化学镀Ni-B合金镀层性能

通过改变镀液还原剂的含量和加入定量的乙酸钠,研究对化学镀镍硼合金形貌和性能的变化。从晶体结构、镀层形貌、硬度和耐磨曲线等几方面来分析加入乙酸钠12g/L时,化学镀Ni-B合金镀层形貌和性能改善的原因。乙酸钠起到缓冲剂的作用,降低了化学镀Ni-B的镀速,提高了化学镀Ni-B的致密度,改善了镀层的质量从而提高镀层的各种性能。     

稀土对电沉积Zn-Fe-La三元合金性能影响的研究

为了获得更加光亮、致密的Zn-Fe-La三元合金镀层,针对电沉积Zn-Fe-La三元合金镀液组成及工艺条件,系统地研究了稀土对镀层成分含量、镀液稳定性、镀液分散能力以及pH值的影响,测定了镀层的极化曲线、稳定电位和极化电阻,比较了不同稀土含量对镀层耐蚀性的影响.结果表明:稀土的加入可提高镀液稳定性、分散能力,增加电沉积过程阴极极化,使阳极钝化前的活性区腐蚀电位正移,自溶解速度下降,有利于提高镀层耐蚀性,其耐蚀性比Zn-Fe合金镀层及纯Zn镀层有很大提高.     

Ni-W-B-WC复合镀层制备及性能研究

以镀层硬度和镀层外观为指标,研究电流密度、镀液中WC的含量、pH值、沉积温度对考察指标的影响.利用正交试验确定了电沉积最佳工艺条件:在超声振荡下,控制电流密度为7 A/cm2,施镀温度50℃,镀液中WC的含量为20 g/L,镀液pH值为5.0时,镀层硬度和镀层外观最佳,同时对Ni-W-B镀层、Ni-W-B-WC镀层的硬度、抗高温氧化性、耐腐蚀性能、表面形貌、镀层结构与成分等进行了测试.结果表明,Ni-W-B-WC复合镀层的综合性能要高于Ni-W-B合金镀层.     

稀土对硫酸盐体系电沉积Zn-Fe合金阴极极化的影响

为了深入地探讨Zn-Fe合金镀层的电沉积机理,实验在了三电极体系下,采用动电位法测定硫酸盐体系电沉积Zn-Fe合金镀层的阴极极化曲线,探讨了该合金镀层的电沉积机理,以及镀液成分和稀土盐的加入对电沉积阴极极化的影响.通过实验发现,Zn-Fe合金镀层的沉积属于异常共沉积,结果表明镀液中加入稀土盐Ce2(SO4)3后,对Zn-Fe合金镀层电沉积的阴极极化行为有较大影响.     

化学镀Ni—B合金工艺研究

近年来,化学镀Ni-B合金层的优异功能特性越来越受到各国化学镀工作者的重视,但它在我国还是个空白.本文详细讨论了二甲氨基硼烷化学镀Ni-B镀液中各种成分和工艺条件对Ni-B合金沉积速度和镀层含硼量的影响,确定了柠檬酸铵做配位剂的二甲氨基硼烷化学镀Ni-B合金的最佳工艺条件。按此条件可以稳定地获得含硼量为1～5％的Ni-B镀层。     

工艺参数及稳定剂抗坏血酸对电沉积NiFeW合金的影响

为获得性能良好的镍铁钨合金镀层,研究了镀液pH 值、温度、电流密度、稳定剂抗坏血酸浓度对镍铁钨合金镀层成分和镀层沉积速率、显微硬度的影响。结果表明: 镀液pH 值对镀层W含量和镀层沉积速率影响较大;镀液温度对镀层沉积速率、镀层成分和镀层硬度影响均较大;随抗坏血酸浓度增加,镀层沉积速率逐渐降低,镀层表面形貌更加粗糙。在镀液pH = 4,温度60 ℃,电流密度4 A/dm2,抗坏血酸浓度3 g /L 时,镀层沉积速率和镀层的显微硬度较高,表面光亮致密,耐蚀性好。     

工艺参数及稳定剂抗坏血酸对电沉积NiFeW合金镀层的影响（英文）

为获得性能良好的镍铁钨合金镀层,研究了镀液pH值、温度、电流密度、稳定剂抗坏血酸浓度对镍铁钨合金镀层成分和镀层沉积速率、显微硬度的影响。结果表明:镀液pH值对镀层W含量和镀层沉积速率影响较大;镀液温度对镀层沉积速率、镀层成分和镀层硬度影响均较大;随抗坏血酸浓度增加,镀层沉积速率逐渐降低,镀层表面形貌更加粗糙。在镀液pH=4,温度60℃,电流密度4A/dm~2,抗坏血酸浓度3 g/L时,镀层沉积速率和镀层的显微硬度较高,表面光亮致密,耐蚀性好。     

S135钻杆钢表面Fe-Ni-W合金镀工艺

利用正交试验,选择温度、主盐浓度等4个因素,通过极差分析,确定了S135钻杆钢电沉积Fe-Ni-W合金镀层的最佳制备工艺,研究了镀液pH值、电流密度以及柠檬酸钠对镀层的组分、显微硬度和沉积速率的影响。结果表明：在本试验的制备条件下,获得的合金镀层结构为非晶态;随着镀液PH升高,镀层显微硬度先增大后减小,沉积速率总体呈下降趋势;镀层沉积速率随电流密度增加也逐渐增大,当电流密度从6 A/dm2增大到15 A/dm2时,合金硬度增加趋势较大,从320 HV到540 HV;当增加镀液中的柠檬酸钠含量,铁和钨均呈现增加趋势,而镍含量却出现下降趋势,同时,镀层硬度先增大后减小,沉积速率逐渐减小。     

电化学沉积Ni-W合金纳米晶镀层的组织与硬度研究

采用电沉积制备Ni-W合金纳米晶镀层，研究了纳米晶的形成与镀层组织结构和硬度。随着镀液组分的变化，镀层的表面形貌发生变化；X射线衍射结果表明，Ni-W合金的晶粒尺寸在17-30m之间；镀液组成、pH值、电流密度、温度等因素对Ni-W合金纳米晶沉积层的硬度都有影响，最主要的影响因素是pH值及电流密度。     

碘化钾对铝合金表面化学镀镍的影响

研究了碘化钾(KI)对LC4铝合金表面化学镀Ni-P合金层沉积速度的影响,采用金相显微镜、显微硬度计和交流阻抗等方法考察了碘化钾对Ni-P镀层形貌、显微硬度以及耐蚀性的影响.结果表明:KI使Ni-P合金镀层的沉积速度有所降低,使镀层表面缺陷数量减少,镀层致密性提高.随着镀液中KI含量的增加.镀层显微硬度逐渐降低,但都高于镀液中无KI时所得镀层的硬度.此外,KI也改善了镀层在w(NaCl)=3.5%溶液中的耐蚀性.镀液中KI的适宜含量为10～20 mg/L.     

还原剂对AZ31B镁合金表面化学镀Ni-B合金性能的影响

试验研究了还原剂浓度对镁合金表面化学镀Ni-B合金性能的影响.结果表明,还原剂浓度对化学镀Ni-B合金的镀速、成分、形貌、耐腐蚀性有很大的影响,当还原剂浓度为1.2mL/L时,镀速较大,而且镀层均匀、紧凑、细密,耐腐蚀性良好.     

Process and properties of electroless Ni-W-B amorphous electrical resistance film

The process and properties of electroless plating Ni-W-B alloy have been studied. The results show that the deposits containing W and B are obtained, and the deposition rate of the bath is increased with increase of W content when a certain amount of sodium tungstate solution is added in the Ni-B bath. The Ni-W-B alloy is amorphous as deposition and its resistivity increases directly with the increase of W content in the coating, but decreases gradually with increasing the deposit thickness. XRD and SEM show that the distributions of W and B in the Ni-W-B alloy film are very uniform and dispersed without any segregation.     

铝硅合金表面复合化学镀(Ni-B)-SiC的研究

研究了在铝合金(LG12)表面上复合化学镀(Ni-B)-SiC镀层工艺,对影响镀层镀速的几大因素进行了探讨,确定在铝硅合金上复合化学镀(Ni-B)-SiC的最佳工艺及相关参数.同时对该工艺下获得的复合镀层结构性能进行了研究.结果表明,分散相SiC的嵌入基本没有改变Ni-B基质合金原有的非晶结构.450℃热处理后,复合镀层向晶体结构转变,镀层硬度值HV14737,达到最大.     

化学镀Ni-B和Ni-B/BN镀层微动磨损性能研究

采用化学镀液相沉积技术,以钛合金TA7为基体材料,分别镀覆Ni-B合金镀层和Ni-B/BN自润滑复合镀层,对镀层进行微动磨损性能测试和镀层表面形貌观察.结果表明:在微动磨损过程中完全滑移状态下,Ni-B/BN镀层中六方BN微粒具有类似石墨层状结构,该Ni-B/BN镀层具有自润滑性能,使其摩擦因数比Ni-B镀层低,即Ni-B/BN复合镀层在滑移区耐微动磨损性能要优于化学镀Ni-B二元合金镀层.     

Ni-B合金化学镀包覆TiB2粉的研究

为改善TiB2粉末物性,采用化学镀工艺对其进行包覆Ni—B合金处理。经Hall流动仪检测,包覆后粉末松装密度由1．15～1．17g／cm^3增加到1．38～1．39g／cm^3,粉末流动性由包覆前粉末堵塞霍尔流动性测量仪喷嘴变为94～97s／50g;SEM形貌扫描分析表明包覆效果较好,包覆率大于90％;补加镀液包覆效果更好,镀层更致密,包覆率大于95％。     

化学镀Ni—P—B合金的工艺

研究了以次亚磷酸钠和硼氢化钾为还原剂的化学镀 Ni-P-B 溶液。讨论了镀液组成和工艺对沉积速度的影响.提出获得良好 Ni-P-B 合金镀层的最佳镀液组成和操作条件。结果表明:Ni-P-B 镀层的耐磨性比 Ni-P-B 镀层均好。     

镁合金表面化学镀Ni-P合金稳定剂优选试验研究

在合理选择化学镀Ni-P合金配方和工艺条件的基础上,采用对比实验研究了硫脲、Pb(AC)2、KIO3、KI、Bi(NO3)2几种稳定剂及其复合对镁合金化学镀Ni-P合金镀液及镀层性能的影响。研究发现:适合NiSO4体系镁合金化学镀的稳定剂为KI KIO3,采用复合稳定剂的镀液稳定性及镀层性能明显优于单一稳定剂,在优化的稳定剂及相应的工艺条件下,镀液的稳定性好,镀速高,镀层均匀、致密,孔隙率低,耐蚀性能优良。     

熔模铸造ZA93镁合金的化学镀镍工艺研究

以熔模铸造Mg-9 mass%Zn-3 mass%Al（ZA93）镁合金为基底,分别研究碘离子、乳酸和氟化氢铵对化学镀镍的镀液稳定性和镀层沉积速度的影响规律及其反应机理,并在此基础上优化了镀液配方。用扫描电子显微镜（SEM）、能谱（EDX）和X射线衍射（XRD）等方法对优化镀液中试镀得到的Ni-P镀层的显微组织、相结构以及元素组成进行了分析。结果表明,碘离子与氟化氢铵在一定浓度范围内,可以同时提高镀液的稳定性和镀层沉积速度,但乳酸对镀液的影响机制较为复杂。优化配方镀液的稳定性相对原镀液有了明显的提高,同时保持了较高的镀速,得到的镀层组织均匀、致密和结合良好,为非晶态结构。     

工况条件对化学镀镍硼合金层耐磨性的影响

本文研究了载荷和配对材料对化学镀镍硼合金层耐磨性的影响。结果表明:镀层的磨损量随载荷的增加而加大;配对材料的硬度愈高,镀层的磨损量愈大。