双半波窄带多层介质干涉滤光片

本文叙述了双半波滤光片的设计与制备工艺,列出了23层与31层对称和非对称双半波滤光片的主要参数。讨论了出现通带劈裂现象的原因。介绍了一种新型的胶合方法并给出了部分实验结果。     

超窄带滤光片制作技术

详细地介绍了超窄带滤光片的制作技术.讨论了在基底材料选择、膜系设计以及膜厚监控等方面要求的特殊性,并给出了一些滤光片设计和监控的要求.它在空间遥感尤其是在闪电探测方面具有重要的作用.     

提高窄带滤光片稳定性的方法研究

本文对稳定窄带介质干涉滤光片的光学性质作了一些工艺研究,用高温烘烤的方法可以提高滤光片的抗潮性能,对几种常用的光学胶的密封性能进行了比较,最后对低熔点玻璃烧结密封滤光片的方法作了介绍。     

连续激光辐照窄带滤光片软损伤研究

利用YAG激光对ZnSe/MgF2窄带滤光片进行连续辐照研究,发现滤光片的通带发生了漂移, 严重时通带完全飘离使用波长,使其光学性能完全失效,即滤光片出现软损伤。根据实验结果和温度场分布,模拟了滤光片在连续激光辐照下的温度响应和光学性能失效过程,结果表明ZnSe材料的折射率温度梯度是引起软损伤的主要因素。     

一种双通道窄带滤光片的设计与制备

对光子晶体技术在滤光片设计中的应用进行了可行性研究。利用一维光子晶体进行了双通道窄带滤光片的设计,并利用离子束辅助沉积方法进行了滤光片的镀制。同时研究了膜层的误差对滤光片光谱性能的影响,表明其敏感层主要是缺陷层。实验结果表明,运用光子晶体概念进行双通道窄带滤光片设计是可行的。     

温度和吸湿对窄带滤光片性能的影响

根据窄带滤光片性能对温度和吸湿依赖性的数学模型,进行了初步实验验证,得到了温度和吸湿对窄带滤光片光学性能的影响规律.     

基于导模共振效应的多通道窄带滤光片的设计

基于导模共振效应设计了几种多通道窄带滤光片,并利用严格耦合波法分析其光谱特性。在设计的单层滤光片的基础上增加第一层高折射率缓冲层,当厚度为523.8 nm和689.2 nm时,得到双通道和三通道的反射峰,在此基础上增加第二层厚度为768 nm的低折射率缓冲层,得到四通道的反射峰。另外,通过调节单层滤光片的入射角度得到对称的双通道反射峰。     

遗传算法在窄带滤光片膜系设计中的应用

研究了遗传算法在窄带滤光片膜系设计中的应用。介绍了遗传算法的运算原理、适应度函数和运行参数的涵义;建立了窄带滤光片的评价函数和适应度函数,并给出其遗传算法的程序设计方法;以带宽4nm、中心波长1.55μm的窄带滤光片为例进行了遗传算法的实际膜系设计。结果表明遗传算法适用窄带滤光片的膜系设计。     

全息窄带带阻滤光片用于拉曼光谱测试仪

在测量物质的拉曼光谱时,存在着比拉曼散射光强103~06倍的瑞利散射光,会严重影响拉曼光谱信号的获取。为此,研制了半宽度分别为18nm(峰值波长532nm)和25nm(峰值波长633nm)、光学密度均大于4的重铬酸盐明胶全息窄带带阻滤光片,并将它们用于由平场光谱仪、CCD探测器和计算机控制系统等组成的小型拉曼光谱测试仪中,以滤除瑞利散射光,获得信噪比较高的拉曼光谱信号。对四氯化碳、乙醇以及丙酮等液体样品进行测量的结果表明,在拉曼光谱测试仪中采用该全息窄带带阻滤光片后,可快速测得待测样品的波数低至217cm-1的拉曼光谱。     

一种窄带导模共振负滤光片的设计

由于弱调制光栅可以等效为平面波导,本文从平面波导的本征方程出发,导出垂直入射时弱调制光栅共振位置的表达式.分别以单层、双层膜系导模共振光栅结构为例,研究了光栅层厚度、周期、占空比对共振波长的影响.结合光学薄膜理论设计出一种窄带导模共振负滤光片.由于导模共振对入射波参数和光栅参数都极为敏感,具有窄带效应,用来制作窄带负滤波片非常可行.     

酶标分析仪高稳定度窄带标准干涉滤光片的研制

文章详述了酶标仪专用的高稳定度窄带标准干涉滤光片的研制原理和过程。表明了该滤光片是该领域目前国内先进水平,并解决了JJG861-94《酶标分析仪》执行中没有合适的标准物质进行量值传递的一个难题。     

检定分光光度计用高稳定度窄带干涉滤光片的研制

介绍了一种新研制的检定分光光度计用的全介质膜窄带干涉滤光片。经用户多年试用和周期检定的结果证明：几项主要技术指标均高出国家计量检定规程的技术指标，且有高的稳定度和使用方便的特点，有很高的实用性。     

应力对多层薄膜窄带滤光片透射特性的影响

利用薄膜应力公式和弹性力学的小挠度弯曲理论,分析了多层薄膜应变与薄膜厚度变化的关系,建立起基片曲率与薄膜厚度变化关系的理论模型,提出了多层薄膜各层厚度不均匀变化的关系式。膜厚均匀变化只影响中心波长的漂移,而这种膜厚不均匀变化不仅引起中心波长也引起光谱的退化。在基片由10mm厚减薄到1．0mm时,对100GHz的窄带滤光片的模拟结果为中心波长减小0．977nm;0．5dB带宽减小0．19nm。引入膜厚随机误差的模拟结果为中心波长减小1．066nm;纹波增加0．36dB;峰值插损增加0．32dB,光谱进一步退化了。说明了基片曲率变化引起的光学薄膜厚度变化的不均匀性是引起这种窄带干涉滤光片光谱退化的主要原因之一。     

WDM光纤通信用窄带滤光片膜系补偿膜层的最优化设计

在WDM光纤通信系统中充当分波/合波器的全介质F-B型多腔窄带滤光片的膜层层数较多，一般采用规整膜系结构，其各层膜的光学厚度均为监控波长的1/4整数倍，但仅采用规整膜层的膜系往往不能完全满足设计指标。因此，提出一种在基本满足设计指标的多层规整膜系上叠加少量非规整膜层的膜系设计方法，其中非规整膜层的光学厚度是在计算机上借助最优化方法寻优而得。     

超高密度磁记录介质的研究进展

总结了近年来超高密度磁记录介质的研究概况,着重介绍了垂直磁记录介质中L10相FePt薄膜的研究方法,并认为L10相FePt薄膜将会成为高密度磁盘记录介质的主流.倾斜磁记录、热辅助磁记录、图案记录等存储技术,目前处于实验室研究阶段,但是有望突破垂直磁记录的超顺磁极限,实现超高密度磁记录.     

填充介质对电晕放电特性的影响

为了研究填充介质对电晕放电的影响,本文采用针-板放电装置,研究了不同条件下正、负直流电晕放电的起晕电压、平均电流等特性,获得了正、负直流电晕放电和正脉冲电晕放电的时间积分图像及正脉冲电晕放电的时间分辨图像。还分析了介质尺寸、形状、填充密度以及介电常数对正脉冲电晕放电特性的影响。所得结果表明,填充介质导致正、负直流电晕起晕电压升高。正电晕放电更易于激发填充介质的表面放电,且尺寸小的介质颗粒更容易形成环绕颗粒表面的放电。在正脉冲电晕放电中,填充介质密度、介电常数越高,起晕电压越低;球状介质比圆柱形介质更容易形成表面放电。     

洗煤厂重介质分选机的密度自动控制系统

本文主要阐述了洗煤厂重介质分选机的悬浮液密度的控制、低密度系统的操作、高密度系统的操作、运转中突然断煤现象对密度控制的影响、悬浮液中煤泥含量的控制、介质桶液位调整等技术问题。     

基于F-P滤光片的三通道滤光片的设计

以法布里-珀珞滤光片(Fabry-Perot filter)结构为模型进,通过对间隔层干涉级次的计算优化,在理论上得到初步具有三通道特性的滤光片结构;为了进一步减少通道半带宽和提高滤波特性,通过适当提高反射膜的反射率,最终得到一种三个通道半带宽均≤5nm,峰值透过率≥95%的三通道滤光片设计。     

炭黑填充聚乙烯PTC效应及其稳定性

可控自发热高分子材料是利用炭黑填充结晶高分子材料的正温度系数特性（PTC效应）制成的具有自动控温性能的功能高分子材料，文中通过对6种炭黑填充聚乙烯体系电性能的研究，分析了产生PTC效应的机理，筛选出了具有较强PTC效应的炭黑填充聚乙烯体系，并通过对该体系PTC稳定性研究得出，较佳的消除高于熔点的负温度系数效应（NTC效应）的方法是辐射交联，本研究为制备出具有实用价值的可控自发热聚乙烯的材料奠定了基础。     

超高密度磁记录介质的研究进展与未来趋势

磁记录在过去的50年内经历了磁带、硬盘水平记录模式和垂直记录模式,其记录面密度达到～150Gbit/in~2,50年中记录面密度提高了约10~7倍。在未来5～10年内,磁记录面密度的目标是1000Gbit/in~2(即今天的6～7倍)。本演讲将从磁记录介质因素(磁晶各向异性能和磁有序诱发相分离)和记录模式两方面来评述磁记录面密度的发展过程和相关科学问题的解决、现在面,临的“瓶颈“困境以及未来的发展方向。首先从热力学的角度综述了最近几年对当前唯一可行的Co-Cr基合金介质发生的这种磁有序诱发相分离的认识和理解,通过实验证据和热力学计算来阐明该合金体系能形成纳米双相组织的成因,并解释有效合金化元素Pt、Ta、B对Co-Cr基合金薄膜提高其有效磁晶各向异性能和降低记录噪音的作用。详细分析该体系多元合金作为磁记录介质发展过程中的科学问题(磁晶各向异性能的改善、磁记录信噪比(SNR)的提高与双相组织的关系)以及目前面临的困境(超顺磁)和可能解决的方案。着重阐明未来可能的超高密度记录材料(相分离型合金Co-W和Co-Mo、有序化型合金CoPt和FePt,稀土型合金FeNdB和SmCo_5等)的研究进展和以上各种材料目前存...