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相似文献
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1.
日本三菱电机公司根据JEDEC标准已制成二种16MbSRAM的产品——“M5M4V16807A”,“M5M4V164O7丸’,并于1994年2月开始销售。产品结构:I“07A为ZM字节X8位,16407A为4M字节”4位。工艺采用0.SPinCMOS,二层铝布线。电源电压为单一3.3V,CPU的钟频为100MHz,由于把数据寄存器输出弓!线间的数据总线做成Th段流水线,已实现gns以下数据传输时间。另外,在芯片内部采用装载128位数据寄存器的寄存器方式,在IO6MHZ的频率下可稳定工作。耗散电流在脉冲工作时为150mA,在待机时为2.smA(豆obMHz,VC。为3.6V),在自恢复…  相似文献   

2.
夏普公司为了满足用户的需要,首先开发混合RAM和ROM的存储器,型号为LH6P81T,并已开始销售。该产品与用RAM和ROM芯片构成的以前计算机系统的存储器相比较,具有以下特点:1.没有产生在ROM侧面的剩余存储器空间,完全有效利用8位。2.由于RAM和ROM一体化,可用同一速度存储,地址管理变得更简化,能开发有效的软件。3.可进行减少空间的设计等。夏普公司首先开发混合RAM和ROM的存储器@一凡  相似文献   

3.
日亚化学工业公司成功地使用GaN系材料制作的蓝紫色半导体激光器,进行了室温脉冲振荡。该器件使用InGaN多重量子阱结构为其激活层。该半导体激光器的脉冲宽为1μs,占空比0.001条件下接通电流时,开始产生电流密度为4kA/cm2的振荡。最大脉冲功率为几+mW,发光光谱的半值宽为1nm~3nm。目前传统开发中的蓝色半导体激光器采用ZnSe系材料。这次开发采用GaN系材料是对短波长半导体激光器在选材上的有力补充。该公司已开发的GaN系蓝色发光管亮度为2.5cd,绿色发光管亮度为12cd。GaN系材料的蓝紫色半导体激光器@孙再吉…  相似文献   

4.
2000年开始推出基于ARM内.核的MCU至今,恩智浦已经为全球市场提供了10亿颗MCU,恩智浦是全球最早推出基于ARMCortex.M0、Cortex.M3和Cortex—M4内核的MCU的公司,也是目前业界唯一能够全线提供这三种内核MCU的公司。  相似文献   

5.
4Mb掩模ROM     
日本三菱电机公司应用1.2μm CMOS技术和高速电路设计技术研制成功的M5M23C 400P型4Mb掩模ROM,最近开始批量生产。  相似文献   

6.
据《SermiconductorWorld》Vol.13,No.12报道:富士通公司业已开发5V单电源的16M位快速存储器[MBM29F016],现已出售样品。该公司看到了快速存储器的需要量逐渐增加的趋势,决定与AMD成立联合公司共开始开发这种产品,16M位快速存储器是其第一批拳头产品。新产品使用负栅擦除技术,实现了5V单电源的同时,采用设计规范为0.5m的CMOS技术,实现了芯片尺寸为87.12mm2(9.68mmx9.00mm)的愿望。另外,即使是在随机读出的场合下,读出时间最大为90ns,器件在进行擦除和写入期间,解放CPU是可能的。改写次数可保证在10万次左右,…  相似文献   

7.
据《电子材料》杂志1996年第2期上报道,三菱电机公司和日立制作所共同开发了16M位DINOR型闪烁存储器,现在已开始出售样品。DINOR型存储单元是三菱电机公司单独开发的,它具有NOR型的高速性和NAND型的高集成性等两大特点,同时也是能够实现低功耗化的单元。使用这个单元.在原来采用单电源实现低功耗化较为困难的闪烁存储器中,在世界上首次同时实现了3.3V单电源化和高速随机存取80ns(最大)。另外,还考虑到易于使用等功能。三菱电机/日立制作所共同出售16M位DINOR型闪烁存储器  相似文献   

8.
Photonic Products公司的Sanyo405nm半导激光器能提供20mW、45mW或者85mW的能量输出。DL-4146—101S能输出20mW的光学能量,阈值电流26mA,典型的工作电流为35mA,工作电压4.8V,监控输出电流0.2mA。DL-5146—101S型号提供45mW能量输出,阈值电流为35mA,典型工作电流70mA,工作电压5.2V,监控输出电流0.3mA。最后,85mW的DL-7146—101S激光器,阈值电流为45mA,典型工作电流110mA。工作电压5.4V,监控输出电流0.3mA。  相似文献   

9.
《电子产品世界》2005,(1B):49-50
Pulse公司宣布推出新过孔磁屏蔽功率电感系列。该PG0220系列与T-socket的处理器一起工作,适合台式计算机、便携机、工作站和服务器稳压模块(VRM)等应用,而且可用作降压变换器和DC/DC变换器中的扼流圈。PG0220电感的额定电流高达38A,电流饱和容量为50A,电感值范围是0.14~2.25μH。其低直流电阻范围是0.70~5.30mΩ(最大)  相似文献   

10.
1.引言从1993年开始,全世界CD-ROM的市场需求迅速上升,且其势头只增不减。短短几年来,CD-ROM驱动器的装机台数已达到1亿台,用户遍及各行业。在这样背景下,对可写光盘甚至是可改写光盘的推动也空前强劲起来。一些公司正在寻求创作自己的CD-ROM,用650MB的光盘来发布其数据;而另一些公司甚至希望把它们当作软盘使用。显然,不管是可写光盘或可改写光盘,它们的格式必须后向兼容。也就是说,写在这类光盘上的数据必须能在现有CD-ROM驱动器上读得出来。积累多年来在相变型光盘的开发与生产方面的经验,松下终于捷足先登,于…  相似文献   

11.
《电子与电脑》2011,(7):106-106
致力于实现多样化连接性系统的领先半导体厂商SMSC宣布,该公司的ViewSpan5G UFX7000 USB3.0图形控制器、LAN9513 USB 2.0集线器和以太网络控制器已获三星Central Station显示器产品采用,并已开始出货。Central Station可在用户的工作空间与显示器、网络和影音组件以及移动电话、MP3播放器、  相似文献   

12.
瑞萨科技公司近日宣布推出8位微控制器 M37544G2A,这是在7544系列中纳入了 QzROM存储器 (瑞萨科技公司的名称)的产品。 QzROM是一种新研制出来的可编程存储器。由于芯片中使用这种新研制出来的可编程存储器,交货时间可以比以前更短。将于2004年8月3日开始在日本提供样品。瑞萨科技计划扩大在芯片上包含QzROM存储器的“QzROM微控制器”产品线。 M37544G2A是第一个问世的这种产品。M37544M2、包含掩模ROM存储器的M37544G2及一次可编程(OTP)的产品是用于家用电器和移动设备的7544系列8位微控制器,而M37544G2A 是继这些产品之后的…  相似文献   

13.
据报道,日本冲电气工业新开发了发光效率提高10倍以上的发光二极管阵列。过去开发的GaAsxP(1-x)LED)阵列,驱动电流为3mA时的每单位电流的发光强度约为5μW。这次开发的LED阵列.在发光层采用了AlxGa(1-x)As材料.在驱动电流4mA条件下.每单位电流的发光强度高达100μW.使用该材料的光波长为750nm。该LED阵列。是采用控制杂质扩散的固相扩散技术形成的.在一块芯片上以21.2μm间距排列了256个LED。发光效率提高10倍的发光二极管阵列@孙再吉  相似文献   

14.
日立制作所开发耗散功率1.2μW、工作频率100MHz、0.5μPrnCMOS门阵列IIG72G系列,并从1994年6月开始销售。该系列最大使用门数约50万门,工艺采用0.SHrn三层AI布线,申源电压为2.7V、3.3V时的门速度为0.Zns,与以前该公司产品相比速度提高1.5倍,耗散功率为1.ZZ。W,与该公司的产品相比减少1/2左右。封装采用QFP和PG八,也在研制BGA的封装,50万门的JI:IG72G6677/为]2万日元(购买1000个时的单价)。日立公司开发0.5μm CMOS门阵列@一凡…  相似文献   

15.
日本电信电话(NTT)公司已研制成为实现下一代LSI的基本技术——一超细W]CMOS电路。在加工技术上,采用可替代紫外线的X线,现用0.ZPm的工艺水平,已使器件做到小型化,速度可提高3倍,电压降低1/2,可用一节干电池工作,能使存储LSI高集成化和微处理器小型化,可开发携带式的电子产品。制作方法:用5OR微细加工,开槽后布线,使用在柏中只附着Al布线材料的薄膜生长技术。另外,在衬底中埋入氧化硅绝缘膜,可减薄衬底厚度NTT公司开发CMOS的0.2μm电路@一凡  相似文献   

16.
据美国DISK/TREND公司预测,到2001年,DVD-ROM设备的产量为7972.7万台,将超过CD-ROM设备的4605.3万台。1997年DVD-ROM设备实际生产119.9万台,约为CD-ROM7458.1万台产量的六十分之一。此后DVD-ROM设备将迅速增长,预计CD-ROM设备产量在1999年达到颠峰的8729.5万台后开始下降。可写入的光盘设备(包括可写入一次和可改写型)当中,符合CD及DVD格式的(CD-R、CD-RW、DVD-RAM等)将占优势。可写入式DVD机器将在2000年以后大量增加。容量在4GB以上的光盘设备,包括美国TeraStor公司和Quinta公司从…  相似文献   

17.
据《电子材料》1995年第4期报道,目前,三菱电机公司业已开发出了一种适用于千兆位级DRAM的低电压、高速DRAM电路技术。以该电路技术为基础,采用0.4PmCMOS工艺试制了1.2V工作的16MDRAM,在电源电压为1.2V的低电压下实现了存取时间(tRAC)为49ns的高速工作。本开发课题的主要内容如下:(1)即使是在低电压下,也可实现高速读出工作(可能的Charge-TransferredWellSe-nsing方法),在电源电压Vcc=1.2V下,实现5ns(19)的高速化是可能的(估计了16MDRAM的模拟值)在本读出方法中,在读出开始的同时,由于可以作到使…  相似文献   

18.
日本索尼公司已研制成成世界最高存取速度gns的高速16MbSRAM。在用于电路内信号放大的读出放大器中,由于采用输入阻抗小的反馈型电流读出放大器,这种产品可用作高速存取。以前的SRAM采用电压读出放大器,而现今采用输入阻抗小的电流型读出放大器,可做到小的信号电平,实现数据传输速度的高速化。由于采用反馈型,减小小信号电平输出信号的偏移,再采用受激准分子激光光刻的最先进超微细加工技术,已达到最小线宽为0.35pm的高密度。世界最高速的16M SRAM@平凡  相似文献   

19.
3M电子公司推出适合硬公制、CompactPCI、VME和PXI系统中多千兆网络应用的超硬公制(UHM)插槽连接器,其背板性能大于7Gb/s。据3M公司透露,虚拟同轴盒屏蔽技术与标准2mm硬公制插槽相比,可大幅降低串扰,并改善插损。该连接器与工业标准的2mm、硬公制插头连接器(IEC61076.4—101)配合使用,可让现有2mm系统设计实现多千兆性能,这样,标准的Compact PCI和VME 64x系统可支持高速串行I/O协议,如SAS、SATA、RapidIO、PCI Express和千兆以太网协议,而无需耗资进行背板重设计或交叉式升级。  相似文献   

20.
据报道,16MDRAM第三代芯片的样品已开始销售,日立制作所,NEC,韩国Sams-ungElectronicsCo.等公司将于1994年至1995年初开始销售。芯片尺寸为70mm2,使用64M技术的缩版(Cut-down),例如,日立公司把64M单元的鳍型叠层结构用于6M的第三代版中。另外,64M方面,在已销售样品的NEC公司月产为数千个,达到使用阶段。同步版也问世。富士通公司从1994年8月开始销售样品。0.35μm样品的芯片面积为232mm2。16M DRAM的第三代芯片问世@一凡  相似文献   

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