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相似文献
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1.
通过大量实验对比了氨基磺酸盐和硫酸盐两种电解液电沉积Ni-Co合金Co含量的影响因素,以及Ni-Co合金沉积层的硬度、内应力与Co含量的关系。结果表明,与硫酸盐电解液相比,从氨基磺酸盐电解液中沉积的Ni-Co合金硬度高、内应力低。  相似文献   

2.
电沉积Ni-Co梯度合金的研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
在以氨基磺酸镍和氨基硫酸钴为主盐的电解液中,镍作阳极,pH=4.0,55℃条件下,采用2A/dm^2的阴极电流密度,可以电沉积出积出钴含量随厚度而变化的Ni-Co合金层。实验结果表明,随着通电量的增加,合金镀层中的钴含量不断下降。由镀层性能测试可以看出,随着通电量的增加,合金镀层的硬度,内应力减小。  相似文献   

3.
氨基磺酸盐电镀Ni-Fe合金层内应力的影响因素分析   总被引:2,自引:0,他引:2  
实验探讨了氨基磺酸盐电沉积Ni-Fe合金层内应力的影响因素。结果表明,阴极电流密度、电解液温度、pH值,氨基磺酸镍的浓度,氯化亚铁的浓度以及添加剂的种类都影响Ni-Fe合金层的内应力,添加一定量的971添加剂可以使电沉积Ni-Fe合金层的内应力趋于零。  相似文献   

4.
电沉积Ni—Co合金及其结构研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用硫酸盐体系电沉积Ni-Co合金,研究了电镀工艺参数对镀层组成及电流效率的影响,测定了镀层结构。实验发现:在Ni-Co合金镀层中,当Co含量低于76wt%时,合金由两种面心立方结构的固溶体组成;Co含量介于76 ̄90wt%之间时,由面心立方和六方密排两种结构的固溶体组成;Co含量超过90wt%时,合金只有一种立方密排结构的固溶体相成。  相似文献   

5.
电沉积Ni-Co合金及其结构研究   总被引:6,自引:0,他引:6  
采用硫酸盐体系电沉积Ni-Co合金,研究了电镀工艺参数对镀层组成及电流效率的影响,测定了镀层结构。实验发现:在Ni-Co合金镀层中,当Co含量低于76wt%时,合金由两种面心立方结构的固溶体组成;Co含量介于76~90wt%之间时,由面心立方和六方密排两种结构的固溶体组成;Co含量超过90wt%时,合金只由一种六方密排结构的固溶体相成。  相似文献   

6.
脉冲电镀Ni-Co合金的研究   总被引:6,自引:0,他引:6  
研究了脉冲参数对电沉积Ni-Co合金镀层的钴含量与硬度的影响。确定了最佳的脉冲参数。应用X射线和扫描电镜分析了Ni-CO合金镀层的结构和形貌。比较了脉冲电流(PC)和直流电流(DC)电镀Ni-Co合金镀层的各种性能。  相似文献   

7.
通过对镀液组成及电镀参数的研究,确定了电沉积Zn-Ni-Co三元合金的工艺条件,获得的三元合金镀层其耐蚀性明显优于Zn-Ni合金镀层,且随钴含量增加耐蚀性增强。  相似文献   

8.
通过对镀液组成及电镀参数的研究,确定了电沉积Zn-Ni-Co三元合金的工艺条件,获得的三元合金镀层其耐蚀性明显优于Zn-Ni合金镀层,且随钴含量增加耐蚀性增强。  相似文献   

9.
“电沉积Ni-W、Ni-W-P非晶态合金”简介文献报道,Ni-W-P非晶态合金具有优良的高耐蚀、高耐磨性能,在汽车CASS抗蚀试验中,Ni-W与Ni-W-P镀层的抗蚀性能至少为相同厚度化学镀Ni-P合金的三倍,硬度超过镀硬Cr,为1000~1300H...  相似文献   

10.
化学镀Co—W—P三元合金的研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
研究了镀液中各组分及pH值与镀层中钨、磷含量的关系,获得Co73W16P11合金镀支,并通过人工汗液浸泡试验比较了Co-W-P合金镀层与不锈钢、Co-P、Ni-W-P、Ni-P合金镀层的耐蚀性。  相似文献   

11.
电沉积Ni-Co合金的研究   总被引:7,自引:0,他引:7  
研究了氨基磷酸盐电沉积Ni-Co合金电解液组成及工艺条件对沉积层中Co含量的影响.并测定了Ni-Co合金沉积层中Co含量与Ni-Co与硬度的关系,以及影响Ni-Co合金沉积层内应力的因素.实验结果表明,将一定量的Co引入Ni沉积层,可以显著地提高其硬度;当在电解液中添加一定量的Ni-1添加剂后,能使Ni-Co合金沉积层的内应力为零.这些有益的实验结果为电铸加工使用寿命长、机械性能好的模具提供了一定的依据.  相似文献   

12.
研究了共沉积钨对化学镀Ni-P合金结构和性能的影响,研究结果表明,Ni-W-P合金镀层的晶化程度主要由磷含量决定而与钨含量无关;钨的共沉积对镀层硬度影响不大;在相同含量的情况下,Ni-W-P合金镀层的耐蚀性,耐磨性和热稳定性能都优于Ni-P合金。  相似文献   

13.
DMF/水体系Cr-Ni-Fe合金电沉积研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用含有N,N-二甲基甲酰胺的电解液电沉积Cr-Ni-Fe合金。结果表明:铬含量随着电流密度及电位的绝对值的增加而增加,采用恒电位镀的方法,在阴极电位为-1.8~-2.0V这一电位范围内,可得到均匀、致密、结合力好的镀层,沉积速度为6mg/cm2·h左右。  相似文献   

14.
概述了Ni-Co-B合金电镀工艺,Ni-Co-B合金镀具有高光亮性和反射性,高硬度和延展性,高耐蚀性,耐热性和耐磨性。  相似文献   

15.
电沉积Ni-W-SiC复合镀层工艺   总被引:3,自引:2,他引:3  
讨论了工艺参数对镀层成份的影响,同时还讨论了热处理对Ni-W-SiC复合镀层组织、结构、硬度和耐磨性的影响。结果表明,采用电沉积工艺可得到含Ni50%~55%、W42%~45.4%和SiC3%~7.6%的复合镀层。Ni-W-SiC复合镀层在镀态时为非晶态,经500℃×1h或氮、碳共渗后,镀层已晶化,产生了镍固溶体和少量的γ-(FeNi)相,经氮、碳共渗后,还有WC相和Ni_4w相。SiC微粒的加入,显著地增加了Ni-W合金层的硬度和耐磨性。经氨、碳共渗后的复合镀层的硬度和耐磨性优于其他镀层。  相似文献   

16.
析氢电催化剂Ni—Mo—Pb合金的研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
用电沉积法得到了非晶态Ni-Mo-Pb合金,该事金在碱性溶液中对氢的阴极析出具有很好的电催化活性,并有良好的可逆性和稳定性。给出了Ni-Mo-Pb电极上析氢反应的有关动力学参数。用稳态极化测量和XRD对Ni-Mo-Pb电催化剂进行了表征。  相似文献   

17.
添加聚四氟乙烯对化学沉积复使度层性能的影响   总被引:4,自引:0,他引:4  
吴玉程 《电镀与涂饰》2000,19(1):1-4,18
在化学镀Cu(Ni)-P合金镀液中添加碳化硅和聚国烯制得Cu(Ni)-P-SiC-PTEE复合镀层。研究了碳化硅、聚四氟乙烯的添加量对镀层沉积速度、硬度、磨损及减摩性能的影响。结果表明:碳化硅和聚四氟乙烯的加入能提高Cu(Ni)-P合金镀层的沉积速度、硬度、耐磨及减摩性。  相似文献   

18.
概述了含有Fe^2+盐,Co^2+盐,Ni^2+盐,脂肪族羧酸和还原剂等组成的Fe族合金镀液,可以获得硬度600HV以上的耐蚀性,耐磨性和外观平滑的Fe族合金镀层。  相似文献   

19.
用循环伏安法研究了NaH2PO2对Zn-Co合金电沉积的影响,结果表明:镀液中加入NaH2PO2后使Zn-Co合金的电沉积时的阴极极化增大;获得的Zn-Co-P合金镀层的阳极溶解峰电位比Zn层、Zn-Co合金层的溶解峰的电位正移。  相似文献   

20.
NaH2PO2对Zn—Co合金电沉积影响的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
用循环伏安法研究了NaH2PO2对Zn-Co合金电沉积的影响,结果表明:镀液中加入NaH2PO2后使Zn-Co合金的电沉积时的阴极极化增大;获得的Zn-Co-P合金镀层的阳极溶解峰电位比Zn层、Zn-Co合金层的溶解峰的电位正移。  相似文献   

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