高分子染料的光稳定性研究

光稳定性是衡量高分子染料的一个重要指标,而高分子染料的光稳定性主要与高分子骨架结构、染料母体结构及着色工艺等因素有关.本文详细分析了高分子染料光褪色的原因及机理,并针对影响高分子染料光稳定性的各因素,提出相应的改进措施.     

染料的光氧化褪色机理——单线态氧对染料光褪色的作用

作为商品染料,评价其性能的一个重要指标是它的光稳定性。人们对染料的光稳定性进行了广泛的研究,染料的光褪色机理及影响因素是广大科学工作者感兴趣的课题之一。在染料的实际应用中发现,靛蓝类染料在羊毛上比在棉纤维上有较好的光牢度,碱性染料在棉     

多甲川键菁染料光氧化机理研究

本文利用紫外－可见吸收光谱法、顺磁共振（ＥＳＲ）法系统地研究了多甲川键菁染料光氧化反应机理。结果表明，单线态氧（＾１Ｏ２）、超氧阴离子（Ｏ２＾－）是导致染料光褪色的主要因素，而在没有氧气存在下，Ｄｙｅ＾－也促使染料光褪色。     

菁染料和份菁染料的合成及其溶液的光稳定性研究

利用UV－Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料的光降解动力学,研究结果表明,染料在乙腈溶液中的光褪色反应遵循假一级或零级动力学衰减,与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性。     

偶氮染料结构与日晒牢度关系研究

本文介绍了近年来国内外对于偶氮染料光致褪色的研究进展,综述了偶氮染料光褪色与偶氮键断裂机理。利用Hammett方程,反映出取代基效应与染料褪色速率间的定量关系,并将Hammett方程引入分散、酸性偶氮染料日晒牢度的分析中,很好的阐释了取代基团吸、供电子效应对染料在不同纤维上日晒牢度的影响,并提出了获得优异日晒牢度染料的合成和应用方法。     

菁染料和份菁染料溶液的光降解机理的研究

利用UV－Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料溶液的光降解动力学,认为染料在乙腈溶液中的光褪色反应服从假一级或零级动力学,利用GC／MS光谱仪检测了染料的光降解产物,与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性,研究结果表明,菁染料光降解反应的中间体可能是染料的半氧化态Dye^ ,并利用纳秒级闪光光解技术研究了Dye^ 的瞬态吸收光谱。     

染料在光照时发生的化学反应及褪色产物

本文总结了不同结构的染料在受到光照作用时发生的各种化学反应及褪色产物,从而揭示了提高染色织物耐光稳定性的必要性。     

有机染料光褪色机理及主要原因

本文综述了有机染料光褪色机理的主要研究方法以及现有研究结论．对光氧化和光还原过程、影响因素、典型反应步骤、研究手段进行了系统的阐述，同时也对通过染料分子结构设计合成、通过添加剂的使用提高染料光牢度的方法进行了介绍．     

单线态氧对某些染料光褪色的影响

光对染料的作用,无论是在溶液中还是在染着物上,毫无疑问要涉及到相当复杂的一系列过程。某些早期的实验观察,在现在看来,仅仅是极为粗浅的认识。至于其他的观察,例如染料的光牢度随染着物的性质而变等,就更难以解释清楚了。近几年中,单线态氧对某些染料光褪色的影响,有人曾作过研究。Griffiths Hawkins 曾报导,     

双镍配合物光稳定剂

1 前言1,2-二硫代乙烯为配位体的有机金属配合物在塑料、橡胶的防光老化和有机染料的防光褪色方面有一定作用。我们曾合成了无取代的双(1,2-二苯基-1,2-二硫代乙烯)镍配合物。此化合物能提高多甲川染料的光稳定作用。为进一步提高光盘染料的光稳定性,本文作者合成了一系列取代基的镍配合物,并对它们的光稳定作用进行了研究,取得了一些有意义的结果。