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研究了获得钛合金黄色氧化膜的溶液配方及操作工艺参数,讨论了相关因素对膜层性能的影响。试验结果表明:该溶液配方简单,工艺操作简便、膜层性能优良,并在生产中得到了大量应用。 相似文献
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采用磁控溅射法在Si(100)基底上镀制了膜系结构分别为[Mg/Co]20、[Mg/SiC]20的两组多层膜,以研究Mg基多层膜的稳定性.对放置在室温和80%相对湿度环境下的样品进行显微镜、表面粗糙度和X射线掠入射反射率测试,对比研究了Mg/Co和Mg/SiC两种多层膜结构在相同环境中的损坏状况.对比结果显示:放置4天后,Mg/SiC损坏面积为26.34%,表面粗糙度为10 nm; Mg/Co的损坏面积为2.78%,表面粗糙度为5 nm.6天后,X射线掠入射反射率测量显示Mg/SiC多层膜一级反射峰完全消失,而Mg/Co多层膜的一级反射峰仍有47.63%的反射率.实验表明,Mg/Co多层膜的表面层和内部多层膜结构的损坏速度较Mg/SiC慢,具有较好的环境稳定性.另外,X射线光电子谱(XPS)测试Mg基多层膜损坏后的产物主要为MgCO3、Mg(OH)2和少量的MgO,且内层Mg(OH)2与MgCO3含量的比值显著高于表面层.分析认为,水汽是造成Mg基多层膜损坏的主要原因,今后Mg基多层膜保护层的研究可主要针对如何防止水汽进入膜层. 相似文献
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8.0nm附近Mo/B4C软X射线多层膜初步研究 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍研制8.0nm波长附近正入射Mo/B4C软X射线多层膜的初步研究结果。讨论了包括镀膜材料的选择、多层膜结构设计及多层膜性能模拟计算和用磁控溅射法制备以膜的镀膜工艺等在内的多层膜制备过程,并对制备的软X射线多层膜进行了结构测试。制备出的Mo/B4C软X射线多层膜将主要用于X射线激泖打靶实验中。这是目前国内首次开展的10.0nm波长以下实用软X射线多层膜镜的研究工作。 相似文献
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硫化锌是红外波段重要的光学材料 ,在许多光电系统应用中 ,要求镀制适当的减反膜增加其透过率。介绍了硫化锌基底上的减反膜 ,该设计是用薄的氧化钇层作为与硫化锌的结合层 ,用一氧化硅和锗分别作为低、高折射率膜料的膜堆组成的。这种五层膜满足环境稳定性标准 ,在 3μm~ 5 μm波段的某应用范围内平均透过率即可达 96% ,并在 4.2 μm处有超过 98%的峰值透过率。 相似文献
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硫化锌基底上减反膜的镀制 总被引:4,自引:0,他引:4
硫化锌是红外波段重要的光学材料,在许多光电系统应用中,要求镀制适当的减反膜增加其透过率.介绍了硫化锌基底上的减反膜,该设计是用薄的氧化钇层作为与硫化锌的结合层,用一氧化硅和锗分别作为低、高折射率膜料的膜堆组成的.这种五层膜满足环境稳定性标准,在3μm~5μm波段的某应用范围内平均透过率即可达96%,并在4.2μm处有超过98%的峰值透过率. 相似文献
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硫化锌是红外波段重要的光学材料,在许多光电系统应用中,要求镀制适当的减反膜增加其透过率.介绍了硫化锌基底上的减反膜,该设计是用薄的氧化钇层作为与硫化锌的结合层,用一氧化硅和锗分别作为低、高折射率膜料的膜堆组成的.这种五层膜满足环境稳定性标准,在3μm~5μm波段的某应用范围内平均透过率即可达96%,并在4.2μm处有超过98%的峰值透过率. 相似文献
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极紫外(EUV)宽带多层膜的光谱性能对膜厚控制精度要求较高,仅由时间控制膜厚的镀膜系统难以满足其精度控制要求。本文提出了基于进化算法的宽带EUV多层膜离散化膜系设计方法,与传统膜系设计相比,离散化膜系所制备多层膜具有更为优良的EUV反射光谱性能。为验证离散化膜系设计在宽带EUV多层膜研制中的优越性,采用磁控溅射方法对具有离散化膜系的宽带多层膜反射镜进行了制备和测试。测试结果表明:研制的宽角度多层膜反射镜可实现入射角带宽为0°~17°,高于41%的反射率;研制的堆栈宽角度多层膜反射镜可实现入射角带宽为0°~18.5°,高于35%的反射率;研制的宽光谱多层膜反射镜可实现波长带宽为12.9~14.9 nm,高于21%的反射率。 相似文献
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为提高基于量子进化算法(QEA)在宽带极紫外(EUV)多层膜设计中的求解效率和精度,本文利用宽带多层膜的光学性能评价函数的梯度信息改进QEA,建立具有明确进化方向的适用于宽带EUV多层膜设计的改进型量子进化算法(IQEA)。对比分析了基于IQEA和QEA的宽带Mo/Si多层膜的膜系设计过程和结果,结果表明,基于IQEA的多层膜膜系设计理论方法具有更优越的求解效率和精度;同时,IQEA同样可以小种群规模进行多参数优化。基于IQEA的宽带Mo/Si多层膜的设计理论实现了包括入射角为0°~18°,反射率达50%的宽角度多层膜,以及反射光谱带宽为13~15nm,反射率达25%的宽光谱多层膜的设计。基于IQEA的宽带高反射率EUV多层膜的理论膜系设计方法为复杂多层膜的理论设计提供了一种可供选择的高效膜系设计方法。 相似文献
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基于电参数的AZ91D镁合金微弧氧化膜层厚度分析研究 总被引:1,自引:0,他引:1
根据镁合金微弧氧化微区电弧放电机理、微弧氧化的三个阶段理论,并根据实验中出现的,保持电压恒定时,在微弧氧化处理初期电流不断下降,后期电流保持稳定或微升这一现象,拟合出负载阻抗随时间变化的三次方程,从而实现了在实验过程中的膜层厚度监测,具有一定的工程应用价值. 相似文献
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采用多层膜反射镜作为分光元件,成功地研制了同步辐射软X射线反射率计。可完成对各种光学反射镀层的光学常数的测试和评价。工作波段(2-20)nm,角分辨率0.01°,扫描范围(0-80)°。该装置安装在BEPC同步辐射实验室3B1光刻光束线上。 相似文献