NdFeB永磁薄膜的制备方法及其研究进展

综述了NdFeB永磁薄膜的制备方法和原理;介绍了NdFeB永磁薄膜的研究进展;指出了NdFeB永磁薄膜存在的问题;并对NdFeB永磁薄膜未来的发展方向及应用前景进行了展望。     

溅射功率对NdFeB薄膜形貌的影响

采用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备出厚度约400nm的NdFeB薄膜,使用不同的溅射功率,利用扫描电镜分析不同溅射功率对薄膜微观组织的影响,并采用真空退火使之晶化,使用XRD衍射仪、扫描电镜分析晶化情况及组织变化,以期得到最佳的制备工艺.通过对30,50,100 W三组样品进行对比,得出以下结论:在30W功率下溅射,...     

NdFeB永磁材料的分类及其应用

论述了NdFeB永磁材料的分类,介绍了NdFeB永磁材料的应用,并对永磁材料的应用前景进行了展望。     

钼靶材变形量及热处理对薄膜微观组织及性能的影响

通过研究靶材变形量及热处理工艺对溅射薄膜的微观组织、表面粗糙度及晶形的影响,结果表明:变形量为80%的钼靶材溅射制备的薄膜晶化程度优于变形量小的靶材溅射薄膜;溅射相同的薄膜厚度,随着靶材变形量的增大,溅射薄膜的方阻越大;1 100℃退火靶材溅射薄膜的粗糙度最小,表面颗粒最细小均匀,晶粒取向明显。     

双层NdFeB永磁磁组的设计及数值模拟

磁场系统的设计是磁制冷技术中重要的研究内容，设计了一种新型的NdFeB永磁磁组，并研究了不同参数下磁场的分布。设计的双层NdFeB永磁磁组可产生高匀强磁场，大小连续可调。三维有限元模拟结果表明，双层NdFeB永磁磁组中心轴线上最大磁感应强度随磁组高度的提高而增强，并趋于稳定。NdFeB磁块内外半径比的提高有利于提升匀强磁场的大小，但占用的空间和费用逐渐提高。NdFeB永磁块的剩余磁感应强度影响匀强磁场的大小，优化磁组尺寸和挑选不同型号的NdFeB永磁块可以实现匀强磁场大小范围的调节。     

钕铁硼废料综合回收技术的研究进展

我国是全球最大的钕铁硼(NdFeB)永磁材料生产基地和消费市场。在NdFeB永磁材料生产加工过程中以及含有NdFeB永磁材料的报废产品中产生大量的NdFeB废料。对NdFeB废料进行回收再利用有助于建设稀土资源高效的循环经济体系,对保持我国稀土资源优势和环境安全具有重要的战略意义。本文对现有的NdFeB废料回收技术进行了总结,综述了直接回用法、火法冶金、湿法冶金、电化学回收工艺等多种不同NdFeB废料回收技术的作用原理和研究进展,分析了各类NdFeB废料回收技术的优劣势,并提出了未来NdFeB废料绿色、高效、可持续回收技术的重点研究方向,为稀土二次资源的高效开发利用研究提供有益参考。     

纳米晶粉末添加对烧结NdFeB矫顽力的影响

以在传统速凝甩带、氢爆破碎工艺下制得的烧结NdFeB粉末为对象,通过添加粒度小于1μm的Dy2O3粉末、DyF3粉末或纳米级镓粉及铝粉,或者上述几种材料的混合粉末制备成烧结永磁体;系统研究了添加不同上述材料对烧结NdFeB永磁晶相结构及主要磁性能指标的影响。结果表明:添加上述纳米级粉末材料后,通过设置相应的制粉及烧结回火工艺可以促使该类材料均匀地富集在边界相当中,改善了原有材料的组织结构,可以大大提升NdFeB永磁材料的内禀矫顽力,从而使得烧结NdFeB磁体的热稳定性得到显著提升。     

我国稀土永磁产业发展与现状

由于上游产业的带动,我国的稀土永磁材料发展速度很快,其中Sm-Co永磁增长缓慢,NdFeB永磁材料以其优良的性价比获得了高速增长,并改变了稀土永磁产业的产业结构。本文从稀土永磁材料市场的供给和消费两个方面,对我国NdFeB产业的发展现状进行了综合评述。     

溅射气压对WO_3薄膜电致变色器件性能的影响

采用磁控溅射法,以溅射气压为变量,在ITO导电玻璃上制备了WO3薄膜及TiO2薄膜,将Li+聚合物电解质涂覆于这两种薄膜之间封装成固态电致变色器件。采用XRD、AFM对WO3薄膜进行结构表征和形貌观察;采用直流稳压电源对器件进行电致变色测试,并以分光光度计测定其着色/褪色态可见光透过率。结果表明:1.5Pa溅射气压下原位沉积WO3薄膜含较多的金属W;2.0~3.0Pa溅射气压下得到了非晶态WO3薄膜;2.0Pa溅射气压下得到的WO3薄膜表面分布有狭长的颗粒团簇,表面积较大,便于着色或褪色时Li+与电子的注入或脱出,故其所封装器件的调制幅度最大,响应最快;随溅射气压的增大,WO3薄膜表面缺陷增多,器件变色性能恶化。     

NdFeB稀土永磁材料磁性能的测量原理及误差分析

介绍了NdFeB永磁材料直流磁特性测量系统的组成及原理,分析了测量系统存在误差的主要原因.实现了NdFeB永磁体磁性能的特性曲线,为材料的使用者和研发者提供准确的测量数据.     

中频磁控溅射制备锰铜传感器用合金薄膜的工艺

利用镀膜技术制作锰铜传感器,可以实现传感器的超薄化,提高传感器的灵敏度和线性度。改变溅射功率参数,采用中频磁控溅射技术在玻璃(SiO2)衬底上制备出一系列锰铜镍合金薄膜,重点研究沉积条件对薄膜式锰铜传感器薄膜结构、表面形貌等性能的影响。采用三维形貌仪测试薄膜厚度和计算沉积速率;采用原子力显微镜(AFM)研究薄膜的表面特征;采用X射线衍射(XRD)分析了热处理前后薄膜的微观结构;并采用直读光谱仪(DRS)测试溅射靶材和薄膜的成分。研究结果表明:沉积速率随溅射功率增加而增加,溅射功率达到1 kW后沉积速率保持在100 nm·min-1;溅射功率也会明显的影响薄膜的表面形貌,薄膜的表面粗糙度RMS随溅射功率的增加而减小;XRD分析结果表明溅射功率对薄膜的微观结构影响不大,样品的微观结构在热处理前后没有显著变化,只是热处理后样品观察到了微弱的Mn微观结构取向;溅射功率变化对薄膜的成分影响较小,不同功率沉积的薄膜样品的成分相近。     

溅射法镀二氧化钛薄膜靶材及工艺研究进展

介绍了溅射法镀膜的基本原理，阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状。溅射镀Tio2薄膜用靶材主要有金属钛、二氧化钛和“非化学计量”二氧化钛靶材3大类。由于钛的氧化态及靶材导电性不同，它们对溅射工艺（如溅射气氛等）有一定具体的要求，通过对靶材和相应工艺进行分析比较，指出应用“非化学计量”靶材是溅射法制备二氧化钛薄膜技术发展的重要方向。     

不锈钢表面溅射沉积氮化钛薄膜的结构与性能分析

采用直流反应磁控溅射法,通过改变溅射时间在不锈钢表面溅射氮化钛薄膜。采用分析天平、SEM、XRD和显微硬度计等对薄膜的质量增加率、微观结构、外观形貌和显微硬度进行研究。结果发现随着溅射时间增加,薄膜的质量增大,厚度逐渐增加。XRD分析表明,TiN薄膜晶体结构为面心立方结构。溅射沉积氮化钛膜具有择优取向性:随溅射时间增加,由混合晶面生长向(111)择优取向变化;随着溅射时间增加,显微硬度总体呈上升的趋势。     

射频磁控溅射制备Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜的表面结构调控

研究了Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备Ba0.7Sr0.3TiO3(BST7/3)薄膜时,基片加热温度和溅射功率对薄膜显微形貌和成相的影响。实验结果表明:常温下低功率溅射的BST7/3薄膜,表面形貌非常平整,但为非晶态物质的堆积;400℃高功率150 W溅射4 h的BST薄膜,其最大表面起伏约为40 nm;400℃低功率、长时间8 h溅射的BST薄膜,其表面起伏约为12 nm;说明在保证BST充分成相的前提下,可以通过控制溅射功率和时间调控BST薄膜的表面形貌,降低表面粗糙度,使之适于后续器件制备工艺。介电性能测量表明,400℃,75 W,8 h溅射获得的BST7/3薄膜体现出典型的位移型铁电体特征;1 kHz薄膜的损耗约为0.04。     

NdFeB稀土永磁材料研究进展

本文综述了NdFeB稀土永磁材料的研究进展,主要包括结构、矫顽力机制、添加元素、磁性能、腐蚀行为及其防护等方面,并就国内NdFeB产业的发展进行了讨论。     

烧结NdFeB永磁体磁控溅射镀Al的制备工艺及性能研究

采用直流磁控溅射方法在NdFeB磁体表面沉积纯Al镀层,研究溅射功率、基体温度对Al镀层结构和耐腐蚀性能的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)观察Al镀层的表面形貌,采用垂直拉伸法测量Al镀层与NdFeB基体之间的结合强度,采用动电位极化曲线和中性盐雾试验(NSS)研究Al镀层的耐腐蚀性能。结果表明,溅射功率越低,基体温度越高,Al镀层性能越好。采用溅射功率2.0kW、基体温度300℃制备的Al镀层表面平整、光滑,晶粒细小、致密,Al镀层与基体的结合强度可达到25.13 MPa;其耐腐蚀性能最佳,经过6d中性盐雾试验后仍完好,表面仅发生轻微点蚀。     

稀土永磁材料(NdFeB)的现状及发展趋势

简要论述了稀土永磁材料(尤其是NdFeB)的现状，提出了一些稀土永磁体新工艺技术及其性能改进的方法，并展望了稀土永磁材料的发展趋势。     

制备工艺对掺铕的钨酸钙薄膜发光性能的影响

采用射频溅射法在硅片上沉积了Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜,利用正交试验研究了溅射时间、气压和功率对Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜的红光(615 nm)发光强度的影响。荧光分析表明,溅射法沉积的Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜需在700⁸00℃热处理后才能强烈地表现出Eu3+离子的特征发光行为;正交试验说明,溅射气压、时间和功率对薄膜的发光强度都有重要影响,溅射气压的影响尤为重要。研究还表明,为提高发光强度,溅射气压宜控制在1.0 Pa左右,溅射时间在160 min。     

磁控溅射涂层的耐蚀性

通过采用磁控溅射工艺,将两种铁基和镍基材质的靶材溅射到基材(1Cr18Ni9Ti)上,形成4种薄膜。对靶材、基材和薄膜等分别在不同浓度硫酸中的耐腐蚀性进行了测量,并对薄膜在0.05mol/L硫酸中的耐点蚀性进行了研究。通过对Tafel曲线、循环极化曲线及显微组织的分析,结果表明:溅射后薄膜组织为微晶,薄膜的耐蚀性普遍比溅射材前靶的耐蚀性要好;薄膜耐点蚀性很好。     

射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能

研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式,即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要决定于薄膜中Cr₂O₃含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出高硬度的氧化铬薄膜.