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《微纳电子技术》1997,(3)
表面微机械加工是一种使机械部件微型化的工艺。传感器和致动器都是利用改进的集成电路制造技术来完成的。第一个表面微机械器件是谐振栅晶体管,大约在30年以前就发表了。该晶体管的栅极采用了自由活动的金属悬梁,多晶硅表面微机械加工在十几年前就有报道,此后出现了许多传感器件的原型,并在最近制造出了第一只商品化的传感器。致动器,这种能向周围环境输出功率的表面微机械加工部件,已变得更加令人难以捉摸。在宏观事物中,一些无关紧要的现象在亚微米尺寸下变成了决定性的因素,如允许蚊子在水面上散步的表面张力,就是一个典型的例子。这些现象影响了正常的摩擦和损耗,尽管这些摩擦和损耗在宏观机械中是可以控制的,但当考虑微型机械部件时,就必须重新分析了,尽管存在这些难题,我们最终还是实现了基于表面微机械技术的微致动 相似文献
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基于微机械的多孔硅牺牲层技术 总被引:3,自引:0,他引:3
多孔硅作为一种牺牲层材料 ,在表面硅微机械加工技术中有着重要的应用。文中综合讨论了三种不同的多孔硅牺牲层技术 ,并用后两种“在低掺杂衬底上的多孔硅牺牲层技术”,制作了良好的悬空微薄膜结构 ,同时对多孔硅表面的薄膜淀积 ,和制备过程中的掩膜材料等进行了分析 ,为利用多孔硅工艺制作各种 MEMS器件奠定了基础。 相似文献
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新型微机械加工为微器件开辟新应用领域 总被引:2,自引:0,他引:2
Chris Bang 《电子产品世界》2004,(4):28-29
硅微机械加工被认为是能创造种类繁多的机电元件的一种加工手段.虽然硅基的微机械学在压力和加速度传感器的制造方面取得了巨大的成功,但很多其它类型的器件在实验室外取得成功却很有限.现在人们开发出了一种新型的微机械加工工艺,它基于金属材料而非硅材料,可望制成以前无法制造的新型微器件.EFAB是一种通过金属电镀来制造微器件结构的工艺,它可以实现传统的微机械加工无法制作的复杂的形状和结构. 相似文献
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回顾了微机械加工技术的最新进展,介绍了自由空间微型光学试验平台和光预对准的概念以及微机械加工的光学器件实例。 相似文献
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回顾了微机械加工技术的最新进展, 介绍了自由空间微型光学试验平台和光预对准的概念以及微机械加工的光学器件实例。 相似文献
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微机械加工技术与微传感器 总被引:1,自引:0,他引:1
传感技术的一个重要发展方向是传感器的微型化,微机械加工技术同昌硅微传感器的基础工艺技术,也是制作微执行器和微电子机械系统的基础工艺技术。本介绍微机械加工技术的概况以及采用微机械加工技术研制的几种微传感器。 相似文献
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微系统技术基于微机械加工技术以及集成电路工艺方法,具有微型化、集成化、智能化、成本低、性能高、可大批量生产等优点。概述了微系统的组成和工作原理,介绍了国内外微系统技术的历史、发展现状和产业分布格局,着重阐述了几种重要的微结构加工技术,分析了湿法刻蚀、干法深刻蚀、表面加工技术、键合、LIGA技术、纳米压印技术以及高深宽比制造技术的原理、各自特点以及制造工艺手段,并结合目前微型器件的产品应用分析了各种技术的优势,对于微系统技术的研究具有一定价值。 相似文献
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微机械传感器除运用在微电子制造技术外,大量应用化学腐蚀,特种高分子落膜材料,电镀和电化学工艺等化学领域的技术,形成了很多独特的微机械加工技术,这些技术的运用解决了很多关键性技术问题,极大地推进了微机械传器技术的发展,本文从体微机械加工,表面微机械加工和LIGA技术三方面论述化学在近来新型传感器发展中的技术突破和成果。 相似文献
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微机电系统(MEMS)是在微电子技术的基础上兴起的一个多学科交叉的前沿领域,集约了当今科学技术发展的许多尖端成果,在汽车电子、航空航天、信息通讯、生物医学、自动控制、国防军工等领域应用前景广阔.该文介绍了微机电系统发展的背景与基础理论研究,综述了微机电系统所涉及的器件设计、制作材料、3大加工工艺(硅微机械加工、精密微机械加工与光刻、电铸和注塑(LIGA)技术)、微封装与测试等关键技术,总结了微机电系统在微纳传感器、微执行器、微机器人、微飞行器、微动力能源系统、微型生物芯片等方面的典型应用,最后指明了MEMS技术的发展趋势,有望在近几十年将大量先进的MEMS器件从实验室推向实用化和产业化. 相似文献
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通过实验证明了汽相生长的硅外延层中,经Sirtl浸蚀剂浸蚀后,所呈现出的雾状微缺陷,是由铜、铁、镍、钠、磨料等杂质沾污所致;验明了“渍圈”区是与重沾污区相对应的,在轻沾污区内,被显示出的微缺陷呈浅三角坑,而在重沾污区中,除此类浅坑外还常伴有突起的小丘,亮区内无明显可见的微缺陷结构。 在汽相生长的硅外延层中,被Sirtl浸蚀剂浸蚀后,易出现雾状表面,这种表面状态多是由浅三角坑组成的,对此国内外均已报导过。这些微缺陷,常是造成器件低击穿、漏电大和成品率低的重要原因。有的作者只在(100)面上发现了这类浅坑,并且强调是因装片时不锈钢镊子沾污所致。为提高外延片质量与器件成品率,有必要弄清此类缺陷的成因与外延时可能接触的其它杂质的关系,以便有针对性的将其消除。本文的主要目的,是找出雾状微缺陷的形成与若干杂质沾污情况的对应关系,以及观察不同程度沾污区域的微缺陷形貌,期望以此能做为判别外延层内在质量的有益参考。 相似文献
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1994年7月25日,国际光学工程学会在美国加州圣地亚哥召开了第二次“集成光学和微结构”学术交流会。加里福尼亚大学洛杉矶分校电子工程系的M.C.Wu等人报道了他们首次用表面微机械加工方法制造微光学系统的新颖技术。采用单片集成方式,把自由空间光学元件与微定位器和微执行器件集成在一块硅片上,成功地制造了由菲涅耳透镜、反射镜、分束器、光栅、精密安装机构和旋转台及微定位器集成的光学系统。 相似文献