改变薄膜厚度对玻璃衬底上FePd薄膜的结构和磁性能的影响

采用磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了不同厚度的FePd合金薄膜。研究了薄膜厚度对结构和磁性能的影响。实验表明,在FePd合金薄膜中有序化过程发生在更厚的薄膜中。随着薄膜厚度从d=22.5nm增加到67.5nm,面内矫顽力刚开始急剧增大,然后随着薄膜厚度的进一步增加矫顽力会减小。在d=67.5nm时面内矫顽力最大约为3200Oe。     

Ag中间层对FePd薄膜结构及磁性能的影响

采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了FePd(93 nm)单层膜和FePd(46.5 nm)/Ag(10 nm)/FePd(46.5 nm)多层膜,并在600℃退火不同时间,通过XRD、VSM对薄膜样品的结构和磁性能进行测量。结果发现:FePd单层膜在600℃退火240 min后有序化转变不明显,300 min后部分有序化,360 min后基本上完全有序化,形成了有序面心四方结构的L1_0-FePd相;当热处理时间为420 min时,有最大的面内矫顽力,约为1670 Oe;Ag中间层对溅射态的FePd薄膜衍射峰的形成有抑制作用,Ag中间层的添加可大幅缩短FePd有序化的时间;样品热处理5 min后就开始有序化,热处理15 min后样品性能即可达到最好,有最大的面内矫顽力2660 Oe,但热处理时间过长会使薄膜磁性能变差。     

衬底温度对Fe-N薄膜结构、形貌及磁性能的影响

采用直流磁控溅射方法,以Ar和N2作为放电气体,在单晶Si(100)衬底上沉积了Fe-N薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUIDS)对所制备的样品进行了结构、成分、形貌和磁性能分析,研究了衬底温度对薄膜的结构、形貌和磁性能的影响.结果表明:衬底温度对Fe-N薄膜的结构有重要的影响,通过控制衬底温度可以获得单相γ′-Fe4N化合物薄膜;γ′-Fe4N具有较高的饱和磁化强度,是非常有应用前景的磁记录介质及磁头功能材料.     

SmCo_7永磁薄膜的高温磁性能（英文）

研究了以Mo为衬底在Si(100)基片上沉积SmCo7永磁薄膜的高温磁学性能。结果表明,高温老化处理对薄膜的晶体结构和磁性能没有显著影响。根据趋近饱和定律和薄膜的高温磁化曲线,获得了磁晶各向异性常数K1随温度的变化关系。该关系说明随着温度的增加,SmCo晶粒的取向在一定程度上受到了破坏。此外,薄膜磁性能随温度的变化关系适当,可以满足在微电子机械系统(MEMS)中的应用。     

退火对TbCo薄膜结构和磁性能的影响

研究了真空退火对TbCo薄膜结构和磁性能的影响。结果表明：薄膜从溅射态的非晶薄膜转化为退火态的微晶薄膜，并以(100)面择优取向，其c轴平行于基片。在真空退火不改变TbCo薄膜的成分的条件下，发现TbCo薄膜从溅射态的垂直磁化膜转化为退火态的面内膜。     

Y和Zr掺杂对CeFeB合金微观结构和磁性能的影响（英文）

研究了Y和Zr掺杂对CeFeB合金相组成、磁性能和温度稳定性的影响。结果表明,CeYFeB合金由2:14:1主相和少量α-Fe相组成。Y掺杂可有效提高合金的矫顽力、剩磁和最大磁能积。同时由于Y_2Fe_(14)B相优异的磁性能与高温稳定性,其温度稳定性也得到明显改善,掺杂后合金的剩磁和矫顽力温度系数分别为-0.32%/K和-0.41%/K,与纯CeFeB合金相比分别提高了38.5%和40.6%。Y和Zr共掺杂后,由于增加的磁晶各向异性场和晶粒尺寸细化所产生的联合效应,合金的矫顽力、剩磁和最大磁能积大幅度提高,分别比纯CeFeB合金提高了30.9%、58.1%和204.8%。     

微量Al掺杂对溅射于玻璃衬底的SnO_2薄膜结构及光学特性的影响（英文）

采用射频(RF)磁控溅射法在玻璃衬底上制备了低浓度Al掺杂(≤1mol%)的SnO_2系列薄膜。通过X射线衍射、扫描电镜、紫外-红外光谱仪及光致发光(PL)实验,展现了薄膜的晶体结构及光学特性。结果表明:当Al浓度增加时,薄膜晶格常数c减小,表明Al原子成功替代Sn原子并产生了大量的氧空位。在400～800 nm的可见光范围,薄膜的平均透射率可达88%以上。当Al浓度持续增加时,由于Burstein-Moss(BM)效应使薄膜带隙增宽。此外,测量发现,在265 nm波长的光激发下,所制备薄膜的PL谱具有典型的近边带和深能级辐射发光,其峰值随Al浓度的增加而增大。     

深冷循环处理对金属玻璃结构和性能的影响（英文）

近期研究表明,金属玻璃可通过热激励或机械激励的方法回春到更加亚稳的高能量状态,同时伴随着原子堆垛的松散化。回春过程可有效提高金属玻璃的宏观塑性。从金属玻璃弛豫与回春概念入手,简要介绍金属玻璃的回春手段,总结不同方法的优缺点。重点介绍深冷循环热处理(一种对样品形态无破坏性且适用性较高的回春方法)的效果、热处理参数对回春程度的影响以及回春后金属玻璃力学和磁性能的演化规律。最后,就金属玻璃回春行为进行分析,并对未来重要研究方向提出展望。     

基于电气石衬底的沉积温度对ZnO薄膜结晶和光学特性的影响（英文）

利用超声雾化热解技术(USP)在不同温度的电气石和玻璃衬底上生长ZnO纳米片状薄膜。结构研究表明晶体为六方纤锌矿多晶结构。衬底温度越高,Raman特征峰越强,XRD结果给出(002)优势定向越明显,晶体结晶性能越好,晶粒尺寸越大。SEM图像显示片状ZnO晶体沿平行衬底方向叠加形成花状晶柱的微观形貌,沉积温度越高,晶柱宽度越大。UV-Vis表明电气石衬底上ZnO吸收峰强度高于玻璃衬底,最大吸收峰位置发生红移,高温下移动更大。     

Pt缓冲层厚度对FePt薄膜合金相转变和磁性能的影响

利用磁控溅射法制备了具有Pt缓冲层的[FePt]50多层膜.通过x射线衍射(XRD)分析和磁性测量研究了不同缓冲层厚度对样品微结构演变和磁性能的影响.结果表明,随着Pt缓冲层厚度(t≤8.6 nm)的增加,薄膜合金的有序化温度明显降低,晶粒尺寸逐渐减小FePt薄膜样品点阵常数c/a的比值逐渐减小,有序度参数S逐渐增大;同时样品的矫顽力也随着缓冲层厚度的增加而增大,在425℃退火的样品,其矫顽力由缓冲层厚度t=0时的398 kA/m增加到t=8.6nm时的523 kA/m(接近无缓冲层样品在500℃退火的值),平均变化率为14.53 kA·m-1/nm,有效地降低了样品的退火温度;与此同时,剩磁比逐渐减小,从0.68减少到0.56.     

电沉积Co-Mo-P磁性薄膜的结构及磁性能研究(英文)

通过电化学沉积方法制备了Co-Mo-P磁性薄膜。对电化学沉积速率、薄膜成分、微结构及磁性能进行了研究。结果表明,镀液温度是影响Co-Mo-P电化学沉积的主要因素。薄膜组成对Co-Mo-P的微结构及磁性能有很大影响。当次磷酸钠的浓度从0mol/L增到0.05mol/L时,在XRD图谱上观察到相变。在沉积电流密度为20mA/cm2,沉积温度为40℃,薄膜中P含量为6.05at%([H2PO2-]=0.02mol/L)时,得到的薄膜饱和磁化强度为139(A·m2)/kg,矫顽力为6926Am-1。在此条件下所制备的薄膜具有良好的软磁性。     

Tm元素对SmCo_5晶体结构与磁性能的影响（英文）

采用X射线衍射分析(XRD)和磁性能测试等方法,分析了Tm元素掺杂对Sm Co5晶体结构和内禀磁性能的影响。XRD测试结果表明:Sm Co5和Sm0.8Tm0.2Co5.2均为Ca Cu5结构,掺杂Tm元素后,晶格常数c值增大,而a,b与晶胞体积减小;M-T曲线测试结果表明:Sm Co5和Sm0.8Tm0.2Co5.2的居里温度分别为957和965 K;在测试外加场为7 T的条件下,300 K时Sm Co5的各向异性场HA和饱和磁化强度M7T均高于Sm0.8Tm0.2Co5.2;当温度升高至473 K,Sm Co5的HA和M7T要低于Sm0.8Tm0.2Co5.2,说明Sm Co5中进行Tm元素掺杂可以有效的改善其在高温条件下的磁性能。     

衬底位置对制备（100）面金刚石薄膜的影响

本文利用5kW微波等离子体装置,在直径22mm的石英上沉积金刚石薄膜。实验研究了衬底在不同位置对沉积金刚石薄膜的质量产生的影响。实验中将2块石英衬底编号为A和B,样品A被放在偏离钼基片台中心5mm的位置,使石英的中间区域偏离等离子体球,而边缘区域处于等离子体球的下方。通过SEM和拉曼光谱表征所沉积的金刚石膜,对比样品A的中间和边缘区域发现中间的区域金刚石膜的质量差且不均匀,边缘区域则长出取向一致的（100）面金刚石。通过分析认为,较高的温度、大的等离子体密、合适的碳源浓度度等条件有利于（100）面金刚石薄膜的沉积。随后改进工艺,将样品B放在基片台中心使其处于等离子体的正下方,并调整生长温度和甲烷浓度,成功的获得了高质量均匀的（100）面金刚石薄膜。     

热处理对FeCoV薄膜磁性能的影响

本文研究了热处理对FeCoV薄膜微观结构及磁性能的影响.XRD分析表明,制备态的FeCoV薄膜,(110)方向为择优取向,在250℃热处理后,开始出现(200)衍射峰.热处理过程中,随着温度的升高,薄膜内部应力的释放,以及晶粒的长大使得薄膜的矩磁比迅速增大.在温度高于340℃以后,薄膜的矩磁比增加趋缓,(200)衍射峰...     

金属纤维多孔材料孔结构对其性能的影响（英文）

孔结构是影响金属纤维多孔材料各项性能的关键因素之一,为此研究了孔结构对其性能的影响规律。采用气流铺毡法和烧结技术制备了Fe Cr Al纤维多孔材料,利用SEM观察其微观组织,同时测试了其拉伸强度、透气性和吸声系数(声强为90~140 d B,频率为1000~3000 Hz)。利用自主研发的分形软件计算了孔结构的分形维数。另外,研究了孔结构对多孔材料拉伸强度、吸声系数和透气性的影响规律,建立了拉伸强度、透气性与分形维数之间的本构关系。研究表明,随着分形维数的增加,抗拉伸强度呈线性下降,而透气性显著增大;在相同的声强和频率下,吸声系数随着分形维数的增加而逐渐降低。     

沉积温度对温度梯度法制备氮化硼薄膜结构和硬度的影响（英文）

采用温度梯度法,通过MW-ECR射频磁控溅射在硅片基底上制备了六方和立方混合的氮化硼薄膜。研究了薄膜的键结构,化学成分和力学性能。结果显示,对于氮化硼立方相的出现存在温度阈值,薄膜的硬度随沉积温度提高而提高。相对于传统薄膜制备方法,温度梯度方法具有更高的效率。     

Cr掺杂AIN薄膜的结晶结构和磁性能

利用溅射法和分子外延法在不同基片温度下制备的掺Cr的AlN薄膜，具有室温铁磁性能，但它们的磁矩各有不同。然而有关其室温铁磁性能的机理尚不十分清楚，新近日本大阪大学的材料研究人员利用活性dc（直流）磁控溅射法在热氧化硅（001）基片上于室温下制得的Cr掺杂AlN薄膜，     

锆元素对硅树脂转化SiOC玻璃结构演变的影响（英文）

通过硅树脂与含锆硅树脂在1000℃Ar下的裂解,制备出SiOC与SiZrOC玻璃,然后在真空中1200,1250,1300℃下进行热处理,以研究高温下的结构演变行为。利用SEM、XRD和元素分析手段分析测试了这两种玻璃的组成和结构。结果表明,锆的引入可以阻碍碳热还原反应,从而提高SiOC玻璃的热稳定性。     

镀液pH值对Co-Pt-W薄膜磁性能的影响(英文)

研究了溶液pH值对电沉积Co-Pt-W磁性能的影响。通过VSM,SEM及XRD技术分析研究了薄膜的磁性能和微结构。M-T磁化曲线表明,在不同pH值的溶液中所制备的磁性薄膜呈现出不同的热磁行为。在高pH值(pH=8.5)的情况下,所制备的薄膜随着温度升高,磁矩在降低;相反,在pH值为5.0的条件下,其磁矩则随着温度的升高先减小后增加,磁矩的降低对应于晶相的居里温度。VSM的测试表明,薄膜的矫顽力在很大程度上与溶液的pH值相关。同时,根据XRD的测试可知,磁性能的变化同样伴随着薄膜中相的转变。     

磁控溅射ZrN薄膜厚度对其色度的影响

采用中频非平衡磁控溅射技术在镜面不锈钢板上制备了ZrN薄膜,通过改变镀膜时间控制ZrN薄膜的厚度。用色差仪测定了不同厚度ZrN薄膜的L*,a*和b*值,绘制出不同厚度ZrN薄膜的L*,a*和b*值的变化曲线图,得出膜层厚度对薄膜色度的影响规律:膜层厚度低于63.7nm时,随着膜层厚度的增加,L*和a*值无变化,b*值呈线性递增,且颜色逐渐趋于金黄色;膜层厚度高于63.7nm时,随着膜层厚度的增加,薄膜颜色坐标未有明显变化,颜色为稳定的金黄色。