浅析牙膏中磨擦剂与磨擦值的关系

通过对牙膏中不同磨擦剂磨擦值的测定，探讨了两者之间的关系，并对针国内原材料的情况，就牙膏配方设计提出了建设性意见。     

牙膏磨擦剂

主要介绍了牙膏磨擦剂的种类、各类牙膏磨擦剂的生产方法和生产工艺,并重点介绍了两种氢氧化铝牙膏磨擦剂,即以烧结法工艺生产的普通氢氧化铝颗粒和由铝酸钠溶液和二氧化碳气体制备的球形氢氧化铝牙膏磨擦剂,并给出了两种氢氧化铝牙膏磨擦剂的工艺流程图、电镜分析图谱、物化性能和工艺指标。     

牙膏中磨擦剂的系统分析

牙膏是一种复杂的混合体系，其中作为主要成分的磨擦剂对膏体的质量稳定有直接的影响。本文对磨擦剂进行准确的定性和定量分析做了详细的介绍。     

牙膏新磨擦剂

论述了FS-1分子筛的性能特点及应用，提出了FS-1分子筛用于牙膏工业的优势性以及牙膏试验的过程和总结。     

牙膏磨擦剂综述

主要介绍了牙膏磨擦剂的种类、生产方法、影响牙膏磨擦剂质量的因素及牙膏磨擦剂的应用性能。     

牙膏新磨擦剂

论述了FS－1分子筛的性能特点及应用，提出了FS－1分子筛用于牙膏工业的优越性以及牙膏试验的过程和总结。     

牙膏磨擦剂磷酸氢钙的生产工艺探讨

本文通过笔者多年的实践经验，对生产牙膏磨擦剂磷酸氢钙的几条工艺路线进行了比较，并指出国内生产磷酸氢钙的最佳合理路线。     

磨擦剂和牙膏pH值的控制

围绕牙膏磨擦剂在液相中的离解率和牙膏在口腔中的卫生安全性，通过建立牙膏酸碱度理论模型，对不同类型牙膏pH的合理控制范围进行了探讨，计算结果表明：CaCO3型、Al(OH)3型、CaHPO4型及SiO2型牙膏pH值合理控制分别为8．17～10．00、5．00～8．88、5．00～9．15和5．00～10．00。     

牙膏磨擦剂与牙齿磨损

论述了牙膏磨擦剂与牙齿磨损的关系，并提出了相应的观点。     

球形氢氧化铝牙膏磨擦剂的研制

由铝酸钠溶液和二氧化碳制备适用于牙膏的氢氧化铝,得到较佳工艺条件：铝酸钠质量分数为15％～20％,在40℃下加入理论产物(Al(OH3)30％～40％的助剂,通混合二氧化碳气进行中和,保持溶液DH值为12～14,得到接近球形的氢氧化铝产物。测定产物的物化和应用性能,与国内目前生产的氢氧化铝牙膏磨擦剂进行对比。结果表明：产品中氧氧化铝质量分数≥990％,pH值降低1．1达到8．1,粒度分布更加集中,d50为8μm～11μm、折光率1．577～1．581、吸油率0．30mL／g～0．35mL／g、辐射牙本质磨损(RDA)60～80。     

用作牙膏磨擦剂和增稠剂的二氧化硅

综述了沉淀法二氧化硅用于牙膏增稠剂和磨擦剂的作用和技术要求。增稠型二氧化硅引入牙膏配方后提供很好的假塑性和触变性，增稠作用显著，长期贮存稳定性好。二氧化硅作为牙膏磨擦剂具有洁齿能力强、物理性能好、化学性质稳定、与牙膏膏体中其它配料的相容性好的优点。特别指出了低磨蚀、低折光率的二氧化硅用于儿童牙膏和透明牙膏。     

牙膏磨擦剂的物化特性和常用类型——磨擦剂对牙膏膏体的影响及研究进展

磨擦剂是牙膏的重要组成部分。从颗粒硬度、大小、粒径分布、形状等方面介绍了磨擦剂的物理化学特性和磷酸氢钙、二氧化硅、碳酸钙、氢氧化铝等常用磨擦剂的性能及其在牙膏中的应用。     

牙膏磨擦剂的发展动向及展望

综述了国内牙膏行业所用牙膏磨擦剂的发展历程与目前现状，对牙膏磨擦剂的发展趋势进行展望以及我们应做的工作。     

牙膏磨擦剂二氧化硅制备条件的优化

以硅酸钠和硫酸为原料,采用硫酸沉淀法,合成适用于牙膏以及透明牙膏的SiO2。首先考察了釜底液硅酸钠浓度、温度以及陈化时间对SiO2性能的影响。结果表明：当釜底液中硅酸钠浓度为0.13mol/L、合成温度为65℃以及陈化时间为30min的条件下,合成SiO2的透光率可以达到89%。随后,以提高透光率为目标研究了在釜底液中添加Na2SO4、NaCl两种电解质对SiO2性能的影响。结果表明：在合成温度为65℃的条件下,添加浓度为0.04～0.12mol/L的Na2SO4、NaCl对合成SiO2的透光率基本上没有影响;而在合成温度为85℃的条件下,添加浓度为0.08mol/L的Na2SO4合成SiO2的透光率可以达到97%,添加浓度为0.12mol/L的NaCl合成SiO2的透光率可以达到96%。造成这种现象的可能原因是：在相对高的合成温度下,电解质能够更加有效的参与到硅酸的聚合中,使得SiO2的透光率得到一定的改善。按照QB/T 2346—2007对所合成的物质的牙膏磨擦剂特性进行测定,达到了标准要求。