旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机

本文介绍了旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机的特点和所镀氮化钛膜的组织、性能     

多弧离子镀膜机阴极弧源的改进及其工艺的实验研究

本文叙述了对多弧离子镀膜机阴极弧源所做的实验研究，提出了如何降低靶极工作电流、提高靶材利用率、减小蒸发粒子的颗粒度以及提高成膜质量的方法。详细介绍了在我所研制的ＨＬＺ－７５０型八个弧源的多弧离子镀膜机上所做的 ＴｉＮ超硬涂层及装饰涂层的工艺研究及实测结果。     

多弧源磁控溅射多功能离子镀膜机的开发

本文系统地介绍了真空多弧源磁控溅射多功能离子镀膜机的开发情况、基本性能、主要特点、结构原理及采取的各种技术措施，评估了该设备的经济技术价值及开发者的良好心愿     

TG—46S型双室双面镀钢板多弧离子镀膜机的研究

叙述了TG－46S型双室双面镀钢板多弧离子镀膜机的主要参数,结构及其特点,并就该机的应用领域及其发展前景进行了探讨。     

多弧离子镀弧源靶工作条件对氮化钛薄膜中钛液滴的影响

本文研究了阴极靶弧电流大小、阴极靶表面热弧斑运动轨迹的电磁场控制、以及阴极靶脉冲弧沉积对多弧离子镀TiN薄膜中Ti液滴的影响。通过优化镀膜参数,可以有效地减少Ti液滴的数量和尺寸,提高TiN薄膜／工件基体之间的结合力。     

大面积矩形电弧蒸发源电磁场的研究

大面积矩形电弧蒸发源合理的设置靶源磁场并有效的控制电弧弧斑的运动是十分重要的。本文基于大量的试验研究对电磁场在靶面各处产生的磁场强度的计算进行了理论推导，建立了数学模型，并进行了比较精确的计算。计算结果与实测值很好的吻合，该计算可作为大面积矩形电弧蒸发源电磁场设计的依据。     

多弧离子镀合金涂层的成分控制及阴极靶源的成分设计

采用多弧离子镀合金涂层成分与合金阴极靶之间通常存在一定程度的偏差,这种离析效应导致了合金涂层成分控制及合金靶材成分设计的困难,现在的研究工作提出了一个简易的公式an=[(an^0.fn)/∑i(ai^0.fi)].100%用于解决这些问题。此公式可以根据合金元素的离化率计算涂层的合金成分。计算结果与实验结果取得了较好的一致。改变该公式的表达方式an^0=[(an/fn)/∑i(ai/fi)],100％,则易于完成极靶源的成分设计,并且实现合金涂层的理想成分。     

浅析离子辅助光学薄膜镀膜机的特性

真空镀膜产品的质量问题，一直是应用镀膜技术人员探索的课题。人们经过长期探索，采用离子束辅助沉积镀膜技术，改善了镀膜层牢固性，提高了反射率。本技术在通讯技术、太阳能应用、汽车、装潢等领域应用十分广泛。本文介绍了真空离子束辅助沉积镀膜设备特性。     

多弧离子镀膜机(буиат-6)性能分析和工艺参数研究

分析研究了多弧离子镀膜机буиат—６的主要性能。在不同工艺参数条件下，于高速钢基体上制备了Ｔｉ膜和ＴｉＮ膜，用扫描电镜观察Ｔｉ膜表面形貌；用能谱仪对Ｔｉ膜上小液滴颗粒成份进行测试分析；用超微负荷硬度计测量了ＴｉＮ膜的显微硬度；用表面刻划仪测试了ＴｉＮ膜与基体的附着力。实验结果表明：选择适当的工艺条件，包括弧流大小，电磁场强度，镀膜时间以及冷阴极离子源辅助沉积，可获得性能优良的ＴｉＮ膜，其显微硬度可达Ｈｖ２５００，附着力为６５Ｎ。     

多弧离子渗金属技术

本文用阴极电弧源做离子金属源，源极的靶材用Ti,Ai，不锈钢制铸，源因产生冷阴极弧光放电而产生金属等离子体，形成高密度的金属离子流，基板由钢材制成，施加适当的负偏压，在基板负偏压作用下，金属离子轰并加热基板至900℃或1100℃，金属原子渗入钢中形成高渗速金属层，文中侧试了渗金属层的组织形貌和Ti,Al,Cr,Ni在渗层中的分布，结果表明阴极电弧源离子湖金属技术是新的金属等离子体表面合金化技术，是对多弧离子镀的发展。     

镀膜机的微机控制

设计了磁控溅射-多弧镀膜机的微机控制系统．采用PLC可编程控制器与上位机进行数据传递和控制设备的控制方式。本微机控制系统中的真空镀膜机，设计了3套孪生磁控、10套多弧和8级工艺的过程控制，具有自动组合工艺和自控程序升级功能，从而实现多种工艺的镀膜要求。     

多弧离子镀与离子渗中影响光电温度计测温因素的研究

在多弧离子镀和离子渗金属中影响光电温度计测量精度的因素很多，本文通过大量试验、定性和定量的研究了诸因素，得出了校对光电温度计的线性回归方程。在实际测量中，取ε＝０．２能较准确地测量出工件的真实温度。受弧光亮度的影响。光电温度计的指示值高出工件温度６５～７０℃。对于渗 Ｔｉ和渗１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ的工件表面，其辐射性能相似。对于镀ＴｉＮ和渗Ｔｉ的工件表面利用光电温度计测温时，其指示值相差５℃。透过光学石英玻璃测量时，光电温度计指示值比工件低１７℃，而透过普通玻璃测量时，其指示值比工件温度低６５～８０℃。     

非晶金刚石离子镀膜机自动化控制系统的设计

结合非晶金刚石离子镀膜机的工艺特点和要求，本文介绍了一种成功应用的分布式控制系统的设计，重点讨论了控制系统的硬件配置、软件设计、通信服务程序以及软件编程中的几个控制算法。     

多功能复合离子镀膜机的研制

详细介绍了一台我院新近研制的多功能复合离子镀膜机.该机配有柱弧源、电磁控大面积弧源、小多弧源,使得在不同材质的工件上原位连续镀制各种多层膜及复合化合物膜;偏压电源采用我院自行开发的叠加式直流脉冲偏压开关电源,使用该电源可有效控制基体温度,实现远离平衡态的低温沉积镀膜工艺;全部控制及工艺流程采用PLC(可编程控制器)自动控制,具有成本低、效率高、膜系质量优、工艺可重复性好等特点.用该设备开发的一些功能膜复合工艺已获得实际应用,取得了良好的使用效果.     

多弧真空离子镀铬设备通过省级鉴定

由浙江省玉环县金源比特科技发展有限公司开发研制的多弧真空离子镀铬设备于 2 0 0 4年 1月 4日通过浙江省科技厅组织的产品鉴定。鉴定委员会由浙江工业大学、北京师范大学、国家真空设备质检中心等真空设备行业、环保、电镀行业的七名专家组成。该设备采用多弧、多靶源、逆变式直流弧电源及双极脉冲偏压设计 ,细化颗粒电路和辅助阳极输出 ,利用等离子体技术将阴极材料蒸发出来的阴极粒子沉积在工件表面完成镀铬或 PVD的多种膜层。工艺过程采用逻辑程序自动控制。该设备镀制的工件膜层质量好 ,耐腐蚀和硬度指标均达到相关标准规定。特别是…     

HHB—66—И1型多弧离子镀膜设备的性能分析

介绍了前苏联生产的ＨＨＢ－６６－Ｍ１型多弧离子镀膜机的技术条件、结构形式、性能特点。与美国ＭＵＬＴＩ－ＡＲＣ公司生产的ＭＡＶ－３２Ｄ多弧离子镀膜机的性能进行了对比分析。     

镁合金表面Ti—TiN复合镀层的阴极多弧离子制备与表征

表面强化、耐蚀处理对镁及其合金的应用至关重要。采用阴极多弧离子镀膜技术，在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了强结合力的以Ti为过渡层的TiN复合膜层，并利用高分辨扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDS）、CSM显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究。结果表明，采用适当的多弧离子镀膜工艺，能在经恰当预处理方法处理的镁舍金基底上制备性能良好的TiN膜。膜层均匀、致密，膜基结合力达130mN以上，复合硬度达500HV左右（AZ91镁合金基底125HV）。此外中性盐雾强化实验表明，经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下，腐蚀速度明显降低，经过200h后，表面无明显腐蚀现象。真空多弧离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用。     

分离靶多弧离子Nb—Al／Mo—Al合金薄膜及其腐蚀行业研究

本文采用分离靶多弧离子镀技术,通过改变基片负偏压和分离靶弧电流等参数,在310SS(stainlesssteel)基片上制备了多种成分的Nb     

应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析

针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。