离子渗氮层γ′-Fe_4N相内位错环和层错类型的鉴别

用透射电镜衍衬方法测定了稀土催渗离子渗氮层γ′ Fe4 N相内位错环及层错的类型。结果表明 ,位错环为b =13[111]空位型 ,其形成原因是 :在离子渗氮过程中 ,高能离子的持续轰击导致大量空位点缺陷的产生 ,部分空位聚集成片崩塌而形成位错环。层错类型为抽出型 ,两侧的不全位错是 16 〈112〉型Shockley不全位错     

离子渗氮层γ‘—Fe4N相内位错环和层错类型的鉴别

用透射电镜衍衬方法测定了稀土催渗离子渗氮层γ’－Ｆｅ４Ｎ相内位错环及层错的类型。结果表明，位错环为ｂ＝１／３「１１１」空位型，其形成原因是：在离子渗氮过程中，设有离子的持续轰击导致大量空位点缺陷的产生，部分空位聚集成片崩塌而形成位错环。层错类型为抽出型，两侧的不全位错是１／６〈１１２〉型Ｓｈｏｃｋｌｅｙ不完全位错。     

稀土催渗离子渗氮层中晶体缺陷的研究

用透射电镜研究了稀土催渗离子渗氮层中的晶体缺陷。结果表明,稀土催渗使γ'-Fe_4N晶粒显著细化,晶界面缺陷的增加有利于氮原子的扩散。在γ'-Fe_4N晶粒内有许多尺寸较小的空位型Frank位错环及其蜷线位错和堆垛层错等晶体缺陷;扩散层铁素体中存在高密度位错及位错环。大量空位的存在,以及位错吸引空位运动,是加速渗氮的主要原因。     

稀土催渗离了渗氮层中晶体缺陷的研究

用透射电镜研究了稀土催渗渗离子渗氮层中的晶体缺陷。结果表明,稀土催渗使γ′－Ｆｅ４Ｎ晶粒显著细化,晶界面缺陷的增加有利于氮原子的扩散。在γ′－Ｆｅ４Ｎ晶粒内有许多尺寸较小的空位型Ｆｒａｎｋ位错环及其蜷线位错和堆垛层错等晶体缺陷;扩散层铁素体中存在的高密度位错及位错环。大量空位的存在,以及位错吸引空位运动,是加速渗氮的主要原因。     

离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构

采用高分辨电子显微镜研究了离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构结果表明,高速离子的持续轰击将导致大量空位点缺陷的产生,空位的聚合形成空位盘,空位盘的崩塌形成扩展位错,层错四面体等晶体缺陷ε(Fe_(2-3)N)和γ'(Fe_4N)相界面平直、共格,且具有:(111)∥(0001)_ε,[110]γ'∥[1120]_ε的取向关系     

离子渗氮层中γ‘—Fe4N相内位错环和层错类型的研究

用透射电镜衍衬方法测定了稀土催渗离子渗氮层中γ’Ｆｅ４Ｎ相内位错环及层错的类型。     

稀土催渗离子渗氮机理的研究

用透射电镜研究了稀土催渗离子渗氮层的微观结构。结果表明,稀土催渗可使γ相晶粒细化,晶界面缺陷增加;稀土的加入,增加了离子轰击效应,可使γ相内空位、位错环和堆垛层错等晶体缺陷的数量增加,可在表面０．０８ｍｍ厚度的扩散层铁素体内产生高密度位错。大量晶体缺陷的产生是稀土加速离子渗氮过程中氮扩散的主要原因。     

离子渗氮层的组织形貌和γ′－ε界面结构

使用电子显微镜研究了５５０℃，６ｈ离子渗氮的３５ＣｒＭｏ钢渗层的组织形貌和界面结构．结果表明，渗层外层为分层相间分布的ε＋γ′条带状组织。在化合物内层的γ′相中有空位盘、位错、层错四面体和孪晶．ε相和γ′相之间的界面光滑且平直．除了观察到一个原子层结构台阶，也发现多个原子层高度的结构台阶．大量晶体缺陷的存在是加速离子渗氮过程的主要原因。     

离子渗氮层的组织形貌和γ′－ε界面结构SCIEI

使用电子显微镜研究了５５０℃，６ｈ离子渗氮的３５ＣｒＭｏ钢渗层的组织形貌和界面结构．结果表明，渗层外层为分层相间分布的ε＋γ′条带状组织。在化合物内层的γ′相中有空位盘、位错、层错四面体和孪晶．ε相和γ′相之间的界面光滑且平直．除了观察到一个原子层结构台阶，也发现多个原子层高度的结构台阶．大量晶体缺陷的存在是加速离子渗氮过程的主要原因。     

Ti-47Al-2Mn-2Nb(at%)+0.8TiB_2(vol%)合金中的γ相层错分析

利用透射电镜研究了蠕变变形(650~750℃,250~350 MPa)Ti-47 Al-2Nb-2Mn(at%)+0.8TiB_2(vol%)合金的微观组织及变形机制。结果表明,该合金的微观组织由等轴状γ相和(γ+α_2)区域组成;在层片状γ中,观察到1/2110]普通位错外,还发现了层错。与化学计量比TiAl化合物中的结果不同,该富Ti的TiAl合金中所观察到的{111}层错是由1/6[112]和1/6[121]位错在{111}面的运动产生的。基于对该合金中层错形成机制的认识,本文探讨了合金元素Mn和Nb等对TiAl基合金变形机制的影响。