非对称三层钇铁石榴石薄膜光波导的模传输特性

通过液相外延法（ＬＰＥ），首先在钆镓石榴石（ＧＧＧ）基片（ＩＩＩ）晶面上生长ＣｏＹＩＧ薄膜，然后连续生长双层（ＢｉＡｌ）ＹＩＧ薄膜，制备出非对称三层钆铁石榴石薄膜波导，推导出这种结构的波导的波导层、缓冲层和吸收层模式的本征方程，以及微分法计算模吸收系数的公式。用这些方程计算了波导层模式的截止厚度和基模的有效折射率，以及波导层、缓冲层和吸收层模式的模吸收系数。     

Ar离子注入YIG单晶薄膜的磁光特性

利用离子注入技术将Ａｒ离子注入到ＹＩＧ单晶薄膜中，剂量为（１０＾１２￣１０＾１４）ｉｏｎｓ／ｃｍ＾２，能量为６００ｋｅＶ。分别测量注入前后及退火后的样品的光吸收谱、法拉弟旋转和折射率，发现对样品实施退火，可有效地降低光损耗，增加法拉弟旋转，调节薄膜折射率。     

测量NLO聚合物薄膜光波导传输损耗的方法

本文综述了测量非线性光学（NLO）聚合物薄膜材料光传输损耗的4种常用的方法及原理,并分别给出了典型的实验装置结构图,最后对这些方法的特点进行了比较。     

多量子阱光波导传输特性分析

本文给出了普适于任意阱数的方波折射率分布的多量子阶光波导的模场分布函数和特征方程，并以ＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ多量子阱光波导为例分析讨论了波导结构参量及折射率分布对其传输特性的影响．     

低损耗波纹波导的传输特性

为了降低太赫兹波传输的损耗,研究了波纹波导中传输太赫兹波时的损耗特性,得到波纹波导的衰减常数的理论计算公式,在数值计算基础上设计了220 GHz低损耗波纹波导,并通过电磁仿真对数值计算结果进行验证,HE11模式实现了仿真与理论结果的相互吻合。     

交叉多模光波导传输特性分析

针对交叉多模光波导结构,基于光束传输法(Beam Propagation Method,BPM)对其传输特性进行了分析,通过对方形多模光波导模式Ep,qx的分析发现,对于相同的模式序数p,随着传输模式阶数q的增加,交叉光波导的传输特性基本保持不变;随着模式序数p的增加,小的交叉角度更易引起交叉光波导的相互干扰。     

多层克尔型非线性平板波导中横电模的精确解

本文给出了多层克尔型非线性介质平板光波导中，ＴＥ波的统一场分布，色散关系及光传传输功率的精确表达式。     

改进的非线性薄膜波导导模的无量纲表示

本文对Fontaine所采用的非线性薄膜波导导模的无量纲表示法作了改进,给出了无量纲参数表示的芯区为克尔型非线性介质,衬底和包层为线性介质的LNL型非线性平板光波导的有关计算公式,色散曲线族及场分布和功率分布随模折射率变化关系的曲线族,本法易推广应用于其它非线性平板光波导NLL、NNL及NNN等的处理过程。     

光波导用TiO_2/SiO_2复合薄膜的制备及其性能研究

用离子自组装成膜技术制备了用作光波导器件的TiO2/SiO2复合薄膜,介绍了薄膜光学常数的测定方法,并研究了光波导的波导特性.结果表明随着TiO2含量的增大。光波导的折射率增加;但同时光波导损耗也将发生变化,一般TiO2占10％时,薄膜的波导损耗较低.在更高的含量范围内,必须使TiO2分散.     

微显示技术与光学薄膜

讨论了光学薄膜在LCD、LCoS及DLP三种微显示光引擎中的应用。同时也简述了相应的光学薄膜技术的进展。     

有机聚合物薄膜光波导传输损耗的测量方法

文章综述了测量非线性光学(NLO)聚合物薄膜材料光波导传输损耗的三种新方法及原理,分别给出了典型的实验装置结构图,并对它们的特点进行了比较。     

Loss Measurements on Polymer Thin Film Optical Waveguides

Asimple setup for the measurement of transmission loss in polymer thin film optical waveguides is described.A new electro-optic polymer film has been prepared.The transmission loss of the film is measured before and after corona poling.And the loss is determined to be 1.84 dB/cm and 2.14dB/cm, respectively.     

离子自组装成膜技术制备TiO2／SiO2薄膜光波导

采用离子自组装(ISA)成膜技术制备了TiO2／SiO2复合薄膜光波导，研究了光波导的波导特性。结果表明，随着TiO2含量的增大，光波导的折射率增加，但同时光波导传输损耗增大。一般TiO2占10wt％，此时，光波导中的光损耗较低。在更高的含量范围内，必须使TiO2分散。     

高斯光束在介质波导中的传播

本文考虑轴对称高斯型激光束在均匀介质及类透镜介质中的传播问题。本文采用作者以前所导出的正确方程,计及光束的衍射效应,求出了方程的解析解。在此基础上,讨论了激光束的宽度和波阵面问题。在均匀介质中,激光束将单调变粗;在类透镜介质中,激光束的宽度是z正弦函数,粗细交替出现。     

平面阵列光学波导模式特性及其光强传输分析

分析了平面阵列波导的模式特性.其导波模式为周期性调幅的平面波(Bloch波).阵列波导输入/输出波导结构是影响其传输特性的重要因素.采用扇形过渡波导结构以提高阵列波导输入/输出端口芯区宽度与波导周期宽度的比值,可降低阵列波导光强的传递损耗.并可改善布里渊区入射/出射波的损耗非均匀性.采用低折射率差的波导芯区/包层结构可降低波导对光波的限制,提高光强的传输效率     

非理想参数下193nm光学薄膜的设计

193nm光学薄膜是100nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响。结果表明，要镀制出反射率大于98．5％的高反膜．必须将高折射率材料的消光系数k控制在0．0034以内，同时膜层表面的粗糙度σ控制在1nm以内。膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响，要减少膜层水吸收的影响．就必须提高薄膜的致密度．采用离子成膜技术．或者改变膜层的使用环境。在考虑相关因素的前提下，设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜．并分析了其实际性能与设计结果存在差别的原因。     

YIG石榴石磁光薄膜材料的最新进展

介绍了YIG磁光薄膜材料的研究发展趋势以及薄膜材料的制备方法,指出薄膜制备方法对薄膜的性能有很大的影响。且Ce∶YIG磁光薄膜的研究代表了此类薄膜的研究方向。