铜/镍离子光亮剂在6063铝合金化学抛光液中的协同效应

为了改进铝合金的磷酸-硫酸-硝酸化学抛光工艺,将铜离子、镍离子光亮剂单独和复合后加入抛光液中处理6063铝合金.利用光泽度仪、失重法等考察了单独使用铜离子、镍离子及二者复合使用对铝合金化学抛光的光泽度、溶铝量及抗点蚀能力的影响.结果表明:铜离子、镍离子均能提高抛光铝合金的光泽度,且铜离子的抛光促进作用更好,但其过量时容易出现过腐蚀;二者单独使用均能降低溶铝量,且镍离子降低溶铝量的效果更好;铜/镍复合使用对光泽度的提升有明显的协同效应,且溶铝量低,不易出现过腐蚀.     

高硅铝合金无烟化学抛光剂的研制

目前以H3PO4、H2SO4为基础的两酸无烟化学抛光体系对高硅铝合金的抛光效果不理想。在磷酸+硫酸+双氧水的基础液中,添加一定量的硫酸铁、三氧化二铬以及过硫酸铵,考察了不同质量的添加物对6063高硅铝合金化学抛光效果的影响。采用简单正交试验方式,以试样的反光率及麻点数量表征试样的抛光效果,优选了较优的抛光液成分。结果表明:按硫酸(85%)10 m L、磷酸(95%)20 m L、双氧水2 m L、硫酸铁0.1 g、三氧化二铬0.1 g、过硫酸铵0.1 g配制的抛光液抛光效果最佳。     

高表面粗糙度6061铝合金的两酸抛光工艺研究

目的 为了降低6061铝合金的表面粗糙度,提出了一种环保型的两酸化学抛光工艺,并探究了抛光工艺条件对6061铝合金表面粗糙度和表面形貌的影响。方法 采用正交实验设计,确定6061铝合金两酸抛光添加剂的浓度,在此基础上通过单因素实验进一步对抛光液配方、温度和时间进行参数优化。通过粗糙度仪测量抛光前后的粗糙度和表面轮廓曲线,利用金相显微镜观察抛光前后的微观表面和断面金相,并且计算最佳工艺下的失重率。结果 在温度100 ℃、抛光10 min条件下,当抛光液的成分为H3PO4+H2SO4(质量比为2︰1)、10 g/L硫酸铝、2 g/L硫酸铜、1.6 g/L金属盐A、3 g/L氧化剂B、15 g/L过硫酸铵、1.5 g/L钼酸铵时,抛光效果最好。在最佳工艺下进行抛光,使铝合金表面粗糙度从6~8 µm降低至2 µm左右,粗糙度的标准差从2 µm左右降低至1 µm以下,失重率在0.002~0.004 g/(cm².min)范围内波动,并且得到了光亮的表面。结论 该抛光体系在处理高表面粗糙度的6061铝合金时表现出良好的抛光效果,研究结果对提高3D打印的6061铝合金零件表面质量提供了较好的借鉴与理论分析基础。     

铝合金碱性化学抛光技术

在承接一批铸造铝合金、压铸铝合金件的化学抛光时 ,首先使用常用的三酸 (磷酸、硫酸、硝酸 )抛光工艺。由于是合金件 ,硅、铜含量大 ,经过多次抛光酸洗 ,虽然达到了对方的光泽要求 ,但是成本较高。通过查阅有关资料并多次试验 ,找到了针对铝合金的碱性化学抛光工艺 ,抛光质量基本上与酸性化学抛光相似 ,效果令人满意。1　化学抛光工艺(1)流程工艺　化学抛光→温水洗→清水洗→出光→水洗→中和→水洗→干燥。(2 )配方及条件　ＮａＯＨ　 35 0～ 65 0ｇ/Ｌ ;ＮａＮＯ2 　 10 0～ 2 5 0ｇ/Ｌ ,ＮａＦ　 2 0～ 5 0ｇ/Ｌ ;Ｎａ3ＰＯ4 　 10～ 4…     

Mg2+、Cu2+对铝无烟化学抛光的协同效应

根据金属化学抛光的黏液膜或凹凸理论,在磷酸-硫酸基础液中加入组合添加剂,对工业纯铝进行无烟化学抛光,以改善抛光效果,并与传统三酸抛光效果进行对比.传统的无烟抛光剂中采用的Cu、Ni等重金属添加剂有利于氧化膜的生成,并具有明显的整平效果.抛光试验结果表明,当添加等量的Mg2 后,能够和cu2 发生协同效应,有利于抛光过程的进行,改善抛光质量.其最佳加入量为:1.2～1.8 g/L Cu2 Cu2 、Mg2 最佳比例为1:1.     

铜及其合金化学抛光工艺研究

为了满足铜材钝化时对处理表面的要求,对化学抛光工艺及配方进行了深入研究,并分析了抛光液中各组分及工艺条件对抛光质量的影响.该工艺的最优配方及工艺条件为:50～55 mL/L磷酸,10～15 mL/L硝酸,25～30 mL/L草酸,1.0～1.5 g/L尿素,1.5～2.0 g/L香豆素,2.5 g/L磺胺,水余量,抛光温度55 ℃左右,抛光时间2～5 min.用此最优配方及工艺条件对铜及其合金进行化学抛光,可获得最佳抛光效果,且该工艺具有溶液成分简单、易于操作、抛光速度快、亮度好、污染低等优点.     

铝合金碱性电化学抛光新工艺

为了克服碱性Brytal法抛光铝材的缺点,在NaOH溶液中加入EDTA作光亮剂抛光铝材,可获镜面光亮效果.其中直流抛光的工艺条件为:光亮剂25～40g/L、操作电压7 V、电流密度20 A/dm2、溶液温度45～50℃,抛光20 min后铝材表面反射率为90%,阳极溶解损耗0.018 2g/cm2;采用周期换向抛光时溶液温度可降低至40℃,阳极溶解损耗仅0.010 1g/cm2.两抛光新工艺在生产成本、操作环境和抛光效果等方面均优于传统碱性电化学抛光.     

Q235钢中温无黄烟化学抛光工艺

低碳钢在双氧水系抛光液中化学抛光时,双氧水易分解,温度不易控制,而在硝酸系抛光液中化学抛光会产生黄烟且能耗较大。为此,研制了一种新型无黄烟低碳钢中温化学抛光液对Q235钢化学抛光,考察了化学抛光液组成及温度、时间对抛光质量的影响。结果表明:使用本工艺的化学抛光试样表面平整、粗糙度低,光亮度达3～4级;获得最佳抛光质量的化学抛光工艺为120～250mL/LH3PO4,100～200mL/LH2SO4,40～80g/LNaNO3,10～40g/LNaCl,20g/L复合添加剂,55～65℃,2～5min。     

铝材无烟化学抛光剂的研制

为了消除传统的三酸抛光对环境和人体健康的危害,开发了以磷酸-硫酸为基液的无烟化学抛光技术.该技术的关键是在基础液中添加一些具有特殊作用的化合物来替代硝酸,在H3PO4(85%):H2SO4(98%)=(2.5～3.0):1.0,ρ(Al3 )=5～12 g/L,复合添加剂量为3～8 g/L,温度为95～115 ℃,时间为2.5～4.0 min的条件下,可以提高化学抛光质量,抑制铝材的点蚀,减缓全面腐蚀,获得较好的抛光效果.     

铝合金型材用水基除蜡清洗剂的研制

为了清除经机械布轮抛光后铝合金型材上的残余蜡,在分析各种金属清洗剂基础上,研制出了一种弱碱性水基除蜡清洗剂,该清洗剂能够很好地清除经机械布轮抛光后铝合金型材上的残余蜡浓缩液(20～25倍),其具体配方为:45～50 g/L K4P2O7,25～30 g/L Na2B4O7,25～30 g/L C12H25-( )-SO3Na,15～20 g/L C12H25 SO3Na,20～25 g/L AEO-9,5 g/L C7H5O2Na,8～10 mg/L C6H5N3.通过在不同温度、不同时间下的清洗去蜡效率对比检测,得到最佳的清洗温度为50～60 ℃,最佳的清洗时间为10～12 min.结果证明该除蜡清洗剂具有去除蜡脂能力强、对铝合金腐蚀率近乎零、对环境友好的特点.     

不锈钢超精抛光蜡的研制

目前,国产不锈钢超精抛光蜡不能满足市场需求,对其配方研制报道较少。为此,对不锈钢粗抛光后,采用超精抛光蜡进行精抛光,对其组分进行了筛选：以仪型氧化铝粉为抛光磨料;以混合硬脂酸作抛光内脂;利用油酸的润滑作用降低不锈钢表面的抛光温度,利用三乙醇胺与有机酸的皂化反应生成物润滑和清洁不锈钢表面;利用松香和石油磺酸钡提高不锈钢表...     

稀土抛光粉在眼镜玻璃抛光中研磨条件的研究

采用正交试验设计和方差分析的方法,研究了稀土抛光粉抛光眼镜玻璃过程中,中位径、晶粒大小和料浆浓度等因素对抛光过程的影响。利用库尔特粒度仪、X射线衍射仪、ZXZ-Ⅰ型真空泵和双轴复面曲精度抛光机等设备考察分析了稀土抛光粉的各项物理指标和研削能力。结果表明:对于普通光白玻璃片的抛光,稀土抛光粉的中位径在2.5～4.5μm之间,晶粒大小在550?左右,抛光粉料浆浓度为250g/L时,其抛光效率最好。     

Effect of abrasives on the glossiness and reflectance of anodized aluminum alloys

Blasting can eliminate or change the surface texture of as-rolled aluminum alloy by indentation to roughen the alloy’s surface. We investigated the effects of the blasting conditions on the glossiness and reflectance of Al1050-H16 and Al5052-H32 alloys in this study. As-rolled sheets were blasted at various pressures, and then removed for sequential cleaning, chemical polishing, and anodizing steps. After each step the samples were measured by micro-TRI-gloss meter and spectrophotometer to compare the effects produced by the abrasive powders and processing variables. Polyhedral alumina and round iron powders were used as the blasting media. The glossiness (Gs(60°)) decreased as the root mean square roughness (Rq) increased, regardless of the shape of the abrasive powders. The abrasives powders could cause wear and/or fracturing during the blasting process as well as fine debris, which could become embedded in the blasted surface. When an aluminum alloy was blasted with iron powders, the glossiness value after alkaline etching and chemical polishing was greater than that after being blasted with alumina; while the anodized Al5052-H32 alloy’s surface became more yellowish in color.     

非均匀成核法制备硅酸铝-硅灰石复合粉体材料

以硅灰石为原料,硫酸铝和硅酸钠为包覆剂,采用非均匀成核法制备一种硅酸铝-硅灰石复合粉体材料,研究搅拌速度、反应温度、反应时间、硫酸铝溶液浓度和滴加速度等工艺条件对复合粉体制备的影响。结果表明,控制机械搅拌速度为300~400 r/min,反应温度为80℃,反应时间为30 min,硫酸铝溶液浓度为0.1 mol/L,滴加速率为1~2 mL/min,可以实现硅酸铝以非均匀成核形式沉积在硅灰石表面,包覆硅酸铝后硅灰石白度提高,粒度增大,比表面积提高200%以上。     

电解质等离子抛光液中硫酸铵含量的检测方法

电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰,无法使用电导法对抛光液中硫酸铵的含量进行检测,为了解决这一问题,基于实验提出了两种确定硫酸铵含量(质量分数)的方法.一种方法是利用抛光液中硫酸铵的含量低于2.5%以后抛光的电流密度会明显下降的现象,定时检测抛光过程中电流值和抛光液温度,以确定是否需要补充硫酸铵.另一种方法是通过实验得到一定抛光液温度下抛光量与硫酸铵消耗量的关系,再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中硫酸铵含量的方法.研究发现,前一种方法应用更为简便,适用于一般工业生产;后一种方法适用于对抛光效果要求更高的加工.经实验验证两种方法均具有可行性.     

电解抛光在6063铝合金金相试样制备中的应用

对6063铝合金的电解抛光方法进行了研究,根据电解抛光的一般原理通过试验选定了电解抛光的温度、时间、电流和电压等参数,制备出了晶界清晰、抛光面无划痕、符合显微组织观察和分析要求的金相试样,获得了比机械抛光效果更好的6063铝合金金相制样方法。     

不锈钢化学抛光工艺研究

研究了以硫酸为主的不锈钢化学抛光工艺。通过改变温度考察其对不锈钢抛光效果的影响，从而确定最佳温度范围；通过改变不锈钢化学抛光工艺中各组成的含量，考察其对抛光效果的影响，筛选出既有较好抛光效果、抛光成本也较低的最佳化学抛光工艺为：H2SO4 20％-30％，HNO3 3％-6％，添加剂3％-6％，水余量，温度60-70℃，时间3-5min。     

Glossiness distribution over the surface of stoneware floor tiles due to the polishing process

The industrial process for polishing floor tiles requires several polishing stages in order to produce the desirable glossiness. Works on floor tile polishing with focus on the distribution of glossiness still lack in literature. The present work intends to measure and analyze the distribution of glossiness over the surface of porcelain stoneware tiles polished using forward speed of 7.5 cm s⁻¹ and lateral oscillation frequency and amplitude of 0.2 s⁻¹ and 12 cm. The glossiness pattern generated by the polishing process over the surface of six tiles were presented in grey-scale graphics, where each pixel was univocally associated with a portion of the tile surface. Correlations between the glossiness pattern found and the polishing kinematics were developed. Significant differences of glossiness were registered either between tiles polished under the same polishing condition, or within the surface of the same tile, between adjacent regions. The use of lateral oscillation motion caused the glossiness pattern over the tile surface to follow a waveform pattern, and two corroborative hypotheses were made in order to explain such fact, considering the light-surface interaction as well as the overlapping of trajectories of adjacent polishing heads.     

铝及铝合金高亮度无黄烟化学抛光工艺

从化学抛光机理入手 ,通过大量试验得到高亮度的无黄烟化学抛光添加剂及相应的抛光工艺 ,在消除黄烟污染的前提下提高了无烟化学抛光的亮度 ,同时用电化学方法对添加剂机理进行了分析。     

Ni-Ti形状记忆合金电化学抛光工艺研究

为提高Ni-Ti形状记忆合金的表面质量,以Ti50.8Ni(原子分数,%)为基材进行纳米级电化学抛光加工试验。基于自行研制的电化学抛光加工系统及抛光液,通过正交试验和单因素试验,分析了电流密度、抛光时间、抛光温度、电极间距等因素对电化学抛光的影响程度及影响机理。采用Micro XAM-100白光干涉仪对抛光试样进行检测。结果表明:最佳抛光工艺为电流密度J=1.0 A/cm2、电极间距d=15 mm、抛光时间t=140 s、抛光温度θ=15℃。在最佳工艺参数下抛光质量良好,试件表面粗糙度值显著降低至27.8 nm,表面平整均匀、光亮如镜。