应用于棕化液中的新型缓蚀添加剂

概述了应用于PCB多层板制作过程中的棕化工艺原理及棕化膜的结构,介绍几种能提高缓蚀性能和内层板之间结合力的常用缓蚀剂。重点介绍广东东硕科技有限公司应用于棕化液的新型缓蚀添加剂,包括6-羟基苯并三氮唑,2-巯基苯并噁唑,1-苯基-5-巯基-四氮唑,5-乙酰基苯并三氮唑,其中6-羟基苯并三氮唑是我公司自行合成、未见文献报道的新化合物,并首次应用于棕化液中。结果表明经含有新型缓蚀剂的棕化液处理后的板性能均能达到指标要求。     

大数据时代中性水介质中的无机缓蚀剂应用研究

缓蚀剂在中性水介质中使用时要满足苛刻的条件，根据其生成保护膜的类型可分为钝化膜型、沉淀膜型、吸附膜型三类。介绍了中性水介质中常用无机缓蚀剂如传统的铬酸盐、亚硝酸盐以及钼酸盐、亚铁氰化物、硼酸盐等新型无机缓蚀剂的应用现状及优缺点。     

阳极氧化膜形成液中的氯离子检测

通过对阳极氧化膜形成液现有的检测方法分析,针对介电用阳极氧化膜形成中形成液的形成能力无法真实检测的问题,利用纯铝样品作为传感探头,在不同浓度的形成液和含有腐蚀性成分的电解液中,测试样品的电流变化情况,确定了介电用阳极氧化膜形成液中的氯离子检测方法。     

用于高灵敏度红外探测器的超薄硅膜的研制

超薄、平整的硅膜对于制作高灵敏度红外探测器是非常重要的。这种超薄硅膜的各向异性腐蚀技术，包括有机溶液EPW和无机溶液KoH及KoH IPA(异丙醇)。从腐蚀速率、腐蚀表面质量、腐蚀停特性、腐蚀边缘形貌及腐蚀工艺的角度分析比较了两种腐蚀系统，分别制作出了约1μm厚的平整超薄硅膜，并研究了不同掩膜材料在腐蚀液中的抗蚀性，为高灵敏度红外探测器的制作奠定了工艺基础。     

无铅装配制程中耐高温OSP膜的性能及厚度评估

为了满足电子工业对于无铅化的迫切要求，印制线路板（PWB）的最后表面处理工艺正逐渐由热风整平（SnPb）转移到其他适合无铅焊接的表面处理工艺，这类工艺包括有机保护膜（OSP）、沉银、沉锡以及化学沉镍金。其中因为OSP膜的可焊性优异、工艺简单且操作成本低而成为无铅化表面处理工艺的最佳选择之一。最新研发的耐高温有机保护膜（HTOSP）是符合工业标准的新一代OSPI艺，它能够满足无铅化对可焊性更严格的要求。 本文将介绍HTOSP的化学特性，包括膜层成分分析，主要唑类衍生物和OSP膜的热分析，以及OSP膜的表面分析。气相色谱一质谱分析法（GC／MS）可以测定交链反应中夹带在OSP膜中的小分子有机化合物。热重量分析法／差动扫描测热法（TGA／DSC）用于测试唑类衍生物和OSP膜的热稳定性。光电子能谱分析法（XPS）用于分析HTOSP膜经过多次无铅回流后的表面的氧化情况。 本文也将从实际的生产经验出发，介绍OSP膜厚控制的稳定性。HTOSPI艺提供了稳定而灵活的膜厚控制方法。厚度分析显示OSP膜在膜形成的过程中具有微整平效果，而且所形成的膜厚度能够完全保护在工业生产中经过不同微蚀处理的各种板材的铜面不被氧化。HTOSP膜的耐高温性及稳定的膜厚控制确保TPWB在无铅焊接时具有优异的可靠性。     

提高X射线多层膜反射镜的热和辐射稳定性

本文介绍的是Kharkiv州立工业大学金属与半导体物理系在提高X射线多层膜的热和辐射稳定性方面的研究成果.2.为提高1—30nm波段软X射线多层膜稳定性,多层膜材料对的选择非平衡多层膜最基本的劣化机制是:不同材料的膜层间的扩散、混合形成固体、液体或化合物等成分.伴随着多层膜周期厚度的减小,膜层间的扩散混合对多层膜反射镜性能的影响增大.但是在多成分界面的长周期     

SAW自组装技术在有机膦化合物中检测的研究

对自组装膜（SAMS）在声表面波（SAW）上的成膜机理、表征和应用等方面的研究进行了简介。重点阐述了SAW自组装技术在检测有机膦类化合物（G类毒剂的相关化合物）中的膜材料、成膜技术等研究方法和已经取得的应用，并进行了展望。     

(MF_2)_x·(YF_3)_(1-x)系激光材料的单晶生长

在CaF_2-YF_3二元系中发现两种成分能满足激光基质所要求的光学透明性、单晶以及可被敏化阳离子置换的特性。第一种成分是9CaF_2·YF_3,这种氟萤石固溶体是固液相同点。在此成分中分别掺入Nd~(3+),Tb~(3+)和Eu~(2+)生长了单晶。另一种成分近似组分为CaF_2·2.6YF~_3是固液同成分化合物。该化合物属于六方晶系,晶格常数为:a_0=3.910埃,c_0=6.958埃。生长了掺Tb~(3+)的这种成分。发现稀土氟化物倾向于稳定一种特殊组分与开裂有关。发现BaF_2-YF_3二元系无固液相同点或单相固液同成分化合物。在本研究进行时发现仔细的材料制备技术可改进激光基质材料的透明度。     

中高压铝电解电容器阳极箔研究进展

从铝箔杂质和腐蚀液添加剂两个方面概述了国内外在提高中高压铝电解电容器比电容方面的研究进展,其中包括镁、铁、硅、铅等杂质及缓蚀剂和表面活性剂的研究。并介绍了铝电解电容器的几种腐蚀机理,如氯离子的作用机理、腐蚀过程中电流与电位的关系、空位模型。最后预测了铝电解电容器新工艺的可能开发方向。     

用二异丙基碲化物低温生长CdTe和HgCdTe外延膜

红外探测系统中的灵敏元件要求高质量HgCdrTe薄膜。最近研究了用有机金属化学汽相淀积(MOCVD)法生长HgCdTe外延膜的能力。用这种方法,生长温度的下限就由常用的二乙基碲(DET)化合物的稳定性决定。本工作的主要目的是要通过采用不太稳定的有机碲化合物来降低HgCdTe的生长温度。在低温下生长HgCdTe有许多潜在优点。在低温下减少了扩散过程,从而得到了较明显     

光纤激光器中包层光滤除器的研究进展

包层光滤除器对高功率光纤激光器系统的作用非常重要,影响着输出激光的光束质量和单色性,包层光滤除器是光纤激光器产品化的核心元器件。本文简述了光纤激光器包层光滤除器的工作原理,总结了几种包层光滤除器的结构和工作性能,分析了其优缺点,对包层光滤除器的研究方向具有一定的指导意义。     

聚集诱导的荧光增强体系研究进展

聚集诱导的荧光增强（AIEE）现象是近几年备受关注的一个研究领域，文中纵观了该领域的进展，做了一个较为详尽的综述报道。具有该性质的体系主要包括多苯基取代的烯烃类、吡喃的衍生物以覆二苯基二苯并环戊二烯类等。这种反常的聚集荧光增强现象多数是由于固态或聚集状态下分子内的自由旋转运动受到极大的抑制所引起的。对于具有AIEE性质化合物的结构．性质研究有利于寻找更有效的发光功能材料。     

有机电致发光材料研究及器件初探

回顾了有机电致发光的发展历史，在前人研究的基础上，我们首先合成出发光物质三（8－羟基喹啉）合铝（AlQ3）和空穴输送层功能物质N，N＇－二苯基－N，N＇－（3－甲基苯基）－1，1＇－联苯－4，4＇－二胺（TBD）及相关物质．通过比较它们的荧光光谱，对材料的结构和发光性能之间的关系进行了研究，并从理论上对材料的选择作了初步讨论。在此基础上，探索了有机电致发光器件的制作。     

铝电解电容器中缓蚀剂的应用研究进展

铝电解电容器的阳极腐蚀是在电场作用下的动态腐蚀。分析了阳极腐蚀的原因和抑制方法 ,详细论述应用于电解液的缓蚀剂的种类及作用机理。所用缓蚀剂主要有胺类、酮类、羧酸类、喹啉类和金属化合物等 ,它们能抑制由氯离子、硫酸根离子等所引起的腐蚀。     

“黄芪 半夏”药对治疗非小细胞肺癌 作用机制研究

摘 要:目的 运用网络药理学方法及分子对接技术探讨黄芪 半夏”药对治疗非小细胞肺癌(NSCLC)的作用机制。方法 通过文献查找及TCMSP数据库筛选“黄芪-半夏”药对主要成分及作用靶点,在GeneCards、 PharmGKB、DrugBank、OMIM数据库获取 NSCLC相关靶点,利用 Cytoscape软件分别构建“中药-成分-靶点”“中药-成分-靶点-疾病”相互作用网络;运用 STRING数据库构建蛋白互作网络,并根据拓扑学参数筛选“黄芪-半夏”药对治疗NSCLC的关键靶点;对关键靶点进行GO功能富集和KEGG通路分析,并构建“成分-靶点-通路”网络图,运用Auto Dock Vina 1.1.2将得到的主要活性成分与关键靶点进行分子对接,运用PyMOL软件进行结果可视化。结果 共获得“黄芪-半夏”药对有效成分33个,作用于227个潜在靶点,NSCLC靶点1253个,拓扑分析得到关键靶点97个,其中度值≥中位数的靶点有48个,包括TP53、AKT1、CASP3、JUN等。GO功能富集分析得到生物过程主要涉及细胞因子介导的信号通路,基因表达的正向调控,RNA聚合酶II启动子转录的正调控;KEGG通路富集分析主要包括Pathways in cancer通路、肿瘤坏死因子信号通路、PI3K-Akt通路等,分子对接结果显示,“黄芪-半夏”药对主要活性化合物与5个核心靶点的结合能力皆良好。结论 “黄芪-半夏”药对可能通过槲皮素、山奈酚、黄芩素等主要活性成分,作用于TP53、AKT1、CASP3、JUN、VEGFA等相关靶点,干预Pathways in cancer、肿瘤坏死因子、PI3K Akt等信号通路,协同产生调控肿瘤细胞周期、介导肿瘤细胞凋亡、抑制其增殖分化及转移等来防治NSCLC。     

灵敏低k材料与铜兼容的去胶机

一种成功的抗蚀剂和刻蚀残渣去除胶机必须满足大批量IC制造环境中可接受的3个条件:(1)与灵敏低K介质材料的兼容性;(2)去除抗蚀剂和刻蚀残渣;(3)与基质金属包括铜、钴、钨等金属的兼容性。而AirProdul公司的EZ系列去胶机成功地满足了这些要求。一些含氟化物的产品与灵敏的低k介质,例如多孔的低k材料、HSQ和其它超低k材料是能够很好共处的。对由测量刻蚀速率以及键合保留物和暴露于这些除胶机的覆盖膜组成的介质材料确定的兼容性进行了评价,并对作图衬底的浸泡试验所确定的清洗效力也一并进行了评价。     

The Mechanism of the Photodimerization of [60]Fullerene Derivatives: It is Still a Charge Separation Followed by a Back Transfer!

Herein, we present a systematic study of the photochemical behavior of a set of fullerene compounds bearing various organic addends attached to the fullerene cage. It has been shown that the yield of photodimerization products strongly depends on the structure and electronic properties of the material, primarily the electron affinity (acceptor strength) of the modified fullerene core. This finding being inconsistent with the conventional [2+2]cycloaddition mechanism and pointed to an alternative pathway. This proposed pathway involves photoinduced charge separation followed by back charge transfer events leading to the efficient generation of triplet excitons, which are responsible for the formation of dimerized species. The light-induced charge separation pathway was confirmed by electron spin resonance spectroscopy and was supported by theoretical calculations. The revealed mechanism allows one to control the photochemical behavior of the fullerene derivatives via rational structural engineering: some of the compounds were shown to be fully resistant to photodimerization, which makes them promising candidates in the development of stable organic photovoltaics. Furthermore, this approach could be used to suppress back charge transfer in donor-acceptor blends and hinder the formation of triplet excitons which represents one a major energy loss channel in the current generation of organic solar cells.     

Characterizing the weak organic acids used in low solids fluxes

The elimination of chlorofluorocarbons (CFCs) and other chlorinated cleaning solvents due to their long-term environmental impact has lead electronic assemblers to examine soldering fluxes that reduce or eliminate the need for post-solder cleaning. Today, low solids fluxes are replacing more traditional rosin-based and water-soluble fluxes because many of them can be used in a no-clean process. Most low solids fluxes use weak organic acids as active ingredient. It has been reported that some of these weak organic acids leave behind residues that are corrosive to copper. Surface Insulation Resistance (SIR) measurements of flux-processed comb patterns have been the main test method used to determine the corrosivity of flux residues. This test has been performed with test samples exposed to accelerated temperature and humidity conditions of 85°C and 85%RH and a 50 V bias. Recent data on some weak organic acids suggests that they slowly disappear at this temperature and a lower test temperature of 65°C has been introduced into the new Bellco Standard. In Europe, this test is normally performed at 40°C and 93% RH. This paper reports on the application of SIR tests to study the corrosive behavior of three carboxylic acids (succinic, glutaric, and adipic acids) that are commonly used as the active ingredients in soldering fluxes. Coupons treated with equi-molar solutions of the acids were either exposed to reflow-soldering conditions or wave soldered face-up to create partially heated residues. Both tests were run under two different accelerating conditions, 85°C/85%RH for 7 days or 40°C/93%RH for 20 days. This latter condition is being considered for inclusion in an IPC standard. At the end of the test period, both corrosion and SIR test samples were examined under a microscope and any residues or dendritic growth were documented. SEM and EDX characterization was also performed to determine the residue and dendrite composition.     

氨气对偏振片作用的试验验证

液晶显示器的显示性能,如对比度、亮度等,与所用偏振片的性能有很大关系。随着使用时间的延续,偏振片会老化,其性能也相应下降。如果在不恰当的条件下使用或仓储,偏振片会加速老化,性能会加速下降,甚至完全失效。氨气是一种碱性气体,可能会与偏振片中的有机高分子成分发生化学反应,导致偏振片快速老化。本文侧重通过试验验证氨气对偏振片的影响,对比常见两大系列偏振片受影响的程度,并为行业内偏振片和LCD成品的存储与使用环境提出要求。     

北京城市大气高含氧有机分子的定量测量 #br#

大气高含氧有机分子是二次有机气溶胶的重要前体物。使用气态硫酸分子作为大气高含氧有机分子的替代 物评估其在硝酸根-大气常压界面化学电离飞行时间质谱离子化过程中的电离效率, 并基于高分辨率差分电迁移率粒 径谱仪串联飞行时间质谱建立了质谱传输效率的矫正方法, 从而建立了大气高含氧有机分子的半定量方法。在此基 础上开展了北京冬季大气高含氧有机分子的外场观测, 识别了约一百一十个大气高含氧有机分子, 表征了它们的浓度 变化趋势和化学组成特征。研究发现羟基自由基在大气高含氧有机分子生成过程中具有重要作用, 而氮氧化合物也 会参与其中。从挥发性分布看, 该地区冬季高含氧有机分子中归于极低挥发性有机化合物 (ELVOC) 的最多, 低挥发性 有机化合物 (LVOC) 次之, 表明该地区大气高含氧有机分子在大气颗粒物上的凝结对二次有机气溶胶的形成具有重要 贡献。