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在室温下,采用脉冲激光沉积(PLD)技术在7.62cmPt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了钛酸铋(Bi4Ti3O12)薄膜。Bi4Ti3O12薄膜的厚度和组分均匀性采用卢瑟福背散射(RBS)和扩展电阻技术(SRP)来分析、表征;采用X射线衍射(XRD)技术研究了薄膜的退火特性。研究发现单独用常规退火或快速退火热处理的Bi4Ti3O12薄膜中较容易出现Bi2Ti2O7杂相;而采用常规退火和快速退火相结合的方法,较好地解决了杂相出现的问题,得到相结构和结晶性完好的Bi4Ti3O12薄膜。透射电子显微镜实验和扩展电阻实验表明,室温下制备的Bi4Ti3O12薄膜具有良好的表面和界面特性。 相似文献
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Au掺杂TiO2/SiO2薄膜的光学非线性特性研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用溶胶-凝胶方法制备了Au掺杂的TiO2/SiO2复合薄膜(厚度约为1.0μm)。X-ray衍射分析表明,Au的颗粒镶嵌在TiO2/SiO2复合薄膜的玻璃网络中。谢乐公式计算给出Au的颗粒大小约为10nm。采用Z-Scan测量技术得此薄膜的光学非线性折射率为1.09×10-7esu。 相似文献
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利用ArF准分子脉冲激光沉积工艺在Pt/SiO2/Si衬底上制行了Pb(Zr52Ti48)O3(PZT)薄膜。并用X射线衍射分析方法研究了不同后续热处理对薄膜相组成和相结构转变的影响。 相似文献
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提出了不同性能的六种非金属材料如超硬陶瓷(TiC-Al2O3)、超硬薄膜(Al2O3)、铁氧体、玻璃陶瓷的研抛方法,获得了低表面粗糙度、高平面度及高平行度的基片。关键词 相似文献
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低压反应离子镀新工艺及其设备 总被引:1,自引:0,他引:1
唐惠平 《电子工业专用设备》1997,26(2):36-44,54
采用低压反应离子镀沉积技术,制备光学薄膜质量有着显著的改善。我们利用此技术沉积的TiO2、SiO2和Al2O3膜,其折射率分别为255、149(550nm)和167(1100nm),比传统的电子束蒸发好得多。用此方法,在CR39基片每面沉积4层TiO2/SiO2抗反薄膜,剩余反射率≤05%。本文简要介绍其工艺过程和相应的LVRIPD装置 相似文献
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与常用电子陶瓷薄膜技术相比,MOCVD技术具有薄膜化学成分、结晶结构和氧化程度易控制,沉积温度低,沉积速率高,薄膜的致密性、均匀性和台阶覆盖性好,可理想生长多组元和多层结构的功能金属氧化物薄膜,能直接由实验室转入规模生产及与硅的大规模集成工艺兼容等优点。应用自制设备及MOCVD技术,分别在高掺杂硅片和有透明导电膜玻璃的基片上生长了TiO2薄膜。测得的1mmAu圆点/TiO2薄膜/p+-Si衬底样品的I-V和C-V特性,清楚地给出了MIS结构的行为。淀积在透明导电膜玻璃上的TiO2薄膜有电致变色现象。 相似文献
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采用溶胶-凝胶法在Si(111)衬底上制备纳米TiO2薄膜,利用电化学阴极还原法对TiO2纳米薄膜掺杂Nd3+,对其结构及光催化活性进行研究,结果显示,所制备的样品均为多晶结构,随着Nd3+掺杂量的增加颗粒尺寸明显减小,比表面积增大.Nd3+的掺杂导致TiO2光催化剂吸光能力增强,同时吸收限红移,提高了光的利用率,并且当掺杂量为1.2%时,光催化活性最好. 相似文献
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以石英玻璃片为基底,利用自组装技术在TiCl4-HCl体系中生长纳米TiO2,与在Fe(NO3)3-HNO3体系中生长纳米FeOOH制备负载型多层不同层序FeOOH-TiO2纳米复合薄膜光催化材料.高分辨透射电镜(HRTEM)表征结果显示:复合膜由纳米锐钛矿和针铁矿构成.UV-Vis表征结果显示:TiO2与FeOOH间的复合使TiO2吸收带均发生一定程度的红移,其中FeOOH/TiO2/FeOOH/TiO2和FeOOH/TiO2/FeOOH复合薄膜的吸收带分别为490 nm和498 nm;在以罗丹明B溶液为模拟废水的光催化实验中发现:负载FeOOH/TiO2/FeOOH/TiO2和FeOOH/TiO2/FeOOH的两种复合薄膜材料的光催化效果最佳;并且FeOOH膜在复合膜最外层比TiO2膜在最外层时光解效率高.具有一定吸附能力的针铁矿薄膜与TiO2薄膜的复合优化了复合膜内部微孔结构,促进两者间形成了积极地吸附-光催化耦合增强效应. 相似文献
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Laser induced periodic surface structures(LIPSS)represent a kind of top down approach to produce highly reproducible nano/microstructures without going for any sophisticated process of lithography.This method is much simpler and cost effective.In this work,LIPSS on Si surfaces were generated using femtosecond laser pulses of 800 nm wavelength.Photocatalytic substrates were prepared by depositing TiO2 thin films on top of the structured and unstructured Si wafer.The coatings were produced by sputtering from a Ti target in two different types of oxygen atmospheres.In first case,the oxygen pressure within the sputtering chamber was chosen to be high(3×10^–2 mbar)whereas it was one order of magnitude lower in second case(2.1×10^–3 mbar).In photocatalytic dye decomposition study of Methylene blue dye it was found that in the presence of LIPSS the activity can be enhanced by 2.1 and 3.3 times with high pressure and low pressure grown TiO2 thin films,respectively.The increase in photocatalytic activity is attributed to the enlargement of effective surface area.In comparative study,the dye decomposition rates of TiO2 thin films grown on LIPSS are found to be much higher than the value for standard reference thin film material Pilkington Activ^TM. 相似文献
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A simple strategy for synthesizing Ag decorated TiO2/WO3 composite nanoparticles by sol-gel method used as recyclable photocatalyst is introduced. The photocatalytic efficiency to the degradation of methyl blue (MB) by Ag/TiO2/WO3 nanoparticles is studied under ultraviolet-visible (UV-Vis) light irradiation. It shows that the photocatalytic efficiency of Ag/TiO2/WO3 photocatalyst achieves 96% in 20 min, which is 16 times higher than that of pristine TiO2 at the same conditions. The Ag/TiO2/WO3 photocatalyst can still reach the degradation rate of 90% in the fifth degradation experiment, indicating a good stability and photocatalytic activity. 相似文献
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以硅为衬底,采用射频磁控溅射技术制备了TiO2薄膜,利用扫描电子显微镜及拉曼光谱对退火前后的TiO2进行表征与结构分析.结果表明,退火后的TiO2具有良好的结晶特性,且呈锐钛矿结构.在此薄膜工艺条件下,以TiO2为半导体层在玻璃基底上制备了Al/TiO2/Pt肖特基二极管,并在153~433 K温度范围内对其进行了I-V测试,得到以下结果:在整个温度范围内,A1/TiO2/Pt肖特基二极管均表现出良好的整流特性;其理想因子随温度升高而降低,势垒高度随温度升高而升高;在433 K下,理想因子为1.31,势垒高度为0.73,表明此肖特基二极管已接近理想的肖特基二极管. 相似文献
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用sol-gel法在不锈钢基片上制备TiO2薄膜 总被引:7,自引:0,他引:7
介绍利用钛酸丁酯为前驱液, 用sol-gel法在不锈钢基片上制备TiO2 薄膜。研究分析了冰醋酸、乙酰丙酮等添加物对溶胶性能的影响,对制备在不锈钢基片上的TiO2 薄膜进行XRD分析,并检测薄膜的阻-温特性、V-I特性、绝缘强度等电学特性。实验显示添加一定比例的H2O、冰醋酸、乙酰丙酮, 可以得到长时间不胶凝、性能稳定的溶胶,通过适当工艺, 能在金属基片上制备出致密、不开裂、电阻率为105 ~106 Ω·cm 的TiO2 薄膜。 相似文献