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报道了共振隧穿二极管(RTD)在压力下的弛豫振荡特性.采用Pspice 8.0软件仿真并设计了振荡电路,测得其振荡频率达200kHz.在(100)半绝缘(SI)GaAs衬底上利用分子束外延(MBE)技术生长了AlAs/InxGa1-xAs/GaAs双势垒共振隧穿结构(DBRTS),并采用Au/Ge/Ni/Au金属化和空气桥结构成功加工出了RTD.由于RTD的压阻效应,采用显微喇曼光谱仪标定所加应力大小,对RTD在加压条件下的振荡特性进行了研究,结果表明其弛豫振荡频率大致有-17.9kHz/MPa的改变量. 相似文献
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表观正阻是RTDI-V特性上峰值电压VP大于谷值电压VV的现象。以前的观念认为它来源于RTD和其负载电阻RL构成的锁定单元,但未阐明负载电阻产生的物理过程。对表观正阻现象产生的物理机制进行了更进一步的研究,发现了RTD串联电阻增大时形成RL/RTD锁定单元的物理过程,为建立APR的物理模型奠定了基础。 相似文献
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在深入分析共振隧穿二极管(RTD)开关前后内阻变化和RTD串联组合中不同RTD电压分布随总偏压变化的基础上,深化了“遏止(Q uench ing)”的概念。并进一步以此概念说明了RTD/HEM T电路中,单-双稳转换逻辑单元(M OB ILE)、多值逻辑(M VL)文字(L itera l)逻辑门、三态反相器(T ernary inverter)等逻辑单元的工作原理。通过此种分析,证实了“遏止”概念是解释和分析复杂RTD电路原理的强有力工具。以上论证也适用于由其它负阻器件构成的逻辑电路。 相似文献
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紧凑和相干的太赫兹源是太赫兹应用的关键组成,共振隧穿二极管(RTD)是目前振荡频率最高的电子学器件,RTD太赫兹振荡源具有结构紧凑、功耗低、室温工作、有一定输出功率、易集成、覆盖频率较宽等优点。InP基RTD太赫兹振荡源在600 GHz左右的频段内输出功率可达百微瓦量级,可见报道的最高振荡频率为1.92 THz,输出功率0.4 μW。RTD振荡源的输出功率可以通过偏置电压进行直接调制,使得其在高容量短距离的太赫兹通信系统中具有很大的优势。目前,InP基RTD太赫兹振荡源成为太赫兹源领域的研究热点。 相似文献
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首先对THz 波源的共振隧穿二极管(RTD)设计中的关键问题,即从材料与结构出发,对如何提高
RTD 的截止频率和输出功率进行了分析研究,并利用WinGreen 软件,仿真设计出具有高振荡频率和输出功率的
RTD。在此基础上,采用RTD 的共振隧穿理论和缝隙天线的结构模型,利用PSpice 仿真软件构建了包含RTD 材料
与结构参数以及缝隙天线结构参数在内的完整太赫兹振荡器(RTO)的等效电路模型。振荡频率约为1.02THz,输出
功率约为88.2μW,本文工作为今后研究该类器件奠定了基础。 相似文献
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光纤激光器弛豫振荡特性研究 总被引:3,自引:0,他引:3
根据光纤激光器瞬态的速率方程,对F-P腔光纤激光器的瞬态输出特性进行了理论分析.采用数值计算方法对不同长度、不同腔面反射率、不同抽运功率下光纤激光器输出的弛豫振荡特性进行了模拟分析.结果表明弛豫振荡频率随光纤长度增加而减小,但是随抽运功率的变化很小.弛豫振荡幅度随抽运功率上升而增加,振荡的衰减时间随激光器腔镜的反射率的增加而上升,但是不随抽运功率变化.进行了975 nm抽运的Er/Yb共掺双包层光纤激光器的实验,实验表明理论分析得到的基本特性是合理的. 相似文献
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给出长寿命激光增益介质Nd∶YLF频移反馈激光系统的某些驱动弛豫振荡特性。用速率方程对该系统进行模拟计算,获得了与实验一致的满意结果。 相似文献
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P. W. Lukey J. Caro T. Zijlstra E. van der Drift S. Radelaar 《Analog Integrated Circuits and Signal Processing》2000,24(1):27-35
Resonant tunneling devices (RTDs) and resonant tunneling transistors (RTTs) are possible building blocks with increased functionality of future microelectronic circuits. These quantum devices can be made in the Si/SiGe system, which is compatible with Si technology. We have fabricated Si/SiGe RTDs with submicron lateral dimensions and have studied their electrical properties. In particular, we have measured the size-dependence of these properties in p-type mesa-etched dots and wires. We find that the I-V characteristics can be strongly influenced by strain relaxation at the side walls of the heterostructure. Here we study this effect of strain relaxation on the quantum-well subbands. The lateral dimensions of the devices ranged from 10 m down to 230 nm. It was found that both the subband-edge energy and the kinetic energy associated with the in-plane motion of holes are strongly influenced by the size and shape of the device. This result is explained by analyzing the effect of strain relaxation on the valence band for the two geometries. 相似文献