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本文提出为了求解YAG染料调Q激光速率方程的数值解,应按其物理实质把调Q过程分为四个阶段:1.初始过程;2.预激光过程;3.染料漂白过程;4.巨脉冲过程;再分别用计算机求解。所得结果与实验符合得很好,相当于模拟实验,可用来指导激光工程设计。 相似文献
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合成了吸收在红外域1270um的红外调Q、锁模染料,它的四氯乙烯溶液及聚甲基丙烯酸甲酯薄膜能对1064um和1079um激光进行满意的调Q,脉宽为4~7us。当用其二甲基亚砜溶液对1079um和1340um激光进行锁模时,显示出优良性能,锁模脉宽为30~50Ps。 相似文献
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合成了吸收波长为1455nm的红外域调Q、锁模染料.它的碘乙烷、1,2-二氯乙烷及二甲基亚砜溶液对1340nm激光进行锁模时.显示优良性能.锁模脉宽为90~100ps。它的聚砜薄膜能对1064nm激光进行满意调Q,脉宽为10ns. 相似文献
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本文采用了一种简单的方法对YAG激光调Q脉冲后沿进行压缩,从而达到压缩脉冲宽度的目的。实验表明这种方法是非常有效的,得到了100-200ns连续可调的声光调Q脉冲和12-18ns连续可调的电光调Q脉冲。 相似文献
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从理论上解释了调Q钕玻璃,YAG激光器存在的模式自锁定现象所引起的调Q激光脉冲功率输出的不稳 定性。为了从根本上消除模式自锁定所引起的调Q激光脉冲波形的随机调制现象,实验采用预激光调Q与法布 里 珀罗(F P)标准具平板组合技术,获得了脉宽约为40ns,脉冲能量为85mJ的稳定调Q输出,其脉冲能量稳定度 和脉冲功率稳定度分别为±2%和±3%,激光输出的谱线宽度为6.9×10-4nm。单纵模输出几率达到89%。采 用上述方法,使自锁模式的调制现象得到有效地消除,从而使调Q激光器可以稳定地输出。 相似文献
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调制电信号的获取是激光调Q中的关键技术。此系统采用一种新方法获取高速调制电信号——基于FPGA的高速电光门控系统,分为门控脉冲和高压调控两个模块。门控脉冲模块由高速信号放大、FPGA延时、可控传输线延迟3个部分组成。利用FPGA高密度、高可靠性、可反复擦写和可以现场编程、灵活调制的特点,将整个系统的主要控制部分集成在FPGA中,并将延时分为数字延时和模拟延时两部分。然后利用FPGA实现数字延时,可控延时线实现模拟延时。经试验检测,高压部分可以产生重复频率1~9999Hz,步进1Hz,延时范围为0~9999ns,步进为1ns,幅度为8000V,前沿和后沿小于10ns,抖动小于1ns的高压矩形电脉冲,满足各种电光调制系统的需要。 相似文献
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为了提升激光技术在色素性疾病治疗等生物医学应用效果, 研制了一种1064nm, 532nm, 570nm三波长激光器。采用电光调Q Nd:YAG激光器获得最窄脉宽为11ns的1064nm脉冲激光输出, 使用磷酸氧钛钾(KTP)非线性晶体对基频光腔外倍频获得532nm激光输出; 以固体染料块为激光增益介质, 倍频光为抽运光, 可获得中心波长为570nm的黄光输出, 光光转换效率为61.3%。结果表明, 通过改变氙灯注入电压, 可以调节1064nm激光脉冲输出特性; 增加固体染料激光器腔长, 可以调节染料激光输出光谱特性。该研究结果对激光器灵活应用具有重要意义。 相似文献
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Nd:YAG激光器输出的1.319μm激光在众多领域有重要应用,但目前研究重点集中在连续或准连续输出.采取对腔镜镀高选择性膜及使用色散棱镜等措施抑制1.064μm波长振荡、输出1.319μm激光,分别在自由运转及电光调Q两种情况下作了Nd:YAG激光器输出1.319μm波长的实验,得到调Q输出脉冲最大能量56 mJ,脉宽36 ns,斜效率0.2%,激光发散角2.5 mrad,输出能量不稳定度约4%,使用KTP倍频晶体得到660 nm红光输出.结果表明,用此方法实现电光调Q 1.319 μm脉冲激光及其倍频光输出切实可行,具有重要应用潜力. 相似文献
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激光微纳加工技术是制造技术中的一种先进高新技术,目前已在工业、机械制造等诸多领域有了广泛的应用。运用这种技术对材料进行加工,可以达到纳米级的加工分辨率,可以大大提高机械加工的精度与效率。本文主要探讨了飞秒激光微纳加工技术的原理与特征,以及该技术在实际中的应用。 相似文献
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卫星接收在基层台站的节目传输、传送过程中,占有极其重要的位置.是非常关键的环节。本文通过实际分析.总结了频谱分析仪在卫星接收环节中的一些实际应用,供大家参考。 相似文献
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一、引 言 随着激光技术的发展以及可调谐染料激光器的商品化,美国教授L·W·埃德森在79年底提出了一种产生极化负离子源的新的理论建议,即激光泵浦极化负离子源。理论计算表明这种新型的极化负离子源产生的离子流强度高达100微安以上,比原先的兰姆型极化负离子源强度将提高几十倍到上百倍。加拿大TRIUMF(Three UniversityMeson Facilty)研究所的兰姆型极化负离子源产生的离子流强度约200毫微安(改进后为400毫微安)。 相似文献
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