掩模硅片自动对准误差校正算法

为了改善对准精度,对100nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中。掩模硅片自动对准算法决定机器坐标系、掩模坐标系、硅片坐标系相互的位置关系,可很好地校正由掩模硅片引起的平移、线变、旋转、正交性的偏差。     

X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究

作为微细加工技术之一的高分辨率光刻技术--同步辐射X射线光刻(XRL)可应用于100nm及100nm节点以下分辨率光刻,高精度对准技术对XRL至关重要,直接影响到后续器件的生产质量。目前国内的XRL对准系统主要采用CCD相机和显微物镜采集图像,经过计算机图像处理程序进行自动对准;图像边缘分辨是图像处理部分的关键,直接决定了对准精度。针对3种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的研究,并且初步设计了几种对准标记。     

一种掩模与硅片的底面自动对准方法

硅片对准标记中心位置的求解是掩模与硅片底面自动对准的重要环节.对于对称标记图像,提出了基于矩的中心位置求解方法;对于非对称标记图像,采用Hough变换和聚类分析的方法求解标记中心位置.在此基础上,提出了掩模与硅片底面自动对准的方法.仿真实验证明了该对准方法的有效性.     

一种数字光栅无掩模光刻对准方法

针对数字微反射镜装置(DMD)无掩模光刻系统,提出并研究了一种数字光栅无掩模光刻对准方法,将硅片的微位移放大显示在数字光栅与硅片物理光栅叠加产生的叠栅条纹中。建立了基于DMD的数字光栅无掩模光刻对准模型,设计了对准标记以及具体的实现方案,并对模型进行了数值仿真和初步的实验验证。结果表明,采用频率可变、图像干净、具有良好周期性结构的数字光栅代替传统的真实掩模光栅,真正实现了零掩模成本;并且采用变频率数字光栅可以扩大测量范围,减小位移测量误差。最终可以实现深亚微米的对准精度,满足目前无掩模光刻对准精度的要求。     

同轴对准系统及输出光强的机辅分析

介绍亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统的成像机理和工作过程。该系统在掩模和硅片上均刻有时准光栅标记。经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩模和硅片之间的直接对准，同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制，由电路实施解调，提供了一种保持高信噪比，又使弱信号探测不降低精度的对准方案；并通过计算机辅助分析的手段，讨论了ＳＡＶＡＲＴ的剪切量、工件台运动速度等对该系统输出信号的影响。     

基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究

针对接近接触式光刻技术的特点,提出了一种实用的反射式光刻对准方案。方案采用差动叠栅条纹对准技术,以叠栅条纹相位作为对准信号的载体。在掩模和硅片上分别设计两组位置相反、周期接近的光栅对准标记。电荷耦合器件(CCD)成像系统接收叠栅条纹图像,采用傅里叶变换提取叠栅条纹相位,得到掩模与硅片的相对位置关系。设计的标记可同时探测横纵方向的对准偏差。给出了合理的光路设计方案,详细分析了整个系统对准的内在机制,建立了可行的数学模型。研究表明,当对准偏差小于1pixel时,最大误差低于0.002pixel。与透射式光路对比,该方案更具有实用性,满足实际对准的要求。     

亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统及输出光强的机辅 …

介绍亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统的成像机理和工作过程。该系统在掩模和硅片上均刻有对准光栅标记，经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩和硅片之间的直接对准，同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制，由 电路实施解调，提供了一种保护高信噪比，交换弱信号探测不对准方案；并通过计算机辅助分析的手段，讨论了ＳＡＶＡＲＴ的剪切量、工件台运动速度等对系统输出信号的影响。     

光栅衍射式同轴对准系统中影响对准精度的因素分析

对掩模，硅片同轴对准系统中影响对准精度的诸因素进行了理论分析，阐述了误差形成机理及相应的对策，以理论分析指导精度实验取得了±0．06μm(3σ)对准精度。     

镍硅化物工艺新进展

随着MOSFET器件的特征尺寸进入亚100 nm,传统自对准硅化物材料,如TiSi_2和CoSi_2,由于其硅化物形成工艺的高硅耗、高形成热预算和线宽效应等特点,已不能满足纳米尺寸器件对硅化物材料的要求,显现出其作为自对准硅化物材料的局限性.NiSi与传统自对准硅化物材料相比,不但具有硅化物形成工艺的低硅耗和低形成热预算,而且具有低电阻率,又不存在线宽效应.所以,NiSi作为纳米尺寸器件最有希望的自对准硅化物材料得到广泛的关注和研究.综合介绍了镍硅化物特性,一硅化镍薄膜形成工艺及其工艺控制问题.     

Nikon光刻机对准系统概述及模型分析

对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机（Stepper）的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式：LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点。并结合数学模型对影响Nikon对准模型信号强度进行分析,为提高对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。     

全自动引线键合机上的图像视觉系统

整理后的译文详细介绍了电子封装行业中使用的引线键合机的自动对准图像视觉系统 ,阐述了系统有关组成、对准技术、原理及操作界面图形。     

先进ATHENATM选用策略与对准功能

基于先进科技对准规格的减缩,对准仪量测数据的应用也变得更为重要。不同对准策略的选择所引起的结果,对全部对准预算有很重要的影响。介绍两个主要科技研发项目:先进对准配套和对准标的设计。     

基于特征点对齐度的图像配准方法

该文提出了一个新的匹配准则特征点对齐度准则,并在此基础上提出了一种基于特征点对齐度准则的图像配准方法。首先,利用小波多尺度积提取出图像的特征点及其角度信息,再利用该文提出的特征点对齐度准则计算所有特征点对之间的对齐度,从而得到匹配点对。实验结果证明了该方法的精确性和有效性。     

液晶光学相阵列相移单元的电压-相移特性

液晶光学相阵列是一种新型的光学相位调制器件,为分析器件中相移单元的电压-相移特性,建立了液晶相移单元的数学模型,并提出了一种混合差分迭代算法。该算法根据液晶分子在电场作用下的物理变化过程,在指向矢与电位的耦合迭代过程中,采用追赶法计算相移单元中的电位分布。根据该算法对相移单元中液晶指向矢的分布进行了仿真计算,进而对取向膜厚度、预倾角和液晶盒厚度对器件的电压-相移特性的影响进行了分析。结果表明,当电压处于阈值电压与饱和电压之间时,取向膜厚度对液晶的电压-相移特性的影响比较明显。     

Iterative algorithm for automatic alignment by object transformation

Mathematical model for automatic alignment of wafers was derived under the assumption of the ideal condition of alignment marks. Because wafers were fabricated under non-ideal conditions at the factory level, the wafers were difficult to align during the manufacturing process. The errors from the distortion were reduced by repeated application of an ideal alignment sequence algorithm. The alignment algorithm, which was modified to be iterative, is based on the object transformation and is composed of matrix operations like a linear model. The convergence speed of the iteration could be varied by use the convergence constant η. The accuracy of the algorithm was demonstrated by a dicing machine used in an experiment. The alignment was repeated until the error was under the tolerance level of the inspection system. The convergence constant was varied to monitor its effect on iterative alignment speed. The result showed that this iterative algorithm was simple but accurate enough for application at the manufacturing level.     

对标准记处理的改进亚象素细分定位算法

提出一种的适合对准标记图像处理的改进亚象素细分定位算法，并提供了完善这种定位算法的缩小检测窗口的方法。     

Automatic Phase Alignment for the Karhunen-Loève Expansion

A procedure for automatic phase alignment of training waveforms prior to computation of K-L basis functions is described. Two computer algorithms for accomplishing the phase alignment which have been developed and applied to electrocardiogram waveforms are discussed. One is a local maximum seeking algorithm which works well for waveforms which are already nearly aligned. The other, a global maximum seeking algorithm, has been successfully applied to highly misaligned sets of waveforms. Extension of the procedure to automatic frequency alignment is also discussed.