中日电子显微学讨论会在大连召开

中日电子显微学讨论会于1981年7月27日至31日在大连市举行。日方20名著名科学家和我方73名电子显微学工作者(其中37名是列席代表)参加了会议。在全体会议上,中国科学院金属研究所研究员郭可信及日本大阪大学应用物理系桥本初次郎教授分别作了《电     

等离子体化学是当代最活跃对人类未来具有重要影响的高科技领域之一

一、概述第二届中日等离子体化学会议与第三届日本等离子体化学会议,第二届日韩(南朝鲜)等离子体化学会议于1990年7月23日至25日在日本东京私学会馆联合举行.除中、日韩的代表100余人外还有二名美国代表和一名苏联代表参加,会议共发表论文74篇,其中大会邀请报告12篇(中、日、韩各四篇),除会议交流外,会外还进行了广泛深入的交流,此外还以一天时间参观了日本科学城筑波(日本硅谷)的无机材料研究所、国立化学研究所,会后顺访了名古屋大学的气体电子学实验室、等离子体研究所,大阪大学的激光研究所和气体电子学实验室.     

“现代高功率激光器及其应用”国际研讨会

1999年11月1～5日在日本大阪大学激光技术研究所召开了“现代高功率激光器及其应用”国际研讨会。会议的主席有诺贝尔奖获得者汤斯教授(美国伯克利加州大学)和Х．oka教授(日本三菱公司)。会议由来自大阪激光热核聚变规划前领导人С．Нakaй教授倡导。会议的财政支持来自日本激光协会和国际光学技术协会(SPIE)。会议由平行的五个分会组成：     

日本第15届离子注入和亚微米加工会议简况

应日本大阪大学教授难波进的邀请,我所朱能通副所长和我参加了日本第15届离子注入和亚微米加工会议。会议于1984年2月1～3日在日本东京召开。会议由日本学术振兴会“带电粒子在工业方面的应用”第132委员会、日本应用物理学会以及东京理化研究所联合举办。它是日本国内有关半导体微细加工研究的全国性会议。每年一次,会议同时邀请外国从事这一领域研究的专家和学者参加。会议宗旨是介绍离子注入,电子     

CISPR 2008年会主要技术内容——CISPR／A

CISPR2008年会于2008年10月20日至29日在日本大阪召开,中国代表团参加了部分分会的会议。为了使读者了解此次年会的具体情况,我们特邀国内会议代表对会议主要议题进行介绍。     

CISPR 2008年会主要技术内容

编者按:CISPR2008年会于2008年10月20日至29日在日本大阪召开,中国代表团参加了部分分会的会议.为了使读者了解此次年会的具体情况,我们将邀国内会议代表对会议主要议题进行介绍.     

会展信息

第四届大阪自动识别综合展在日本大阪举办2007年2月15日—16日在日本大阪市由JAISA(日本自动识别系统协会)举办了第四届大阪自动识别综合展,同时     

“现代高功率激光器及其应用”国际研讨会

1999年 1 1月 1～ 5日在日本大阪大学激光技术研究所召开了“现代高功率激光器及其应用”国际研讨会。会议的主席有诺贝尔奖获得者汤斯教授 (美国伯克利加州大学 )和Х .Ока教授 (日本三菱公司 )。会议由来自大阪激光热核聚变规划前领导人 С.Накай教授倡导。会议的财政支持来自日本激光协会和国际光学技术协会 ( SPIE)。会议由平行的五个分会组成 :·高功率激光烧蚀 ;·高能工程中的高功率激光器 ;·民用工程和建筑业中的高功率激光器 ;·工业中的高功率激光器 ;·高功率激光器的新进展。在这些会议上讨论的高功率激光器及其应用…     

国外同行来信选摘

(一)三石明善(日本大阪大学工学院应用物理系教授): 喜闻中国光学学会创办之新刊《红外研究》问世,谨致衷心祝贺! 一九八四年十月二十一日至二十六日将由日本主办第九届国际红外和毫米波会议,届时期望和欢迎贵国参加。     

92年日本显示会议简况——12届国际显示研究会议

国际显示研究会议是信息显示的年会,每年秋季在美国、欧洲各国和日本轮流召开,这次会议是由信息显示学会和日本电视工程研究所联合主办,在日本广岛国际会议中心召开的。会议中心在广岛和平公园一角,近邻原子弹爆炸纪念馆,环境格外优美,公园周围垄罩着和平的期望和整年燃烧着悼念原子弹爆炸死难者的焰火。会议日期为1992年10月12日～14日,会议后在大阪参观日本电子产品展览,会议时间安排紧凑,发表论文208篇,其中综述报告2篇、大会邀请报告2篇,分会邀请报告26篇,口头报告111篇,墙报67篇。这次会     

日本物理学会举行年会

日本物理学会第23次年会于今年四月一日至六日在大阪大学举行。会议分磁性物理、宇宙线、等离子体、晶体生长、半导体、量子电子学等三十余个专业组。研究报告计1,245篇。其中会议12篇,综合与专题报告35篇,非正式会议三十九篇。     

第三届国际显示研究会议简介及在日考察报告

第三届国际显示会议于1983年10月3日至5日在日本神户召开。6日与会代表到大阪参观了83年全日本电子工业展览会。我国电子工业部派了三人代表小组出席了会议,会后参观了日立、东芝、东京农工大学、安田电研(株)、东京大学等单位,与国外一些专家、教授座谈讨论了显示和摄象器件方面的发展方向及一些技术问题。     

日科学家发明高性能存储器

日前在日本千叶县召开的日本应用物理学会会议上，科学家发布了由松下公司、东北大学、东京工业大学和大阪大学联合开发的利用蛋白质制造高性能存储器的技术。     

七七年将在日本举行集成光路及导光纤维国际会议

1977年7月18～20日将在日本东京召开集成光路及导光纤维国际会议,会后7月22日在大阪召开同样内容的座谈会。这次会议由日本电气学会和电子通信学会主办,大约有20个国家参加。会上将发表有关集成光路、导光纤维及传输系统的研究报告。这次会议的主要议题有以下10项:(1)薄膜光波导(包括理论研究、材料、新设计、组装技术、传输系数、耦合、连接及测试等内容);     

SO／IEC JTC1／SC36教育技术标准领域最新动态

2010年3月6～15日,ISO／IEC JTC1／SC36（信息技术学习、教育和培训）第21届全体会议在日本大阪召开,中国五位专家出席了会议。中国代表团重点参加了WG2、WG3、WG4和WG6工作组及全体会议。     

第九届国际微电路工程会议简况

第九届国际微电路工程会议已于1983年9月26—29日在英国剑桥大学举行,参加会议的代表有200多人。由英国剑桥大学的H.Ahmed,日本大阪大学的S.Namba,英国康纳尔大学的E.Wolf等七人组成会议的指导委员会。北京师范大学低能核物理研究所,科学院上海冶金所,电子工业部平涼半导体工艺设备研究所和长沙半导体工艺设备研究所都派代表参加了这次会议。     

ISO/IEC JTC1/SC36教育技术标准领域最新动态

2010年3月6～15日,ISO/IEC JTC1/SC36(信息技术学习、教育和培训)第21届全体会议在日本大阪召开,中国五位专家出席了会议.中国代表团重点参加了WG2、WG3、WG4和WG6工作组及全体会议.     

国际

夏普出售27．4亿美元资产裁员10966人 9月25日,日本共同社获得的夏普重组计划显示,这家处于困境中的公司计划在日本和海外裁减10,966名职员,同时将在明年3月底前出售其资产以筹集2131亿日元资金。这家位于大阪的消费电子制造商于9月24日向一些金融机构提交了该计划。     

赴日技术考察报告

我与陈立春台长等三人应日本朝日商工贸易株武会社和日本有关公司、电视台的邀请于91年11月12～2313赴日本进行技术考察。先后参观考察了日本名的松下（panasonie）公司及生产工厂（大阪本部）、日立电子株式会社及生产工厂、SONY公司、朋荣公司（东京），     

彩色数字会议电视系统

一、引言会议电视的概念不是最近才出现的。早在1930年,在纽约的Bell实验室和AT&T总部展示了一个双向的以模拟信号传输的可视电话系统。由于模拟信号传输的成本较高,因此会议电视的发展缓慢。进入70年代末和80年代初,各国竞相研究经过信息压缩的数字会议电视系统。如日本的TRIDEC、NETEC、HasKell和西欧的COST 112方案。这些方案都是以一次群和二次群传输速率为目标进行研制的。日本在1983年于东京-大阪之