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辐照对IGBT特性的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
本文简述了中子辐照对IGBT特性的影响,给出了器件在中国辐射注量高达10^13n/cm^2时的实验结果。实验发现,随着中子注量的增加,开关进行缩短,阈值电压漂移。对于所研究的注量范围,观察的效应是由于IGBT少子寿命减少造成的,而不是由于有效掺杂浓度变化所致。 相似文献
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简要分析了IGBT器件的工作机理,对制作的20A/1050V IGBT芯片进行了中子辐照实验,并对比了辐照前后器件的关断特性,发现辐照可提高器件的开关速度,但也导致了器件有关特性的退化。 相似文献
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介绍了IGBT的结构设计及终端设计,利用SDB技术制备所需N^-N^+P^-基片,设计了合适的工艺流程,制备出1000V/20A的IGBT器件。最后给出测试结果。 相似文献
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中子辐照对IGBT特性的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
简要分析了IGBT器件的工作机理,制作了20A/1050V的IGBT芯片,给出了测试结果。对试制芯片进行了中子辐照实验,对比了辐照前后器件的关断特性。 相似文献
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本文基于理论分析和实验研究,分别在n^-/n^+/p^+外延和硅单晶基片上实现了1300V及1600V高压IGBT;并进而证实了获得高压IGBT相互联的关键技术──器件纵向横向几何结构及工作参数的准确计量优化,低缺陷密度高性能厚层硅材料的工艺生长技术,和复合高压终端结构的叠加组合形成。 相似文献
6.
本文简述了中子辐照对IGBT特性的影响,给出了器件在中子辐射注量高达10(13)n/cm2时的实验结果。实现发现,随着中子注量的增加,开关时间缩短,阀值电压漂移。对于所研究的注量范围,所观察的效应是由于IGBT少子寿命减少造成的,而不是由于有效掺杂浓度变化所致。 相似文献
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摩托罗拉公司生产的OPowerLux^TMIGBT,要用SOT223或TO92封装,开关频率达50kHz,在IC=400mA下的开态压降仅约1.5V,适合地在CFL电子镇流器中用作功率开关。本文介绍了PowerLux^TMIGBT的性能特点及其应用。 相似文献
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提出了空穴注入控制型横向绝缘栅双极晶体管(CI-LIGBT),它可以有效地控制高压下阳极区穴穴注入,提高器件的闭锁电压。通过对阳极区反偏p^+n^+结 穿电压BVZ、取样电阻RA和阳极区结深的优化,提高了CI-LIGBT的抗闭锁能力,降低了其导通压卫,并获得了初步实验结果。 相似文献
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绝缘栅双极晶体管(IGBT)的驱动与保护 总被引:4,自引:0,他引:4
在介绍IGBT结构原理及特点的基础上,讨论了设计IGBT驱动电路应考虑的问题和IGBT的过压和过流保护技术。在大功率高压开关电源中的应用证明,所设计的驱动保护电路性能良好。 相似文献
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简述了IGBT的设计技术和制造工艺。对IGBT的I-V特性,开关特性及闩锁效应了系统的研究,结合实际工艺对IGBT的版图及工艺进行了优化设计,合作开发了适于制作IGBT的异型厚外延材料。成功地制作了10A/800V,20A/1050V的IGBT芯片,给出了试制样品的测试结果。 相似文献
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本文简述了IGBT的设计技术和制造工艺,对IGBT的I-V特性,开关特性及闩锁效应进行了系统的研究,结合实施工艺对IGBT的版 图及工艺进行了优化设计。合作开发了适于制作IGBT的异型厚外延材料,成功地制了10A/800V,20A/1050V的IGBT芯片,给出了试制样品的测试结果。 相似文献
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介绍高压绝缘栅双极晶体管(IGBT)的终端和单元的设计与制造技术;实验验证了两种用于1000~1200VIGBT的高压终端,研制的芯片获得了7.5A,耐压1150V的实验结果。 相似文献
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对绝缘栅双极晶体管(GBT)的工作特性进行了理论分析。由于IGBT所含的PNP晶体管是宽基区、低增益的,因此在分析其工作特性进用了双极传输理论。在分析瞬态特性进用准静态近似(NQS),精确地描述了IGBT的瞬态特性。 相似文献
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本文研究了将电流检测功能集成到IGBT中块IGBTsense,对IGBTsense的基本结构和等效电路进行了分析,提出了一种适于PSPICE分析的IGBTsense模型,并详细给出了确定模型参数的方法。根据该模型对IGBTsense的主要特性进行了PSPICE分析。 相似文献
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优质高阻异型厚层硅外延IGBT材料n^—/n^+/p^+ 总被引:1,自引:1,他引:0
我们的实验研究结果表明,已经在n^-/n^+/p^+的纵向电气与几何参数的最佳理论设计、关键的工艺生长技术和缺陷控制诸主要方面取得了进展,并因此制备了2''-3''100μm厚度的高阻异型镜面硅外延片,且将其成功应用于1300V/20A高性能IGBT的研制。 相似文献
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文章首先概述了IGBT功率开关模块的发展动态,其次总结和比较了第二、第三以及第四代IGBT功率开关模块的各项技术性能参数,最后着重强调了IGBT的使用及使用中的几个关键性问题。 相似文献
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根据目前国内半导体工艺水平的现状,提出了一种制作IGBT的工艺方法──三重扩散法,并着重用器件模拟的方法,从理论上分析和证实了三重扩散法在高压IGBT器件制作上的优点和可行性,并用实验结果验证其正确性。 相似文献