光电子薄膜的进展

由于光电子器件的迅速发展,对光电子器件应用的薄膜提出了很高的要求。本文简要地论述了光电子薄膜制备技术的重要进展,同时扼要地介绍了本实验室在这方面所开展的初步工作。     

ITO膜生产技术的新进展

用溅射的方法来制备ＩＴＯ膜已应用于平板显示技术，特别是高速磁控溅射技术的出现，又使ＩＴＯ膜实现大量生产成为可能。本文详细论述了ＩＴＯ膜生产线的设计要点，总体方案及其技术性能，并分析了各种工艺参数对ＩＴＯ膜的透光率、面电阻等主要技术指标的影响。     

薄膜材料

光学薄膜技术是在1940年以后随着真空蒸镀法的发展开始普及的.进入六十年代,随着电子枪的发展,其应用领域进一步扩大.装置的进展,促使光学薄膜所用材料也从低熔点的金属和氟化物、硫化物等向高熔点的氧化物方向发展.跨入七十年代,光学薄膜也与其他的领域同样向高功能化、多功能化方     

CVD金刚石膜在光滑衬底表面成核研究的进展

本文叙述了化学气相沉积金刚石薄膜过程中，金刚石在光滑非金刚石衬底表面的成核行为，讨论了目前用于提高金刚石成核密度的一些典型方法的优点和不足。     

纳米硅薄膜分形凝聚模型

从分析纳米硅（ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ）薄膜生长过程的特点出发，提出与扩散限制凝聚（ＤＬＡ）模型不同的ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜分形凝聚模型：扩散与反应限制凝聚（ＤＲＬＡ）模型．获得的结果与实验结果符合得很好．ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜是利用等离子体增强气相淀积方法制备的．文中讨论了ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜的结构特点与分形凝聚之间的关系．     

YSZ／Si上溅射BSCCO高温超导薄膜的工艺参数优化

本文研究了利用ＹＳＺ膜作缓冲层Ｓｉ衬底上溅射ＢＳＣＣＯ高温超导薄膜的生长工艺，分析了生长条件对Ｂｓｃｃｏ高温超导相的影响，并提出了ＹＳＺ／Ｓｉ上制备相ＢＳＣＣＯ膜的工艺参数。     

新型NCAP液晶显示薄膜的原理和应用

本文先简单的介绍TN型LCD的显示原理和结构而后再叙述了NCAP液晶薄膜的结构、特点、显示原理及其应用。     

GdBa2Cu3O7薄膜红外探测器的研究

本文对红外探测器进行理论分析的基础上，设计并研制了液氮温度下的ＧｄＢａ２Ｃｕ３Ｏ７薄膜红外探测器，系统地测试了器件的特征参数。