适用频率达到20GHz的射频CMOS衬底电阻的精确提取

通过对CMOS的PSP模型中四衬底电阻网络的等效电路进行Y参数分析,得到衬底电阻参数的完整提取方法.应用该方法提取了90nm CMOS工艺中射频nMOS器件的衬底电阻参数,实验数据和仿真比较表明该衬底电阻网络和相应的参数提取方法能精确预测器件的输出性能,模型精度确保使用频率可以达到20GHz以上.     

一种面向SOC的衬底噪声宏模型

针对SOC中常见的衬底噪声耦合问题,通过将器件模拟与拟合法相结合,基于0.25 μ m CMOS工艺提取衬底结构参数建立了电阻宏模型.该模型被应用于CMOS放大器电路,利用Hspice进行仿真,仿真结果表明,该模型从时、频域角度都能较好地表征出衬底噪声对模拟电路性能的影响,对深亚微米混合信号电路设计具有重要的指导意义.     

一种CMOS混合信号电路衬底噪声耦合模型

利用二维器件模拟器MEDICI提取出重掺杂外延型衬底的电阻宏简化模型,所需的6个参数均可通过器件模拟得到,能够精确表征混合信号集成电路中的衬底噪声特性。基于0.25μm CMOS工艺所建立的电阻宏模型,设计了简单的混合信号电路进行应用验证,证明了该模型能够有效表征混合信号集成电路的衬底噪声。     

尺寸可变的65nm多叉指射频CMOS器件模型提取与优化

通过对CMOS PSP直流核心模型进行STI参数的修正、探针电阻的引入和提取以及尺寸可变的源漏寄生电阻表达式的引入,呈现了一个尺寸可变的65 nm多叉指射频CMOS器件模型及其提取和优化方法.与实验数据比较结果表明,该模型及其提取和优化方法能够在14 GHz以内精确地预测器件性能.     

混合信号电路的衬底电阻网络模型

通过等效电路数值提取方法，提出了衬底电阻网络模型，该模型具有清晰的物理意义，可获得很好的精度，有利于混合信号电路衬底耦合效应的模拟。将该模型应用于规则和不规则区域的电阻值提取，用Hspice电路模拟器对电阻网络进行模拟，与Medici器件模拟器模拟结果和解析公式结果进行比较，证明了该模型的准确性。     

深亚微米CMOS混合信号电路衬底噪声耦合宏模型

提出了一种基于二维器件模拟的深亚微米工艺外延型衬底的电阻宏模型.该宏模型通过器件模拟与非线性拟合相结合的方法建立,使衬底寄生参数的提取更加方便,同时保障了深亚微米电路特性的模拟精度.此外,该宏模型结构简单,可以得到与器件模拟基本一致的模拟结果,并可以方便地嵌入SPICE中进行一定规模的电路模拟.     

应用于变化条件下延时分析的反相器模型

 本文提出了一个考虑衬底耦合效应的门延迟模型.该模型在考虑衬底耦合效应下转换CMOS反相器的延迟为等效电阻和电容(RC)网络延迟.考虑工艺参数扰动和衬底耦合效应对门延时的影响,建立基于工艺扰动的简单开关电容门延迟模型,结合随机配置法和多项式的混沌展开法分析门延时.利用数值计算方法对本模型和分析方法进行验证,结果表明与HSPICE精确模型仿真结果的相对误差小于2％,证明本模型和分析方法的有效性.     

体硅CMOS器件中寄生p-n-p-n通路的闭锁模型

单片CMOS电路所固有的寄生双极晶体管和p-n-p-n通路可能被触发到所不希望的低电阻和高电流状态即产生闭锁现象。为了确保将来的按比例缩小的CMOS电路能安全地工作,因此需要一个精确的闭锁模型以便使设计最佳化。 曾经开发过一个改进型的集总电阻模型,只要能精确地测量器件参数并在闭锁状态反映这些参数,该模型就能精确地预示闭锁特性。该模型包含由一个电阻网络来等效的衬底扩展电阻效应且它在闭锁特性中是一个关键参数。本文还报导了支持这种模型的实验数据。 CMOS电路中的反向设计产大地改善了闭锁保特电流,同时也表征了由电路输入端外电压过冲引起的闭锁动态特性。表明存在一个引起闭锁触发的最小导通时间,并由因高注入效应而增强了扩散系数的横向晶体管的基区滚越时间来决定。     

一种新型的基于SOI MOSFET 衬底模型提取方法

衬底寄生网络建模和参数提取,对RF SOI MOSFET器件输出特性的模拟有着非常重要的影响。考虑BOX层引入的体区和Si衬底隔离,将源、体和衬底短接接地,测试栅、漏二端口S参数的传统测试结构,无法准确区分衬底网络影响。文章提出一种改进的测试结构,通过把SOI MOSFET的漏和源短接为信号输出端、栅为信号输入端,测试栅、漏/源短接二端口S参数的方法,把衬底寄生在二端口S参数中直接体现出来,并开发出一种解析提取衬底网络模型参数的方法,支持SOI MOSFET衬底网络模型的精确建立。采用该方法对一组不同栅指数目的SOI MOSFET进行建模,测量和模型仿真所得S参数在20GHz频段范围内得到很好吻合。     

非规则栅结构PD CMOS/SOI器件SPICE模型参数分析

针对抗辐照设计中特殊非规则条栅栅结构的CMOS/SOI器件,分析其SPICE模型参数,对源漏电阻、电容、体接触电阻等其他模型参数作出调整,建立非标准器件的完整精确模型.设计制作了多种不同非标准栅结构的PD CMOS/SOI 晶体管,并采用新的SPICE模型参数来模拟这些器件.模拟数据和试验数据具有很好的一致性,证明所建立的模型具有较高精度,适合抗辐照电路设计应用.