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193nm浸入式光刻技术独树一帜 总被引:4,自引:2,他引:4
翁寿松 《电子工业专用设备》2005,34(7):11-14
介绍了193nm浸入式光刻机和193nm光刻胶的最新发展动态以及下一代193nm浸入式光刻机。 相似文献
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0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻 总被引:2,自引:0,他引:2
阐述了可实现 0 1μm线宽器件加工的几种候选光刻技术 ,对 193nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述 ,指出其在 0 1μm技术段的重要作用 ,并提出了研制 193nm(ArF)光刻设备的一些设想。 相似文献
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非理想参数下193nm光学薄膜的设计 总被引:5,自引:4,他引:5
193nm光学薄膜是100nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响。结果表明,要镀制出反射率大于98.5%的高反膜.必须将高折射率材料的消光系数k控制在0.0034以内,同时膜层表面的粗糙度σ控制在1nm以内。膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响,要减少膜层水吸收的影响.就必须提高薄膜的致密度.采用离子成膜技术.或者改变膜层的使用环境。在考虑相关因素的前提下,设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜.并分析了其实际性能与设计结果存在差别的原因。 相似文献
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翁寿松 《电子工业专用设备》2007,36(4):17-18
2006年11月英特尔决定采用193nm ArF浸没式光刻技术研发32nm工艺。2007年2月IBM决定在22nm节点上抛弃EUV光刻技术,采用193nm ArF浸没式光刻技术。对于32nm/22nm工艺,193nm ArF浸没式光刻技术优于EUV光刻技术,并将成为主流光刻技术。 相似文献
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提高193nm ArF Stepper分辨率的几种技术 总被引:1,自引:0,他引:1
193nm ArF Stepper是量产90nm芯片的主流光刻机。在此基础上。综合采用浸入式光刻技术和增大数值孔径NA技术等。已制造出193nm ArF浸入式光刻机.它将是量产65/45nm芯片的主流光刻机。 相似文献
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光刻是大规模集成电路制造过程中最为关键的工艺,光刻的分辨力主要取决于光刻投影物镜的光学性能。光刻投影物镜光学元件面形精度为纳米量级,其对光学元件的加工及物镜单镜支撑提出了极高的要求。为193nm光刻投影物镜高精度的单镜面形,设计了一种运动学单镜支撑结构。运用有限元法(FEM)分析光刻投影物镜单镜运动学支撑结构在重力下物镜镜片的面形变化量,经分析物镜镜片的峰值(PV)值为15.46nm,均方根(RMS)误差为3.62nm。为了验证有限元计算精度,建立了可去除参考面面形及被测面原始面形的方法。经过分析对比,仿真结果与实验结果面形的PV值为2.356nm,RMS误差为0.357nm。研究结果表明,所设计的基于运动学193nm光刻投影物镜单镜支撑结构能够满足193nm光刻投影物镜系统对于物镜机械支撑结构的要求。 相似文献
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简述了光学光刻技术在双重图形曝光、高折射率透镜材料及浸没介质、32nm光刻现状及22nm浸没式光刻技术的进展,指出了光学光刻技术的发展趋势及进入22nm技术节点的前景。 相似文献
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193nm光学光刻技术 总被引:2,自引:0,他引:2
目前看来,193nm光学光刻很有希望应用到0.13μm集成电路工业生产中去。本文从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机等方面对193nm光学光刻技术进行了分析,并介绍了它目前的一些进展情况,最后对它的应用前景进行了简要分析。 相似文献
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以近视和散光矫正为例,对193nm准分子激光消融角膜的数学模型进行了推导;研究了193nm准分子激光对角膜的蚀除机理,提出了确定手术中发射的激光脉冲数目以及每个脉冲在角膜上扫描位置的方法,并进行了相应的计算,进而采用间隔N点扫描、随机飞点扫描、连续2点间隔开扫描、连续3点间隔开扫描和分区域扫描等算法,对PMMA板进行了多次扫描实验,并采用裂隙灯对PMMA板表面进行了测量。通过比较,间隔N点扫描和随机飞点扫描算法比较理想,这两种算法已经应用到手术中,并取得了较好的疗效。 相似文献
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分析了膜厚控制误差对反射膜设计曲线的影响,发现高低折射率材料厚度反方向变化时(高折射率膜层厚度增加,低折射率膜层厚度减小),反射膜的反射率变化不明显,设计的膜系结构对这种膜厚变化方式的制造误差宽容.在此基础上制备了193nm反射膜,结果表明退火前光学损耗相对较大,实验结果与理论计算结果存在一定差距,并且散射损耗在总的光学损耗中所占比例很小,而吸收损耗占光学损耗的主要部分,起主导作用.退火后光学损耗明显下降,实验结果与理论计算结果更为接近,193nm反射膜的反射率达98%以上.散射损耗增加至接近吸收损耗的水平,不过在总的光学损耗中仍然占比较小的比例.说明当吸收损耗下降到一定程度时,散射损耗所起的作用也是不可忽视的. 相似文献