AISI316奥氏体不锈钢低温PC、PN和PC+PN表面硬化处理

对AISI 31 6奥氏体不锈钢进行了低温离子渗碳 (PC)、离子渗氮 (PN)和离子渗碳 +离子渗氮 (PC +PN)双重复合处理 ,处理后的奥氏体不锈钢可以在不降低耐蚀性能的基础上大幅度地提高不锈钢表面硬度和耐磨性。渗入奥氏体晶格中的碳或 (和 )氮可以形成一种碳或 (和 )氮的过饱和固溶体 (S相 ) ,但没有铬的碳化物或 (和 )氮化物析出。由于PC +PN双重复合处理后的奥氏体不锈钢渗层内的最大含氮量位于渗层的外表面 ,而最大的含碳量则位于渗层较深的部位 ,因而经离子双重复合处理后的奥氏体不锈钢的表面既有离子渗氮处理的高硬度 ,又有离子渗碳处理后的高的渗层厚度和较好的硬度梯度等特点。     

奥氏体不锈钢活性屏低温离子渗碳工艺研究

利用活性屏离子热处理技术对奥氏体不锈钢进行低温离子渗碳（ASPC）处理,可以在不锈钢表面形成一层无碳化铬析出的碳的过饱和固溶体（Sc相）。ASPC可以在不降低奥氏体不锈钢耐蚀性能的前提下大幅度提高其表面硬度,并解决了不锈钢直流离子渗碳温度均匀性差、工件存在边缘效应等问题,渗碳试样表面基本可以保持不锈钢原色。通过对活性屏上溅射下来的纳米粒子进行显微分析表明,这些粒子是Fe3C、Fe2C5中性粒子,其在ASPC中起到渗碳载体的作用,ASPC是一个溅射-吸附-脱附的过程。     

奥氏体不锈钢活性屏离子渗碳机理的研究

分别采用活性屏离子渗碳和直流离子渗碳工艺对奥氏体不锈钢进行了渗碳处理．试验结果表明,活性屏离子渗碳可以获得与普通直流离子渗碳同样的处理效果,在奥氏体不锈钢表面获得单一的Sc相组织,从而显著提高奥氏体不锈钢的硬度和耐磨性能,并能克服直流离子渗碳工艺中的不足．收集活性屏上溅射下来的粒子进行分析,结果表明这些纳米级粒子主要是中性的Fe3C和Fe2C5,它们是活性屏渗碳过程中活性碳原子的载体．通过对活性屏离子渗碳机理的探讨,认为和活性屏离子渗氮的机理相似,也是一个溅射一吸附一脱附的过程．     

AISI 304奥氏体不锈钢活性屏离子渗碳

利用活性屏离子热处理技术对AISI 304奥氏体不锈钢进行低温离子渗碳(AS-PC)处理,可以在不锈钢表面形成一层无碳化铬析出的碳的过饱和固溶体(Sc相)。处理后的奥氏体不锈钢可以在不降低耐蚀性能的基础上大幅度提高不锈钢表面的硬度,并解决了不锈钢直流离子渗碳温度均匀性差,工件存在边缘效应等问题,ASPC渗碳试样表面基本可以保持原色。     

奥氏体不锈钢的低温离子软氮化处理

利用低压等离子体辉光放电技术对AISI 31 6奥氏体不锈钢进行低温离子软氮化硬化处理。处理后的奥氏体不锈钢属于一种无氮化铬或碳化铬析出的氮和碳的过饱和固溶体 (S相结构 )。这种渗入钢中的过饱和氮和碳元素引起奥氏体晶格发生畸变 ,使渗层的硬度和耐磨性都有较大幅度的提高。由于处理后的奥氏体不锈钢渗层内的最大含氮量和最大含碳量分别出现在不同的深度 ,既有离子渗氮处理的高硬度 ,又有离子渗碳处理的高渗层厚度和良好的硬度梯度等特点     

18—8型奥氏体不锈钢形变离子渗氮

本文研究１８－８型奥氏体不锈钢预先形变后再离子渗氮，其预形变的温度、形变度对渗氮层表面硬度、渗层厚度及渗层上氮浓度分布等的影响。研究结果表明：预先室温形变形成以孪晶为主的亚结构，而预先温变形则形成以胞状结构为主的亚结构，不同位错组态的亚结构对氮原子扩散起着不同的作用，致使２００℃预形变的试样离子渗氮后可获得最厚的渗氮层。Ｘ射线衍射分析、极化曲线和点蚀电位测定证明经各种预形变的试样，其渗氮层的相结构     

放电电压对纯氮ASPN处理的影响

采用高电压、低气压的离子渗氮工艺,利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对合金钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理。对渗氮层的硬度、深度和组织结构等进行了分析研究。结果表明,在纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理过程中放电电压起关键作用,只有当直流辉光放电电压高于800 V时,才能进行离子渗氮处理。通过分析用铜片采集的等离子放电空间的粒子发现,放电电压高于800 V时,沉积在铜片表面的粒子是能进行渗氮处理的氮化铁;而放电电压低于800 V时,沉积在铜片表面的粒子主要是氧化铁。     

奥氏体不锈钢离子渗氮层相结构与性能研究

对1Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢进行离子渗氮处理,研究不同渗氮条件下渗氮层的相结构与性能。结果表明:1Cr18Ni9Ti不锈钢离子渗氮时,钢中Cr与氮反应仅形成CrN,而非Cr2N;伴随CrN的形成,渗层原奥氏体转变为马氏体。经V(N2)∶V(H2)为1∶9及1∶3气氛氮化,渗氮层韧性很高;当气氛V(N2)∶V(H2)达3∶1时,形成大量γ′、ε相,渗层韧性剧减;气氛V(N2)∶V(H2)为1∶3时,耐磨性最佳。     

奥氏体不锈钢离子渗氮层相结构与性能研究

对1Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢进行离子渗氮处理，研究不同渗氮条件下渗氮层的相结构与性能。结果表明：1Cr18Ni9Ti不锈钢离子渗氮时，钢中Cr与氮反应仅形成CrN，而非Cr2N；伴随CrN的形成，渗层原奥氏体转变为马氏体。经V(N2)：V(H2)为1：9及1：3气氛氮化，渗氮层韧性很高；当气氛V(N2)：V(H2)达3：1时，形成大量γ’、ε桐，渗层韧性剧减；气氛V(N2)：V(H2)为1：3时，耐磨性最佳。     

奥氏体不锈钢离子渗氮-PECVD-TiN复合处理层组织与性能特性研究

对１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ 奥氏体不锈钢进行离子渗氮－ ＰＥＣＶＤ ＴｉＮ 复合处理, 研究了复合处理层的组织与性能。结果表明： 复合处理层具有优良的膜基结合强度; 较之不锈钢基体, 耐磨性显著提高; 在０－５ ｍｏｌ／Ｌ Ｈ２ＳＯ４ 溶液中, 复合处理层不仅比单一渗氮层的耐蚀性高, 在过钝化区还表现出比不锈钢基体更优越的耐蚀性。     

活性屏离子氮化过程中氮的输运机理分析

将活性屏离子氮化过程中活性氮原子的输运方式分为无输运介质的扩散输运与有输运介质的吸附输运两种,指出扩散输运是活性氮原子的重要输运方式之一。此外,还重新分析了文献报道的活性屏离子氮化实验结果,阐述了活性屏材质等因素对氮化效果的影响。     

活性屏离子氮化机理的研究

在真空室内放置一个铁制的网状圆筒 ,并与直流高压电的负极相接 ,在直流电场的作用下 ,通过气体离子对圆筒的轰击溅射 ,产生了一些纳米数量级的活性粒子 ,利用这些高活性的纳米粒子簇可以对放置在圆筒内钢的表面进行氮化处理。实验证明 ,这些活性粒子是中性的Fe4N粒子 ,所以被处理的工件既可以处于悬浮电位 ,也可以处于零电位。活性屏离子氮化可以获得和普通直流离子氮化同样的处理效果 ,并解决了离子氮化技术的不足。     

Improvement in corrosion resistance of anchor steel by low temperature plasma nitriding

Plasma nitriding was used to improve the corrosion performance of anchor steel. The microstructure, phase constitution, microhardness and corrosion resistance of the nitrided layer were systematically studied. The results show that the nitrided layer is continuous and dense, and consists of Fe4N and Fe3N in the outmost surface. The microhardness of the nitrided sample is improved because of the formation of nitrides in the outer side continuous layer and the inner parts. The nitrided layer on the surface of anchor steel can effectively improve the corrosion resistance of the anchor steel.     

阶梯往复变温和高纯氮气对气体渗氮的影响

针对气体渗氮工艺存在的周期长和脆性大两个问题进行了初步的探讨。依据气体渗氮的动力学,采用阶梯往复式变温、扩散期通高纯氮气以及预氧化等方法对传统气体渗氮工艺进行了改进。结果表明：在渗氮质量高于传统方法的基础上,气体渗氮的周期大约缩短４０％。     

25Cr2MoV钢变温快速深层离子氮化工艺的研究

采用显微硬度计和ｘ射线衍射仪等手段，研究了２５Ｃｒ２ＭｏＶ钢经普通离子氮化和变温快速深层离子氮化新工艺处理后，其氮化层的性能及相组成，结果表明：在相同氮化时间内，变温快速深层离子氮化新工艺能显著地增加材料的有效氮化层深和总氮化层深，提高材料的表面硬度．     

Bacteria adherence properties of nitrided layer on Ti6Al4V by the plasma nitriding technique

The nitrided layer on Ti6A14V substrate was prepared by the plasma nitriding technique. The sample was characterized by X-ray diffraction （XRD）, glow discharge optical emission spectroscopy （GDOES）, X-ray photoelectron spectroscopy （XPS）, and rough-meter. X- ray diffraction analysis reveals that TiN, Ti2N and Ti phase exist in the nitrided layer subsurface. GDOES analysis shows the thickness of the nitrided layer is about 3 ~tm. XPS analysis shows that there is higher N, lower A1 and lower V in the nitrided layer surface than in the Ti6A14V surface. Rough-meter analysis results show the roughness of the nitrided layer is greater than that of Ti6A14V alloy base. The bacteria adherence property of the nitrided layer on Ti6A14V substrate on the Streptococcus mutans was investigated and compared with that of Ti6A14V alloy by fluorescence microscope. It shows that the nitrided layer inhibits the bacteria adherence.     

保温式活性屏离子热处理炉主体结构设计

设计了保温式活性屏离子热处理炉主体结构,主要进行了炉体材料及保温材料的选择、炉体壁厚及保温层厚度的计算、冷却系统和炉体零部件设计。该设备兼有离子热处理炉和活性屏离子渗氮炉的优点,实现了节能、环保、多功能化生产。