不锈钢表面真空镀膜方法研究进展

综述了国内外真空镀膜方法,包括化学气相沉积与物理气相沉积方法对不锈钢表面镀膜的研究进展,介绍了热化学气相沉积方法,重点阐述了溅射镀膜方法(包括直流二极溅射、磁控溅射及离子束溅射)及离子镀技术在不锈钢表面镀膜时对薄膜种类、沉积速率、结合力等方面的特点。最后对不锈钢表面各种真空镀膜方法进行了分析对比,指出了存在的问题及今后的发展方向。     

PVD／PECVD技术在模具工业上的应用

材料的摩擦，磨损，腐蚀，疲劳及其组合等问题的研究和卓有成效的解决途径成为当前表面工程领域研究的热点。本文主要介绍物理气相沉积和等离子增强化学气相沉积技术在模具工业上的应用。     

增进模具可靠性的表面强化技术

从等离子体热处理,热喷涂法、气相沉积、熔盐浸镀法等方面介绍了增强模具可靠性的表面强化技术及其优缺点.指出正确运用表面强化技术可以增强模具使用的可靠性,提高模具的使用寿命和性能.     

物理气相沉积（PVD）硬质薄膜及在工模具上的应用

材料的磨损、腐蚀及其它环境损伤是机械工业面临的基本问题之一，近年来，由离子参与和等离子体增强的各种气相沉积技术为解决这一问题提供了有效的途径。物理气相沉积（PVD）是制备硬质薄膜的主要方法之一，许多技术已实现工业化生产。本文综述了物理气相沉积技术制备的各种机械功能薄膜的性能及在工模具上的应用情况。     

SiC沉积的机理研究

在石墨基底上采用低压化学气相沉积法沉积SiC,沉积室是热壁.H2载气通过鼓泡法将三氯甲基硅烷(methyltrichlorosilane,MTS)送入沉积室,沉积基底的面积和沉积室的体积比为1×10-2mm-1.沉积参数为:压力5kPa,温度1 100℃,H2的流量为150mL/min,气相成分中H2和MTS的流量比为10.结果表明:较大的液态聚基体表面能低,小液滴在大液滴表面沉积.H2流量小时,小液滴沿大液滴的生长锥顶部环状沉积,各生长锥问有间隙.H2流量增加时,小液滴无序的分散在大液滴的表面上.据此提出了一种可能的SiC的沉积和生长机理.     

炭纤维表面用化学气相沉积法涂覆碳化硼的研究

以CH4，BCl3，H2为原料气，采用化学气相沉积法(常压CVD)在炭纤维表面连续涂覆B4C，通过正交实验得到最佳涂覆条件；采用IR、TG—DTA、XRD等技术考察了涂层的组成、结构和形貌，并对最佳涂覆条件下炭纤维的拉伸强度进行测试。实验结果表明：当υH2／υBCl3=3．5、υBCl1／υCH4=1．7、气体总流速=160mL／min，沉积温度1100℃，走丝速度5转／min时，涂层表面有明显的一层致密物质，表面较平整，涂层纤维的氧化温度由未涂层时的350℃提高到630℃，纤维的单丝强度由未涂层时的1．93GPa提高到3．15GPa。在炭纤维表面采用化学气相沉积法涂覆B4C不仅装置简单、操作方便，而且可以明显地提高炭纤维的抗热氧化性和单丝强度。     

HFCVD金刚石薄膜涂层小孔径拉丝模的制备及应用研究

在传统的硬质合金拉拔模具内孔表面沉积热丝化学气相沉积(Hot filament chemical vapor deposition,HFCVD)金刚石薄膜可显著提升模具的耐磨损性能,降低拉拔过程中的摩擦系数,改善模具应用效果,但是对于小孔径拉丝模而言,采用HFCVD方法在其内孔表面沉积金刚石薄膜对热丝的对中性提出了极高要求,且难以同时满足"热丝温度尽量高"和"基体温度控制在合适的范围内"这两个必要条件。文章开发了可保证热丝对中性的平行四边形拉丝装置及可满足热丝及拉丝模内孔表面双重温度要求的辅助散热装夹夹具,并选取定径带直径为1.3mm的漆包线拉丝模作为研究对象,结合基于有限体积法的计算流体动力学仿真方法和正交配制方法,对该工况下内孔金刚石薄膜涂层沉积过程中与拉丝模内孔表面温度场分布相关的工艺参数进行了仿真优化,在此基础上,在拉丝模内孔表面均匀沉积了可满足高品质漆包线高速拉拔生产需求的、具有良好综合性能的高质量硼掺杂微米-未掺杂微米-未掺杂纳米复合金刚石(boron-doped micro-crystalline,undoped micro-crystalline and undoped nano-crystalline composite diamond,BDM-UM-UNCCD)薄膜,显著提高了模具寿命,获得了良好的应用效果。     

化学气相沉积氮化钛薄膜的研究

氮化钛薄膜材料具有优良的性能，应用广阔，总结了化学气相沉积制备氮化钛薄膜的方法和原理，介绍了化学气相沉积在制备氮化钛方面的应用现状和研究成果，分析了各种化学气相沉积方法的优势。     

氮化硼纤维表面涂层的研究现状

综述了高性能连续氮化硼纤维表面涂层的研究现状,目前研究的氮化硼纤维表面涂层方法主要有物理气相沉积法(PVD)、化学气相沉积法(CVD)、溶胶凝胶法(Sol-gel)、溶液浸渍法等,其中溶液浸渍法是最为常用的方法,用此方法涂层过的氮化硼纤维,其防潮性能和力学性能都有了较大程度的提高。     

低压气相沉积金刚石薄膜研究

低压气相沉积金刚石薄膜研究霍万库，李惠琪，李惠东（山东矿业学院）胡灼源，傅珍泰，刘福民（泰安市金属材料表面处理中心筹建处）金刚石是碳的一种同素异形体，人们很久以前就试图用石墨来直接制取金刚石。１９５５年，美国通用电器公司在世界上首次用高温高压方法成功...     

低温化学气相沉积SiC涂层显微结构及晶体结构研究

在CH_3SiCl_3-H_2体系中,采用化学气相沉积法(CVD)在1000～1300℃制备了SiC涂层。研究了SiC涂层的沉积速率和温度之间的关系,发现低温化学气相沉积SiC为动力学控制过程,反应的表观活化能为85～156 kJ/mol。SiC涂层的外观颜色及涂层表面的显微结构随沉积温度变化而呈现规律的变化:当沉积温度<1150℃时,SiC涂层的外观颜色为银白色,涂层表面致密、光滑;当温度≥1150℃时,SiC涂层外观颜色逐渐变暗,涂层表面变得疏松、粗糙。利用XRD分析了不同沉积温度下SiC涂层的晶体结构,随着温度的升高,SiC涂层的结晶由不完整趋向于完整;当沉积温度≥1150℃,SiC涂层的XRD谱图中除了β-SiC外还出现了少量α-SiC。     

一种在硅片上生长SiO2膜的简易方法

在室温下用化学气相沉积法在硅片表面生长了大面积的ＳｉＯ２膜。用几种方法测试了该膜的组成和特性，表明具有半导体绝缘膜的良好质量，从而有潜在的应用前景。     

氨基树脂及其涂料——经气相沉积三聚氰胺衍生物制备复合材料的方法：WO2004—101662[国际专利申请，英]／荷兰：DSM IP Assests B．V．（Jahromi，Shahab）．

本发明涉及一种制备复合材料的方法，该复合材料由底材和其上的涂层组成，该方法包括气相沉积步骤，在该步骤中含三嗪的化合物在压力1000Pa下气相沉积在底材表面形成涂层，气相沉积时底材的温度为-15～125℃。     

化学气相沉积热解炭机理及其化学动力学

综述了化学气相沉积热解炭的沉积机理、化学动力学的发展状况及一些基本理论问题，着重介绍了K.J.Huettinger等提出的沉积模型。     

适用于CVD及表面冶金的等离子喷炬

介绍了一种新型的适用于化学气相沉积及表面治金的等离子炬，并对其设计原则及结构、性能进行了分析研究。该等离子炬具有阳极喷嘴直径大、等离子弧为均匀放电非转移柔性弧和输出热效率高等特点。     

气相法制备ZnS薄膜材料研究进展

综述了近几年ZnS薄膜材料的气相沉积制备方法及其应用,主要讨论了真空蒸发、磁控溅射、脉冲激光沉积、分子束外延、金属有机物化学气相沉积、原子层沉积等制备方法的最新研究进展,指出了ZnS薄膜的各种气相沉积方法的优点和不足以及今后的发展趋势。     

化学气相沉积制备ZnS块材料均匀性的研究

以硫化氢气体锌为原料,通过化学气相沉积制备了ＺｎＳ块材料,分析了ＺｎＳ的沉积过程研究了沉积参数中沉积温度、沉积区压力和硫化氢、锌蒸汽、载气氩气流量对ＺｎＳ厚度均匀性的影响规律,提出了改善ＺｎＳ厚度均匀性,抑制沉只表面球状物生长的途径。     

Si/Ce化学气相共沉积制备抗结焦涂层的研究

对Si/Ce化学气相共沉积在裂解炉管内表面制备抗结焦涂层进行了研究。通过EDS、SEM、XRD对硅沉积涂层和硅铈共沉积涂层进行表征,发现Ce的加入可以减少沉积过程中C元素在涂层中的沉积,从而在炉管内表面得到致密、平整的涂层。石脑油裂解实验表明,硅铈共沉积涂层表现出了较优的抗结焦能力,经过6次石脑油2小时裂解试验后结焦抑制率依然保持在50%以上,该涂层对裂解产物的三烯收率影响不明显。     

微波等离子体化学气相沉积工艺对透明金刚石膜质量的影响

在自制的２４５０ＭＨｚ／５ｋＷ不锈钢谐振空型微波等离子体学气相沉积装置中研究了基片预处理和工艺参数对微波等离子体化学气相沉积金刚石膜质量的影响,研究了提高成核密度和沉积速率的方法,用ＳＥＭ,ＸＲＤ,ＦＴＩＲ,Ｒａｍａｎ和ＡＦＭ分析了金刚石膜的质量,结果表明：用纳米金刚石粉研磨单晶基片,在沉积气压６．０ｋＰａ,ＣＨ４／Ｈ２的体积流量比为０．７５％时,可 出红外透光率达６８％,表面粗糙度为１１４．１０     

化学气相沉积设备与装置

本文介绍了化学气相沉积设备的系统组成与典型装置,讨论了几种典型装置特点对化学气相沉积过程的影响,分析和总结了典型装置的维护对沉积参数控制精度及沉积过程的影响。