MOPCVD硬膜技术研究

在ＭＯＰＣＶＤ－Ｔｉ（ＣＮ）膜的沉积过程中,沉积温度是一个重要工艺参数,当沉积温度低时,虽然沉积速率高但膜的硬度低,而当沉积温度高于一定值后,碳化了的金属有机化合物阻止膜的继续生长,由于ＭＯＰＣＶＤ－Ｔｉ（ＣＮ）膜是由Ｔｉ（ＣＮ）是一些有机化合物碎片组成,膜的硬度也低于用于ＰＣＶＤ法制备的Ｔｉ（ＣＮ）膜,所以用ＭＯＰＣＶＤ法制备的Ｔｉ（ＣＮ）膜只能属于一种类Ｔｉ（ＣＮ）膜。     

PCVD－Ti（CN）膜的工艺及应用研究

通过正交试验对ＰＣＶＤ－Ｔｉ（ＣＮ）膜的镀膜工艺参数进行了优化，得到一可制备高硬度、高结合牢度和高沉积速率的Ｔｉ（ＣＮ）膜的工艺参数。试验表明，在用ＰＣＶＤ法沉积Ｔｉ（ＣＮ）膜的过程中，ＣＨ４的流量是一个重要的控制参数。过多的ＣＨ４会给Ｔｉ（Ｃｘ）膜带来不利影响。氩气虽然可以提高Ｔｉ（ＣＮ）膜的沉积速率，但降低了膜－基的结合牢度。其冷挤压模具应用结果表明，用优化工艺镀Ｔｉ（ＣＮ）膜的模具可比镀ＴｉＮ膜的模具提高寿命２～４倍；与未镀膜的模具相比，可提高寿命１０倍以上。     

Al2O3—TiB2陶瓷刀具材料的研制和应用

本文讨论了Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＢ２陶瓷刀具材料ＬＰ１的制备，物理机械性能和微观结构特点。并用切削试验数据表明，这种刀具材料的耐磨性明显优于正在广泛使用的Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＣ陶瓷刀具材料。     

荷能离子束沉积的氧化物膜光学性质

报道在不加热的基底上,由双离子束溅射或离子辅助的电子束蒸发技术制的ＺｒＯ２和ＴｉＯ２单摹光学性质,并提供卫工艺参数和离子束设备的说情。这两种荷 能离子束工艺已被用于光学多层膜,如减反射膜和短波通滤光片的制备     

激光硬膜反射镜的研制

镀制ＴｉＯ２和ＺｒＯ２的混合料－ＳｉＯ２硬膜激光高反射膜的设计和工艺。     

光纤传感用的TiO2：V2O5湿敏光学薄膜

用溶胶—凝胶法制备ＴｉＯ２∶Ｖ２Ｏ５光学薄膜，研究了它的湿敏光学特性，并用表面吸附理论、电子理论较好地解析了湿敏—光学特性机理。     

Y—TZP增韧Al2O3—TiC陶瓷复合材料的研究

热压烧结制备了Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＣ／Ｙ－ＴＺＰ陶瓷复合材料，研究了Ｙ－ＴＺＰ含量对该材料的组织结构、力学性能和耐磨性能的影响。随Ｙ－ＴＺＰ含量增加，复合材料的耐磨性提高，弯曲强度σｆ和断裂韧性ＫＩＣ均比Ａｌ２Ｏ－ＴｉＣ提高１倍，分别达到１０５４ＭＰａ和１１．６５ＭＰａ·ｍ＾１／２。试验结果表明，Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＣ／Ｙ－ＴＺＰ复合材料的强韧化机理主要为Ｙ－ＴＺＰ的应力诱发ＺｒＯ２相应增韧、裂纹偏转和晶     

荷能离子束沉积的氧化物薄膜光学性质

报道在不加热的基底上,由双离子束溅射或离子辅助的电子束蒸发技术制造的ＺｒＯ２ 和ＴｉＯ２ 单层薄膜的光学性质,并提供了工艺参数和离子束设备的详情。这两种荷能离子束工艺已被用于光学多层膜,如减反射膜和短波通滤光片的制备。     

切削高硬度钢的 Al_2O_3-TiC 陶瓷刀具

采用热压方法制备了含有１０％～５０％ＴｉＣ和不同粒度的Ａｌ２Ｏ３ ＴｉＣ陶瓷刀具，研究了刀具的切削性能。试验表明，在车削合金工具钢时，ＴｉＣ含量为２０％～３０％的微细晶粒陶瓷刀具具有优异的抗剥落性能和最佳的切削效果。     

MoSi2基复合陶瓷的高温氧化行为

考察了添加不同弥散颗粒强化ＭｏＳｉ２基复合陶瓷在１６００℃的高温氧化行为,结果表明,添加ＳｉＣ,ＺｒＯ２颗粒的材料仍呈现较好的抗氧化性能,而添加ＴｉＢ２及ＴｉＢ２＋ＺｒＯ２颗粒材料的抗氧化性能则降低显著,并分析了材料表面氧化膜的破坏形式。     

Ti-48Al-2Cr-2Nb钛铝化合物的韧化和氧化抗力研究

在ＴｉＡｌ合金中添加过渡族合金元素，观测了其微观组织和结构，测定了室温弯曲性能和高温氧化性能，研究了改善塑性及提高其高温氧化抗力的因素。试验结果表明，与单相γ－ＴｉＡｌ不同，添加过渡族元素Ｃｒ、Ｎｂ的Ｔｉ－４８Ａｌ－２Ｃｒ－２Ｎｂ钛铝化合物所形成的双相或等轴γ和α２／γ片层状双态组织，改善了脆性γ－ＴｉＡｌ合金的室温塑性，使弯曲强度达４９０ＭＰａ，弯曲挠度为０．３９ｍｍ；；大量层错带和变形孪晶的形成是室温变形的主要机制。另外，在高温下，钛铝化合物的表面由表及里形成了不易剥落的ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３及ＴｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３三层氧化层，连续、致密的Ａｌ２Ｏ３层是提高氧化抗力的重要原因     

陶瓷材料的火焰喷涂

本文介绍采用氧乙炔火焰喷涂Ａｌ２Ｏ２－ＴｉＯ２陶瓷材料，并对其磨损性能和机理进行了研究。结果表明：在Ａｌ２Ｏ３中加入一定量的ＴｉＯ２不仅使Ａｌ２Ｏ３陶瓷材料具有良好的火焰喷涂工艺性能，而且含ＴｉＯ２达１３－２０％涂层孔隙率适中、硬度提高、结合强度增加、耐磨性能最好。磨损机制随ＴｉＯ２含量增加，由脆化剥落、塑性涂敷、逐渐向与金属相似的粘着撕裂、犁沟变形和微切削特征转化。     

Al2O3/(Ag72Cu28)97Ti3/Ti-6Al-4V界面反应

在１．８　ｋｓ、１　０７３～１　１７３　Ｋ条件下对Ａｌ２Ｏ３／（Ａｇ７２Ｃｕ２８）９７Ｔｉ３／Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ进行了钎焊试验。通过扫描电镜、波谱、能谱和Ｘ射线衍射对界面反应产物进行了测试，确定了界面结构，并讨论了这些反应产物形成的可能性。结果表明，温度小于１　１２３　Ｋ的界面结构为Ａｌ２Ｏ３／Ｃｕ２Ｔｉ４Ｏ／Ｃｕ４Ｔｉ３＋Ｃｕ固溶体／Ａｇ－Ｃｕ共晶　＋　富Ａｇ相；温度１　１７３　Ｋ的界面结构为Ａｌ２Ｏ３／Ｃｕ３ＴｉＯ５　＋　ＣｕＡｌ２Ｏ４／Ｃｕ４Ｔｉ３／富Ａｇ相＋　Ｃｕ４Ｔｉ３。     

TiO2—K2O—LiZnVO4陶瓷薄膜的制备及其湿敏性能研究

采用溶胶凝胶法制备了ＴｉＯ２－Ｋ２Ｏ－ＬｉＺｎＶＯ４陶瓷薄膜湿敏元件,研究了薄膜的结构和元件的感湿性能。薄膜主要由金红石型ＴｉＯ２构成,化学组成为Ｔｉ：Ｋ：Ｌｉ：Ｚｎ：Ｖ：Ｏ＝１：０．０４：０．１：０．１：０．１：２．４２（原子摩尔比）。工作频率为４０Ｈｚ时,湿敏元件在全湿度范围内具有良好的阻抗一湿度特性及电容－湿度特性,感湿特性曲线线性良好。元件还具有灵敏度高,滞后小,响应快,长期稳定性好等优点     

锆英粉中ZrO_2、SiO_2、Fe_2O_3、TiO_2、P_2O_5的快速

锆英粉中ＺｒＯ＿２、ＳｉＯ＿２、Ｆｅ＿２Ｏ＿３、ＴｉＯ＿２、Ｐ＿２Ｏ＿５的快速测定柳州微型汽车厂杨燕文，邓玉红锆英粉中ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｐ２Ｏ５的连续测定少见介绍，本文采用碳酸钠、硼砂混合熔剂熔融，经水提出，盐酸酸化后定容。在...     

气相沉积TiN和Ti（C,N）镀层的抗氧化性能

研究了气相沉积ＴｉＮ和Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）镀层的抗氧化性能，通过ＳＥＭ观察和ＸＲＤ相分析，研究分析了氧化腐蚀产物类型，探讨了膜基体系失效机制。结果表明，气相沉积层的抗氧化性能明显优于无镀层的３Ｃｒ２Ｗ８Ｖ试样，尤以ＰＣＶＤ ＴｉＮ性能最佳，氧化产物为金红石型ＴｉＯ２。     

等离子辅助成膜技术

等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术,本文报道了等离子辅助源的性能指标,用这个源制造的ＴｉＯ２膜工艺与成膜质量,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺．     

等离子辅助成膜技术

等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术,报道了我们研制的等离子辅助源的性能指标,用这个源制造的ＴｉＯ２ 膜工艺与成膜质量,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。     

等离子辅助成膜技术

等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量控制光学膜的技术,报道了我们研制的等离子辅助源的性能指标,用这个源制造的ＴｉＯ２膜工艺与成膜质量,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。     

不锈钢表面热喷涂陶瓷的激光重熔组织及成分分布

研究了连续２ｋＷ ＣＯ２激光器对在１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ上热喷涂Ａｌ２Ｏ３－１３％ＴｉＯ２陶瓷层的激光重熔过程，重熔后，热喷涂陶瓷层变得致密，且孔隙率减小，陶瓷层几乎不熔于金属；底层合金完全熔入基体金属中，各元素分布沿截面连续变化，陶瓷层中相分布是不均匀的，其中Ａｌ２ＴｉＯ５在晶界处析出。