高气压充氙多丝正比室的气体净化装置

本装置的第一级净化器可以把纯度为99.99％的氩(Ar)、氙(Xe)等惰性气体提纯到99.9999％,其中氧气小于0.1ppm,再经第二级净化器后,氧含量小于0.01ppm。使用提纯后的氙,充304kPa氙的多丝正比室,对~(241)Am 59.5keV峰的能量分辨率达6.6％。此装置还能回收多丝室内的氙,重复提纯,使氙得以反复使用。     

Si—SiO2及其在电离辐照下的等离激元

用ＸＰＳ分析技术对抗辐射加固与非加固的Ｓｉ－ＳｉＯ２进行了电离辐照前后Ｓｉ的一级等离激元（定位于Ｂ．Ｅ．１１６．９５ｅＶ）及ＳｉＯ２一级等离激元（定位于Ｂ．Ｅ．１２２．０ｅＶ）的研究。实验结果表明：存在一个由这两种等离激元组成的界面，在电离辐射的作用下，此界面区向ＳｉＯ２表面方向展宽，界面中心向ＳｉＯ２表面方向移动；两种Ｓｉ－ＳｉＯ２界面区中的ＳｉＯ２一级等离激元的浓度在正电场中辐照均随辐照剂量的增加而增加，而非加固样品中一级等离激元浓度在正电场中随辐照剂量的变化所产生的变动快于加固样品；在同一辐照剂量下加正电样品中等离激元浓度的变化远明显于不加电样品。     

CCD在不同注量率电子辐照下的辐射效应研究

对TCD1209线阵CCD进行能量为11MeV的电子辐照试验,采用两种不同的注量率辐照后,对器件进行常温退火试验,在辐照与退火过程中考察CCD的光响应灵敏度、暗电流、参考电平、功耗电流等特性参数的变化规律。结果表明,CCD受电子辐照后主要产生电离总剂量损伤,在不同注量率电子辐照下的辐射损伤效应类似于MOS器件的时间相关效应。     

高注量快中子辐照在α—Al2O3中产生空洞的正电子湮没研究

采用正电子湮没技术研究３×１０＾２０／ｃｍ＾２中子注量，Ｅｎ≥１ＭｅＶ快中子辐照在α－Ａｌ２Ｏ３中产生的辐照效应，实验发现α－Ａｌ２Ｏ３在辐照后的８５０℃退火形成尺寸约为０．７ｎｍ的空洞。