共查询到10条相似文献,搜索用时 187 毫秒
1.
分别采用常规和快速热处理在800℃制备了单晶硅太阳电池的铝背场,并利用扩展电阻、X射线衍射和扫描电镜研究了铝背场的载流子浓度分布、铝硅相的组成和表面形貌.载流子浓度分布显示,快速热处理40s就能在硅片表面形成约7μm的背场,达到常规热处理20min的效果.X射线衍射分析和扫描电镜观察发现,快速热处理与常规热处理都能够在硅片背面形成Al3.21Si0.47相,但是快速热处理后形成了致密的铝硅合金,而常规热处理处理后表面依然呈颗粒分布.这些实验结果表明,快速热处理不仅促进铝在硅中的扩散从而能够在很短的时间形成铝背场,而且还能够同时促进铝硅合金化,形成良好的背电极. 相似文献
2.
快速汽相沉积法制备硅薄膜太阳电池 总被引:1,自引:1,他引:0
对在重掺杂抛光单晶硅衬底上用RTCVD法形成硅薄膜太阳电池进行了研究。衬底为〈100〉晶向p+ + 型重掺硅片,电阻率为5×10- 3Ωcm 。主要工艺过程为:在衬底上生长一层硅薄膜同时掺硼,膜厚38μm ,扩磷制备p-n 结,背面蒸Al及Ti/Pd/Ag 制背电极,正表面在扩散后生长一层SiO2 ,前面用光刻剥离法制备Ti/Pd/Ag 电极,制成的1cm 2 太阳电池,开路电压VOC= 612.8m V,短路电流ISC= 29.3m A,填充因子FF= 0.7579,效率η= 13.61。对一些影响电池特性的因素进行了研究,发现硅薄膜的掺杂浓度、发射层的掺杂浓度以及减反射层都对太阳电池的特性有较大影响。 相似文献
3.
4.
5.
6.
晶体硅薄膜太阳电池的衬底材料--颗粒硅带(SSP)的制备 总被引:1,自引:0,他引:1
晶体硅薄膜太阳电池(CSiTF-Crystalline Silicon Thin Film Solar Cells)由于具有降低制造成本的空间, 成为目前研究工作的一 个热点。我们将注意力集中在低成本、可连续化的硅衬底制备上,即颗粒硅带(SSP-Silicon Sheet from Powder)制备技术。可以使用不同纯度、粒度的硅粉,经过光聚焦加热熔化,最后得到不同长度、宽度和厚度的颗粒硅带衬底材料。介绍了晶体硅薄膜太阳电池衬底材料的现状,并描述实验室的颗粒硅带制备技术。 相似文献
7.
8.
9.