聚吡咯涂层PP 非织造布的电磁屏蔽性能研究

采用原位化学氧化聚合法在聚丙烯(PP)非织造布上成功沉积聚吡咯(PPy),制备高效电磁屏蔽非织造布。系统研究聚合温度、单体浓度、涂层次数对PPy涂层PP非织造布的电磁屏蔽性能的影响,并分析其主要的屏蔽机理。利用扫描电子显微镜(SEM)观察涂层前后PP纤维的形貌变化,比较不同涂层条件时非织造布电性能的差异。研究表明,更低的聚合温度(0-4℃)、更高的单体浓度、涂层次数的增加均有利于PPy涂层非织造布的屏蔽效能的提高,而且电磁波的吸收是主要的屏蔽机理。     

GO/PPy磨毛织物电磁屏蔽性能研究

制备了不磨毛,单面磨毛以及双面磨毛的平纹棉织物,并以所制得的织物为基底,利用层层组装的方法制备了GO/PPy电磁屏蔽织物,对所制备电磁屏蔽织物的外观,导电性和电磁屏蔽性能进行了表征。结果表明,经过磨毛处理的织物表面毛羽数量显著增多;组装GO和PPy后毛羽由原来的竖直状态变为穿插、缠结的状态并贴附于织物表面;降低了织物的表面电阻,提升了电磁屏蔽性能。     

空心微珠表面金属化及其电磁防护性能研究

以无机非金属空心微珠为芯材用化学镀工艺进行了镀铜、镀镍、镀银等表面金属化实验,得到表面金属包覆完整的导电粉体,该粉体作为电磁防护涂料的导电填料具有密度小、导电性能良好的优点。分析了空心微珠表面金属化的化学反应,并通过扫描电镜观察空心微珠表面包覆金属层的情况,结合X射线衍射仪分析粉体Cu-Ag金属化后的表层成分,表明获得了银层包覆完整的产物。空心微珠表面Cu-Ag金属化后,制成电磁屏蔽涂料,其电磁屏蔽性能可达到-40dB;表面Ni金属化后,制成吸波涂料,可获得面密度小、吸波性能良好的吸波涂层。     

电磁屏蔽材料的研究

信息化的工业飞速发展,电磁污染日益严重,不仅影响各行业的正常工作,还严重威胁到人们的健康.因此,防治电磁辐射已经成为当务之急,探求有效的、实用性电磁屏蔽方案,已成为各大行业当前迫在眉睫的焦点.而电磁屏蔽便是一种最普遍且最有效的改善手段,如何利用有效的电磁屏蔽材料进行阻挡,来减少电磁波辐射,正是我们当前应该解决的关键之处.降低电磁波的污染,创造绿色、环保的环境,对保护人类生活健康和国家安全具有十分重要的意义.     

MXene/聚苯胺复合块体材料制备及电磁屏蔽性能研究

电磁屏蔽材料是降低电磁辐射污染的重要手段,其中导电聚合物基复合材料广受关/注.选用MXene二维材料为功能基元,利用超声、机械搅拌和冷冻干燥的方法将MXene均匀分散于聚苯胺基体中,并通过放电等离子体烧结技术制备新型MXene/聚苯胺块体复合材料.结果表明,MXene的高电导率和片层堆积结构可有效提高聚苯胺的电磁屏蔽性能.当MXene质量分数为40%时,复合材料电磁屏蔽性能最优,在8.2～12.4 GHz范围内可达24 dB.     

掺合镀铜织物纤维电磁屏蔽砂浆性能研究

为了研究纤维掺量、长度等因素对掺合镀铜织物纤维电磁屏蔽砂浆力学性能、导电性能、电磁屏蔽效能(shielding effectiveness, SE)的影响规律,设计了强度试验、电阻率试验和屏蔽效能试验研究了各因素对金属纤维砂浆性能的影响规律。研究结果表明:金属纤维能够增强砂浆的力学性能和导电性能,纤维砂浆抗折强度比普通砂浆增加14.2%~17.8%,抗压强度增加7.3%~23.1%,电阻率仅为普通砂浆的3.5%。掺加金属纤维后能够提高砂浆中高频电磁屏蔽效能,厚度为2 cm的金属纤维砂浆的体积分数为1%时SE值最高; SE值随着纤维长度的增加逐渐增大,长度为20 mm的金属纤维砂浆在0~700 MHz和2 000~3 000 MHz波频范围SE值较普通砂浆增加约10 dB;砂浆厚度对屏蔽效能影响明显,厚度为3 cm的纤维砂浆SE值几乎为厚度为2 cm的纤维砂浆的2倍,两种厚度砂浆的SE值均超过20 dB,最大值为50 dB。结论可为电磁屏蔽砂浆在民用建筑中的推广和应用提供借鉴。     

褶皱芯材结构电磁屏蔽效能研究

基于电磁屏蔽的传输线理论,提出了以金属丝网为原材料的褶皱芯材结构电磁屏蔽效能的计算公式。通过对褶皱芯材结构的电磁屏蔽实验数据和计算公式所得结果作对比分析,评价了该种结构对屏蔽效能的有益影响。     

电磁屏蔽效能稳定性研究

通过电磁屏蔽效能的计算,得出了一些效能的影响因素及相应的对策,给出了电磁屏蔽效能稳定性所需要考虑的问题,为实际中电磁屏蔽体的生产和应用带来了更合理,更有效,更经济的方法.     

镀膜玻璃屏蔽性能研究

文中采用等效传输线理论对镀膜玻璃的屏蔽性能进行了分析，重点研究了影响镀膜玻璃屏蔽性能的几个关键因素．建立了膜层表面电阻与等效电导率的关系，并将计算结果与试验数据进行对比，结果令人满意．     

军用方舱舱门电磁屏蔽设计

介绍了军用方舱舱门的屏蔽要求、屏蔽效能计算方法,分析了影响军用方舱舱门屏蔽效能的因素,指出了舱门设计时应采取的屏蔽措施。     

铁氧体/铁粉混合材料的电磁吸波性能

以铁氧体、铁粉作为吸收剂制备多种电磁吸波涂料,测试与分析所得电磁吸波涂料的电导率、电磁参数及吸波性能。结果表明随着铁粉掺量的增加,所得电磁吸波涂料的电导率增加,在中高频区介电损耗和磁损耗均有所提高;铁粉与铁氧体的质量比为2：8时吸波涂层的吸波性能最好;反射率损耗〈-10.0 dB时的有效吸收频段在中低频区,有效带宽达4.5 GHz,最大吸收率为-16.63 dB。     

浅谈电磁屏蔽技术

本文首先介绍了电磁干扰的定义、分类以及传播途径,又讲述了电磁屏蔽和屏蔽室的基本原理,在此基础上提出几点电磁屏蔽的设计原则,以及如何选择屏蔽室的屏蔽材料,旨在为电子设备实施电磁屏蔽提供技术参考。     

高频电磁屏蔽用ITO膜结构与性能分析

采用阴极磁控溅射法制备用于电磁屏蔽的ITO透明导电膜,方块电阻在5～40Ω／□范围内。测试不同方块电阻膜层的电阻率、膜厚、可见光透光度、雾度、对8～18GHZ频率范围内电磁波的反射率等性能,通过X射线衍射图谱和X射线回摆曲线研究膜层的结晶程度和晶粒大小对膜层性能的影响,引入特性优化因子来综合评价膜层的性能。     

电磁屏蔽织物的研究进展

介绍了电磁污染的来源以及电磁污染造成的危害,通过分析电磁屏蔽的原理,根据不同的制备方法,将电磁屏蔽织物包括采用涂层法、原位聚合法、金属混纺、化学镀、磁控溅射法等制备而成。介绍了这些方法的原理及国内外研究现状,总结电磁屏蔽织物未来发展方向。     

二氧化锰/碳纳米管/聚吡咯复合材料的制备及性能

为了进一步实现其他材料与聚吡咯的性能互补与优化,先以甲基橙为掺杂剂,过硫酸铵为氧化剂,采用软模板法制备具有一维纳米结构的聚吡咯,再利用水热法制备二氧化锰/碳纳米管复合材料,最后将二氧化锰/碳纳米管复合材料与聚吡咯进行混合处理,改变复合材料中二氧化锰/碳纳米管复合材料和聚吡咯微米管的含量,得到了3种不同比例的二氧化锰/碳纳米管/聚吡咯复合材料. 采用扫描电子显微镜测试观察所得产物的微观形貌,通过X-射线粉末衍射仪测试其结构与组成,最后通过电化学工作站测试分析复合物的电化学性能与循环稳定性. 结果表明,二氧化锰/碳纳米管/聚吡咯复合材料在微观上复合均匀,电容性能比单独的聚吡咯或二氧化锰/碳纳米管复合材料量有显著改善.     

带孔阵屏蔽腔电磁屏蔽特性的时域有限元分析

为了分析带孔阵屏蔽腔的电磁屏蔽性能,使用变分法推导了适用于内部辐射源情况下屏蔽腔屏蔽分析的时域有限元算法,并将集总电阻加入到时域有限元代码中用于消耗系统的能量和加快其衰减速度。计算了系统的传输功率以及3 m远处的电场值,并和测试结果及商业软件仿真结果进行了对比,结果吻合良好。基于频域结果分析了屏蔽腔不同谐振模式和工作频率对其屏蔽性能的影响。最后,将损耗材料加入屏蔽腔中降低其品质因数和谐振效应,时域有限元算法证明了该方法的有效性。     

硅烷偶联剂改性PPy/SiO纳米导电复合材料的研究

首先用硅烷偶联剂APS处理SiO2,然后用化学聚合方法合成聚吡咯／二氧化硅（PPy/SiO2)纳米复合材料。文中分析了硅烷偶联剂的结构特征和作用机理,复合材料电性能研究结果表明APS的加入使得复合材料的PPy含量增加,电导率及材料稳定性提高。其中PPy/1%APS-SiO2复合材料电导率最高,为38．46S/cm,达到文献报导最高值。     

高频电磁屏蔽用ITO膜结构与性能分析

采用阴极磁控溅射法制备用于电磁屏蔽的ITO透明导电膜，方块电阻在5～40Ω／□范围内。测试不同方块电阻膜层的电阻率、膜厚、可见光透光度、雾度、对8～18GHZ频率范围内电磁波的反射率等性能，通过X射线衍射图谱和X线射回摆曲线研究膜层的结晶程度和晶大小对膜层性能的影响，引入特性优化因子来综合评价膜层的性能。     

木材表面化学镀Ni—P电磁屏蔽材料的制备和性能

采用正交实验法进行了木材表面化学镀Ni-P合金的研究,并对镀层进行了表征和电磁屏蔽性能的测试。实验结果表明,最优化学镀工艺条件为:ρ(NiSO4)=35 g.L-1,ρ(NaH2PO2.H2O)=45 g.L-1,ρ(HOOCCH2CH2COOH)=40 g.L-1,ρ(HOOCCHOHCH2COOH)=40 g.L-1,温度65℃,pH6.8。制备的Ni-P镀层平整、光亮,电磁屏蔽效能随Ni金属沉积量的增加而提高。在Ni沉积量12.79~38.38 g/m2的实验范围内,制备的新材料的电磁屏蔽效能为30.85~54.32 dB。     

精密测试仪器机箱电磁屏蔽分析与设计

介绍了电磁屏蔽技术的机理和结构设计要点,根据精密测试仪器使用需求,确定了机箱电磁屏蔽设计中的注意事项通过实验,改进方法.经测试表明,改进后的机箱屏蔽效果满足要求.