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为了克服传统功率MOS导通电阻与击穿电压之间的矛盾,提出了一种新的理想器件结构,称为超级结器件或CoolMOS,CoolMOS由一系列的P型和N型半导体薄层交替排列组成.在截止态时,由于p型和n型层中的耗尽区电场产生相互补偿效应,使p型和n型层的掺杂浓度可以做的很高而不会引起器件击穿电压的下降.导通时,这种高浓度的掺杂使器件的导通电阻明显降低.由于CoolMOS的这种独特器件结构,使它的电性能优于传统功率MOS.本文对CoolMOS导通电阻与击穿电压关系的理论计算表明,对CoolMOS横向器件:Ron·A=C·V2B,对纵向器件:Ron·A=C·VB,与纵向DMOS导通电阻与击穿电压之间Ron·A=C·V2.5B的关系相比,CoolMOS的导通电阻降低了约两个数量级. 相似文献
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VDMOS功率场效应器件是八十年代迅速发展起来的新型功率器件,由于它比双极型功率器件具有许多优良性能:如高输入阻抗、低驱动电流、开关速度快、工作频率高、具有负的电流温度系数、热稳定性好,安全工作区大,没有二次击穿及高度线性的跨导等,已广泛地应用于各种电子设备中,如高速开关电路、开关电源、不间断电源、高功率放大电路、高保真音响电路、射频功放电路、电力转换电路、电机变频调速、电机驱动、固体继电器、控制电路与功率负载之间的接口电路等。 相似文献
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VDMOS的设计,讨论了其掺杂浓度以及外延层厚度和击穿电压的关系。导通电阻和并联元胞数量的关系。器件内等效电容和开关参数的关系。 相似文献
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VDMOS功率器件开关特性研究 总被引:4,自引:0,他引:4
本文详细分析了线性负载VDMOS功率器件的开关特性,得到了开关时间与栅输入电容及器件跨导、测试(工作)电流及电压的关系,并以方形原胞为例,指出了在设计和工艺上提高开关速度的途径。 相似文献
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作者采用一种新方法设计了可在高压下工作的高频VDMOS器件,该器件具有二级场板终端结构。通过在工艺上利用多晶硅选择氧化形成漏表面厚氧化层,不仅可以有效地减小C_(gd),而且可以减小C_(gs)。该方法简化了器件制作工艺并实现了自对准扩散。 相似文献
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南京国盛电子有限公司 《中国集成电路》2007,16(7):56-57
1、产品及其简介1973年美国IR公司推出VDMOS结构,将器件耐压、导通电阻和电流处理能力提高到一个新水平。功率VDMOS管是在外延片上制作的,由于一个管芯包括几千个元胞,故要求线条细,光刻精度高。所以对外 相似文献
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The minimisation of on-resistance of power MOSFETs is a problem of considerable importance to high-voltage MOS designers. The results of a two-dimensional simulation of VDMOS structures are presented, with linear and hexagonal surface geometries, which takes account of the finite sheet resistance of the accumulation layer under the extended gate region. A simple distributed analytic model is also introduced which gives reasonable agreement with the numerical model and which may be used to give the functional relation ship of the on-resistance with device parameters. 相似文献
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采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷、氩气和氧气为前驱气体,在直径为5 cm的(111)取向镜面抛光硅衬底上沉积出高平整度纳米金刚石薄膜.利用扫描电镜、X射线衍射谱和共焦显微显微拉曼光谱我们分析了薄膜的表面形貌和结构特征.该薄膜平均粒径约为20 nm.X射线衍射谱分析表明该薄膜具有立方相对称 (111)择优取向金刚石结构.在该薄膜一阶微显微拉曼光谱中,1 332 cm-1附近微晶金刚石的一阶特征拉曼峰减弱消失,可明显观测到的三个拉曼散射峰分别位于1 147 cm-1、1 364 cm-1和1 538 cm-1,与己报导的纳米金刚石拉曼光谱类似.该方法可制备出粒径约为20 nm粒度分布均匀致密具有较高含量的sp3键的纳米金刚石薄膜. 相似文献
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借助半导体仿真工具Silvaco中所提供的工艺摸拟器(Athena)和器件摸拟器(Atlas),及L-Edit版图设计工具,设计了一款击穿电压高于-90 V、阈值电压为-4 V的p沟VDMOS器件。经实际流片测试,器件的导通电阻小于200 m!,跨导为5 S,栅-源泄漏电流和零栅电压时的漏-源泄漏电流均在纳安量级水平,二极管正向压降约为-1 V。采用2-D器件仿真方法以及相关物理模型对所设计的p沟VDMOS器件的单粒子烧毁(SEB)和单粒子栅击穿(SEGR)效应进行了分析和研究,并通过对所获得的器件样片采用钴-60"射线源进行辐照实验,研究了在一定剂量率、不同总剂量水平条件下辐照对所研制的p沟VDMOS器件相关电学参数的影响情况。 相似文献
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A terminating type MEMS microwave power sensor based on the Seebeck effect and compatible with the GaAs MMIC process is presented. An electrothermal model is introduced to simulate the heat transfer behavior and temperature distribution. The sensor measured the microwave power from –20 to 20 dBm up to 20 GHz. The sensitivity of the sensor is 0.27 mV/mW at 20 GHz, and the input return loss is less than –26 dB over the entire experiment frequency range. In order to improve the sensitivity, four different types of coplanar waveguide (CPW) were designed and the sensitivity was significantly increased by about a factor of 2. 相似文献
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基于有耗传输线理论设计了频率为DC-3GHz的TaN微波功率薄膜匹配负载,采用HFSS软件仿真了匹配负载的频率特性.根据设计仿真结果,采用反应磁控溅射和掩模图形化方法制备了TaN微波功率薄膜匹配负载样品,基片为6 mm×9 mm×1 mm的BeO陶瓷基片,TaN薄膜的直流电阻为50Ω.结果表明,实验结果与仿真结果基本一致,在DC-3 GHz频率范围内,样品的电压驻波比(VSWR)都小于1.2. 相似文献