微光信号探测对准技术

通过对光栅对准原理、结构的分析,以及在光刻设备中的实际应用,探讨微弱光电信号探测对准技术。     

二次传递对准方法与应用

针对非线性误差模型的状态估计精度差、收敛时间长、计算量大等缺点,描述了一种基于双模型切换的二次传递对准方法。该方法采用了常用的基于欧拉角的线性误差模型和基于四元数的非线性误差模型。在第一次对准中采用非线性模型与扩展卡尔曼滤波,待子惯导姿态失准角收敛到较小角度后进行模型与滤波切换;在第二次对准中采用线性模型与常规卡尔曼滤波来完成传递对准,从而获取更高的对准精度。通过仿真与跑车试验,证明了该方法能够满足系统的快速性与精确性要求,具有一定的实用性。     

二次离子质量分析法(Ⅱ)关于二次离子质量分析法的基础及应用的诸问题

1.绪言前篇已介绍了有关二次离子放射机构的几个模型,叙述了基于这些模型的定量分析法。本文作为前篇的继续,叙述定量分析的最正统的方法——检量线法,接着关于深度方向的分析以基础事项为主加以叙述。进而介绍关于面分析、立体分析及极微量分析方面具体的应用例,对二次离子质量分析法(SIMS)应用范围的扩大也期望引起注视。SIMS 的将来发展,在很大程度上有赖于二次离子放射的基础研究以及对其放射机构能获得明确的解析。本文的最后部分以二次离子放射为主,叙述有关实验方面的基础研究。2.采用检量线法的定量分析     

基于外参考干涉对准技术的对准系统信号处理方法

给出了基于外参考干涉对准技术的对准系统的对准原理及信号处理流程。包括:基于外参考干涉对准技术的对准系统的对准原理;电子信号处理模块主要结构;信号的处理流程和算法原理,各衍射级次信号的分离方法简述等。     

二次离子质谱技术在砷化镓工艺中的应用

砷化镓工艺过程中出现的问题往往与杂质的分布有关，二次离子质谱技术是研究各种成分的三维分布的主要测试方法之一，由于其自身的特点使其成为分析器件失效原因的最有效的检测手段。利用SIMS技术对砷化镓材料、离子注入、外延生长、光刻、欧姆接触形成、肖特基势垒形成及钝化等工艺中出现的典型问题进行了研究分析，找出了失效原因，为改进工艺提供了依据。     

二次离子质谱技术在砷化镓工艺中的应用

砷化镓工艺过程中出现的问题往往与杂质的分布有关 ,二次离子质谱技术是研究各种成分的三维分布的主要测试方法之一 ,由于其自身的特点使其成为分析器件失效原因的最有效的检测手段。利用 SIMS技术对砷化镓材料、离子注入、外延生长、光刻、欧姆接触形成、肖特基势垒形成及钝化等工艺中出现的典型问题进行了研究分析 ,找出了失效原因 ,为改进工艺提供了依据。     

提高自动对准信号放大倍率的技术措施

本文阐明信号放大倍率与图像识别法自动对准精度之间的内在联系，分析指出提高放大倍率的技术难点和解决办法，给出了满足０．１５μｍ自动对准精度的信号提取方案及实验结果。     

基板二次预对准定心定向数学模型的研究

高精度的预对准分系统是设计现代光刻机需要解决的核心问题之一。在光刻机上载基板的工作过程中,需要进行多次基板对准,主要有:基板预对准、基板二次预对准、基板对准。为了建立基板二次预对准定心定向数学模型,基于基板二次预对准的工作原理,提出了计算定心定向的算法,对该算法进行了仿真分析,并根据输入输出建立了定心定向数学模型。该数学模型的建立,为提高二次预对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。     

二次雷达信号模拟器的设计

简述了二次雷达信号模拟器的构造原理以及相应的软、硬件设计,通过仿真计算机设置目标轨迹,得到目标的距离、方位、高度及其他信息,在信号模拟器的“询问”下,送出目标参数,模拟飞机对地面站的“应答信号”。这样,在两坐标一次雷达只能得到目标距离、方位数据的情况下,通过二次雷达而获得该目标的高度及其他信息,从而得到目标的完整信息     

底面对准曝光中的对准技术研究

主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工作台结构以及对准标记的形式和尺寸的选择。     

二次离子质谱中氧的作用

<正> 一、前言自从出现二次离子质量分析仪以来,已经有十几年的时间了。在初期研究阶段中,主要用Ar~+作为一次离子,样品室的真空度比较差,二次离子行为是不稳定的,也没有得到足够高的检测灵敏度,因此分析的适用范围受到限制,没有得到充分的实际应用。Andersen使用了O_2~+、O~-作为一次离子,这在SIMS历史上具有划时代的作用。可以认为从这个时候开始,SIMS进入了实用阶段,这是由于采用了氧离子使二次离子强度增大而且稳定了的缘故。即使是以Ar~+作为一次离子时,只要样品环境气氛有氧气,二次离子强度也将增加。作者使用自制的SIMS,在分析中一直应用这些现象,大约有5000个各种材料的样品使用体会,深     

用二次离子质谱法分析离子注入层

本文探讨用二次离子质谱法(SIMS)研究离子注入层的纵向浓度分布,同时将 SIMS 与其他近代分析技术进行比较。用 SIMS 分析的薄层厚度可由几个原子层到几个微米。在最佳条件下的检测极限为10~(14)原子·厘米~(-3)(硅中硼)和10~(19)原子·厘米~(-3)(硅中氮)。本文还讨论了确定注入分布的影响因素,并且叙述了使这种影响降到最低的测试方法。     

TDLAS技术气体检测二次谐波信号的仿真与分析

可调谐半导体激光吸收光谱(TDLAS)技术结合半导体激光器可调谐的特点及气体分子对特定波长能量光的吸收特性,凭借灵敏度高、响应时间短等优势广泛应用于气体浓度检测。TDLAS技术气体浓度检测包括波长调制、气体吸收、二次谐波解调等环节,吸收信号的二次谐波分量携带气体浓度信息,用于计算气体浓度。利用MATLAB对气体检测过程进行了信号仿真,并利用数字锁相放大算法提取了二次谐波信号,验证了二次谐波与气体浓度的关系。通过仿真分析了二次谐波信号随调制系数的变化关系,以便确定较佳的调制参数,为后续系统搭建与气体检测实验提供参考。     

CBOC信号处理中的二次采样方法

为了降低信号捕获跟踪运算量,针对Galileo信号CBOC调制提出了一种新的CBOC信号处理中的二次采样算法。分析了CBOC信号调制方式及功率谱密度,介绍了CBOC信号二次采样算法,提出了CBOC信号处理二次采样方法的处理模型。仿真结果表明,CBOC信号处理中的二次采样算法可以实现信号的CBOC解调,降低了运算量并简化了Galileo接收机的捕获跟踪设计。     

二次谐波信号降噪方法的研究

在近红外区域,利用波长调制光谱技术进行气体浓度检测时,光学元件以及电子器件的噪声会影响二次谐波信号的信噪比。为了抑制噪声,提出一种基于经验模态分解、去趋势波动分析和小波自适应阈值的复合降噪算法。该算法针对传统经验模态分解降噪算法中存在的有用信号缺失的问题,利用去趋势波动分析优化对于信息主导本征模函数的筛选,将筛选出的信息主导本征模函数进行信号重构,再用小波自适应阈值算法提高降噪精度。将提出的算法与经典的降噪算法进行对比评估,提出的算法降噪后的二次谐波信号与原二次谐波信号的互相关系数为99.9018%,均方根误差为0.0087%。通过对实验中实际得到的二次谐波信号进行去噪,结果表明提出的算法去噪效果明显,能够保留有用的信息点。     

氩离子激光器的二次谐波锁模

给出了氩离子激光器的二次谐波锁模的产生原理及其特性,在我们的实验中,氩离子激光腔中任何时刻都有两个光脉冲,且模间隔为基频锁模时的二倍,等于210MHz。由于此改变,使脉冲间隔由原来的10ns变到5ns。此外,我们在实验中还观察到了“跳模”现象,即调制频率的很小改变带来模间隔从210MHz跳到105MHz的现象。运用麦克斯韦方程,并求     

光刻对准技术研究进展

回顾了光刻对准技术的发展功能,对各种对准方法的原理和特点进行了分析和评价,介绍了几种典型主流光刻对准系统结构形式,并对光刻对准技术前景进行了描述与展望。     

二次监视雷达信号的处理和分析

二次监视雷达是国内民用航空主要的监视手段,在空中交通疏导、飞行器管理、提升空中交通效率和安全方面发挥着重要的作用,通过对雷达信号分析和处理,获取飞行器和航线的位置关键数据,本文阐述了现今民航领域管制雷达的信号处理技术,随后又对雷达的接收机灵敏度的测量方法做了详细分析,使其保持数据高精度、可完成大量运算、能处理复杂算法等特征。