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赵近 《电子产品可靠性与环境试验》1995,(1):14-20,6
本文简要地回顾了CMOS电路芯片上ESD保护电路设计技术发展概况,给出了在中小规模、大规模及超大规模各阶段的CMOS电路芯片上ESD保护电路的主流技术,双寄生的SCR结构VLSI CMOS芯片上ESD保护电路的最新设计技术,就其ESD保护原理、设计技术及取得的成果做了较详细分析和探讨。对于研制高密度、高速度的VLSI CMOS电路。开展高ESD失效阈值电压,小几何尺寸及低RC延迟时间常数保护电路的 相似文献
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1SPVP/PVP技术简介ATM网络可以为用户提供永久虚电路(PVC/PVP)、软永久虚电路(SPVC/PVC)和交换虚电路(SVC/SVP)用于数据高速传输。目前在基于ATM信元的ADSL接入系统中 ,ADSLModem至DSLAM主要采用PVC(个别厂家虽然支持SVC ,但由于技术、成本等原因应用实例较少)。而从DSLAM至宽带接入服务器(包括中间经过一个或者多个ATM交换机 ) ,可一个用户独占一条PVC ,也可多个用户共享一条PVP。前者虽性能较佳但配置复杂 ,因此 ,在ADSL业务开放中推荐使用PV… 相似文献
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本文提出了16kbps连续可变斜率增量调制(SVSD)与64kbpsA律PCM编码数字转换臬法,在无传输误码情况下,采用该转换算法,(1)从CVSD转换到PCM时,同直接CVSD编码相比,分段信噪比(SNRSEG)恶化小于0.1dB,信噪比(SNR)恶化小于0.01dB,多次转换(转换次数≥2)时SNR和SNRSEG保持不变,即无误差积累;(2)从PCM转换到CVSD时,同直接CVSD编码相比,S 相似文献
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本文主要论述了英国EEV,美国Varian‘sEimacDivision和WestinghouseElectricCorp。以及法国Thomson四家公司在NAB97展示的数字HDTV发射管最新呷极管、MSDC速调管,SiC固态器件,IOT和双端四极管Diacrode的主要技术性能,同时也介绍了上述五种HDTV发射管在数字HDTV发射机中的应用实便。 相似文献
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VCD自1994年诞生以来,经历了VCD1.0、VCD1.1和VCD2.0等版本的演化,版本的升级仅仅只是增加了交互性而已,其本质的内容并未改变。VCD采用MPEG1的压缩技术,视频为352×288的图象格式,其效果相当于VHS录象带的水平。音频采用双声道立体声44.1 KHz, 16bit采样,相应于普通CD机的效果。VCD2.0在原有VCD1.1的基础上增加了菜单的交互性,使用户在人机界面上得到一定的改善,但音、视频的效果并未产生变化。 CVD技术的诞生有着一定的历史背景。 1997年,当 DV… 相似文献
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16kbpsCVSD与64kbpsPCM编码数字转换算法 总被引:1,自引:0,他引:1
本文提出了16kbps连续可变斜率增量调制(SVSD)与64kbpsA律PCM编码数字转换臬法,在无传输误码情况下,采用该转换算法,(1)从CVSD转换到PCM时,同直接CVSD编码相比,分段信噪比(SNRSEG)恶化小于0.1dB,信噪比(SNR)恶化小于0.01dB,多次转换(转换次数≥2)时SNR和SNRSEG保持不变,即无误差积累;(2)从PCM转换到CVSD时,同直接CVSD编码相比,S 相似文献
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CD激光唱机升级为VCD影碟机唐广徽,王代强,万萌VCD是基于最新MPEG压缩技术发展起来的一种消费类电子产品,通过数据压缩技术,可在普通12cm碟片上同时记录74分钟音、视频信号,其图像质量主观感觉与LD机相差无几,达到广播级VHS方式的水平。由于... 相似文献
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本文主要论述了英国EEV,美国VariansEimacDivision和WestinghouseElec-tricCorp.以及法国Thomson四家公司在NAB97展示的数字HDTV发射管最新产品:四极管,MSR:速调管,SiC固态器件,IDT和双端四极管Diacrode的主要技术性能,同时也介绍了上述五种HDTV发射管在数字HDTV发射机中的应用实例。 相似文献
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简要叙述了HFC的潜在优势和关键技术,SDV系统的框图及原理,SDV和HFC的比较与发展前景。 相似文献
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长期的研究表明,低温外延技术带来许多独特的好处,该技术能克服诸如采用常规CVD作硅外延或离子注入所产生的随意的、不连续的掺杂剖面等缺陷。而低温外延技术的实现得益于UHV/CVD技术的应用,工业用的UHV/CVD系统已经成功地应用于SiGe器件的制备中,并取得了令人满意的结果。 相似文献
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移动通信技术的走势及对未来市场的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
《通讯世界》1998,(2)
移动通信技术的走势及对未来市场的影响一、CDMA将成为主流自二战以来,CDMA技术就应用于军方的保密通信系统。但直到近几年来,由于DSP(数字信号处理)和VLSI(超大规模集成电路)技术的飞速发展,才使其商用化成为可能。由于CDMA技术的开发厂家均在... 相似文献
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本文介绍一种智能功率集成电路(高边CMOS模拟开关)的隔离技术。对除开关管VDMOS管以外的器件采用自隔离技术,VDMOS管不是自隔离的。衬底电势的变化易引起电路闭锁,采用浮阱技术来防止电路闭锁。 相似文献
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CATV有能力提供电话和数据服务,有线电视分配与电视ISDN接入集合到户是实现宽带综合网络的便利途径,本文考虑了CATV/ISDN结合的方法,ISDN主速率时分多址接入方式以及用户接口的规格。 相似文献
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本文主要介绍1um双阱双层金属布线硅栅CMOS专用集成电路制造中采用先进的反应离子刻蚀技术,对多种材料如LPCVD、Si3N4、PECVESi3N4、热SiO2、PEVEDSiO2、PSG、BPSG、多晶硅和Al-Si(1.0%)-Cu(0.5%)合金等进行高选择比的,各向异性刻蚀的工艺条件及其结果。获得上述各种材料刻蚀后临界尺寸(CD)总损失<0.08um的优良结果。此外还分析讨论了被选择的刻蚀 相似文献