＳｉＣ纳米复相陶瓷，研究了这些材料的微结构特点，讨论了材料强化的机制及力学性能与显微结构的关系。