人工晶体新进展

我国的晶体生长和晶体材料研究自改革开放以来发展很快,20世纪80年代是我国人工晶体发展的黄金时代,在国际上也有一席之地。进入21世纪以来,飞速发展的科学技术特     

中科院上海硅酸盐所研发出4英寸碳化硅单晶

<正>近日从中国科学院上海硅酸盐研究所获悉,该所科技人员立足自主研发,在掌握直径2英寸、3英寸碳化硅单晶生长技术之后,2月4日,成功生长出直径4英寸4H晶型碳化硅单晶,这标志着我国碳化硅单晶生长技术达到了国际一流水平。据介绍,碳化硅单晶是一种宽禁带半导体材料,具有禁带宽度大,饱和漂移速度高,临界击穿场强大,热导率高等诸多特点,主要用于制作高亮度LED、二极管、MOSFET等器件。在绿色照明领域,用碳化硅衬底制作的LED性能远优于蓝宝石衬底。专家表示,碳化硅衬底需求将在短期内迎来一个爆发增长期。该项目得到国家重大专项和"863"计划的支持。