JD18投影万能测长仪的测量系统分析

本文以JD18投影万能测长仪组成的测量系统为研究对象,制定了万能测长仪测量系统分析计划,依次对该测量系统进行稳定性、偏倚和线性的分析,认为该万能测量仪的稳定性、偏倚及线性满足要求,采用均值-极差法对测量系统的重复性与再现性进行分析,其重复性与再现性指标10%%R&R=26.45<30%,测量系统可以接受。     

表面粗糙度仪的测量系统分析

本文以JB-1C型表面粗糙度测试仪组成的测景系统为研究对象,制定了表面粗糙度仪测量系统分析计划.采用均值-极差法对测量系统的重复性与再现性的分析步骤、计算过程、计算结果做了详尽的剖析和讨论.认为该测量系统的偏倚、线性和稳定性能满足要求,其重复性与再现性指标10%≤%R&R=17.9%<30%.测量系统可以接受.     

测量系统分析技术在构件钢筋保护层厚度检测中的应用

为了提高混凝土结构钢筋保护层测定的准确性,采用测量系统分析(MSA)技术对钢筋保护层测定仪的分辨力、偏倚、线性以及重复性和再现性等指标进行了系统的试验。分析出仪器变差的主要变异源,判断出仪器存在线性偏倚,在使用中应对数据进行修正;判定仪器可用于结构钢筋保护层厚度的合格评判及施工过程中能力指数的粗略估计。     

典型测量系统R&R分析中样本含量的选择

探讨在典型计量型测量系统条件下,样本含量的选择对测量系统重复性和再现性误差估计的影响.以重复性与再现性相关统计量的区间估计的探讨为基础,进一步研究分析方案中测量人数、样品数和重复测量轮数的选择对置信区间的影响,从而给出测量系统重复性与再现性评定中合理确定样本含量的方法,为提高测量系统重复性和再现性分析的效率和有效性提供保障.     

典型测量系统R＆R分析中样本含量的选择

探讨在典型计量型测量系统条件下，样本含量的选择对测量系统重复性和再现性误差估计的影响。以重复性与再现性相关统计量的区间估计的探讨为基础，进一步研究分析方案中测量人数、样品数和重复测量轮数的选择对置信区间的影响，从而给出测量系统重复性与再现性评定中合理确定样本含量的方法，为提高测量系统重复性和再现性分析的效率和有效性提供保障。     

测量系统分析在曲轴测量机上的应用

本文介绍测量系统分析的一般概念，探讨、研究曲轴测量机这一测量系统所涉及的偏倚、线性、稳定性、重复性等一系列问题，提出在实际生产现场评定曲轴测量机的方法。     

测量系统评价在实验室仪器设备采购及使用管理中的应用

探讨在检测实验室仪器设备的采购及使用管理中引入测量系统评价的方式,以织物厚度仪为例通过试件检测,收集数据,分析评价测量系统重复性、再现性,然后计算GRR值及GRR%,作为测量系统能否被接收和被使用的重要指数。     

测量系统的偏倚和线性分析方法讨论

一个好的测量系统必须具有良好的准确度和精密度。准确度包含偏倚、线性和稳定性分析，其中偏倚和线性常见的有假设检验方法、百分比计算以及量具能力指数计算。通过实例分析和对比，说明不同方法之间的差异和优劣，假设检验方法脱离实际使用需求，而百分比计算方法相比可以快速评估偏倚和线性是否合格，以及测量能力指数在准确度评估上提供了更充分的补充。     

高精度分光光度计测量光谱透过率

由安光所自行设计的高精度分光光度计目的是高精度测量滤光片透过率。该系统特点是基于双光栅单色仪的全自动单光束测量仪器。在出射光路中引入了积分球,用来消除光束的偏振性和不均匀性,而且在信号接收部分提出了将滤光片和探测器作为整体考虑,优点是接近滤光片的实际使用环境,减少了其实际测量误差。着重叙述了该仪器的设计过程和不确定度分析。测量的不确定度源包括光源的稳定性,双单色仪重复性、再现性,光束的均匀性,内反射,探测器线性、稳定性、偏振性、均匀性,系统杂散光。经本仪器测量的滤光片透过率合成不确定度为5.859×10-3,完全满足测量精度要求。     

测量系统分析在阳极溶出法检测含铜废水中的应用

利用氨-氯化铵底液的阳极溶出法测量0.2~10.0 mg/L范围内的Cu~(2+)溶液,得出确定性系数R~2大于99%、各点的相对标准差小于5.5%的标准曲线。采用少量样本和Minitab统计软件进行了测量系统分析,评估该方法的线性、偏倚、稳定性、分辨力、重复性与重现性。分析结果表明,该测量系统适合辨别17%以上的差异。如果对测量系统的准确度有更高要求,则建议对测量系统的人、机、料、法、环、测方面降低误差,并再次进行测量系统分析。最后对重金属废水处理检测行业推行测量系统分析评估阳极溶出法测量提供了指导意见。     

大尺寸外径千分尺测量面改进性修理

由于烟气分析仪组分的增加和测量原理的改变,对烟气分析仪的检定工作提出更高要求,对检定工作中发现的问题进行探讨,并提出实际操作和检定依据等方面的建议。     

直线度测量中采样间距与仿差形状关系的理论研究

从频域理论上对直线度测量中采样间距与偏差形状的吻合关系进行了较为深入的理论分析，提出在相同的采样误差条件下，随着采样点数的增加，测量误差将随之下降。因此，直线度测量采样间距的选择应按测量准确度要求来确定。     

100kA快响应精密冲击分流器研制及特性分析

冲击电流为暂态电流波形,持续时间短且波形不可重复,测量误差影响因素众多难以评估.研制快响应精密冲击分流器,采用同轴管式结构,分析分流器的测量原理及尺寸设计.研究分流器的瞬态响应过程,将输出信号焊接至电阻体外侧,消除趋肤效应的影响.分流器的稳态电阻测量值为0.969 7 mΩ,杂散电感为32 nH,测量额定电流时,电阻温...     

4πγ电离室活度标准装置测量系统的建立及性能测试

基于汤姆逊平衡法原理建立了4πγ电离室活度标准装置的测量系统,该系统由高压电源、电压测量及补偿电路、测控软件组成。利用汤姆逊平衡法原理测量微弱电流,可以有效减小系统的漏流,减小本底电流对测量结果的影响,经测试该系统的本底电流小于3×10^-14A。通过对测量系统的重复性、稳定性、线性和角响应等性能测试,结果表明,该测量系统能够满足4πγ电离室活度标准装置的要求。     

一种电感式位移传感器的电路系统设计

介绍了一种电感式位移传感器的电路系统.该系统以一片AD698芯片为信号调整电路的核心,将位移量输出信号转换为相应的直流电压值,并结合其它一系列电路模块实现了测头位移量测量.通过对测头的标定试验证明该系统精度高、线性测量范围大.     

用于标定镀膜机的膜厚样板的制备和测量

镀膜在国民经济生活中得到广泛应用。影响镀膜性能的一个主要参数是膜层在整个基片上的厚度均匀性。利用挡板在基片上多个区域沉积台阶,测量台阶高度的差值用于分析膜厚的均匀性。通过集成非接触聚焦式测头的纳米测量机进行测量,针对镀膜产品上各个特殊的曲面台阶,以参差平方和为标准,用基底无台阶区域的曲线模型拟合台阶底部曲线,参考ISO 5436-1：2000的台阶评价方法,对镀膜基片上多台阶进行了评价。该方法可以用于镀膜机的验收。     

产品质量检测不确定度的分析及应用

本文对测量误差和测量不确定度的基本概念作了简单介绍，得出测量结果的可靠程度是通过分析和评定测量不确定度来确定的；本文着重介绍和探讨了测量不确定度的计算步骤和计算方法，并结合电气实验室经常遇到的电压测量给出不确定度分析和计算实例；本文还介绍了单次测量条件下如何利用已知条件进行不确定度的估计以及不确定度的应用范围。     

一个高温持久/蠕变测控温及试验管理系统

介绍了采用测控分开形式对近百台五六十年代制造的高温持久/蠕变试验机进行测控温系统改造的工作.改造后的控温系统创造了不同热电偶数量(测控温共偶,1～3支)都可实现对试样温度和梯度的稳定控制,系统具有较强抗外界干扰能力,而且控温过程中对电网无干扰.测量系统测量误差≤±0.1%FS.测控温系统采取单炉闭环控制、30台集中巡回...     

Effects of step slope on thickness measurement by optical interferometry for opaque thin films

Optical interferometry is a simple, quick and cheap method to measure the thickness of opaque thin films. The film edge, being formed as a step on the sample surface, is lighted with monochromatic light in an interference microscope, producing the interferogram that is recorded with a CCD camera. The film thickness (step height) is calculated by measuring offsets of the fringes across the step. However, the morphology of the film edge (step) significantly affects the thickness measurement, in some cases even yields false results. In this work, three kinds of methods were adopted to mask a part of the substrate surface during the deposition for fabrication of the step. The mask used was a thin silicon slice, a straight line of ink imprinted by a pen, or an Aluminum film. The step morphology recorded by a profilometer revealed large variation from one method to another. Accordingly, the accuracy of film thickness (step height) measurement by interferometry varies significantly. Results showed that large error occurs when the slope of the step is small and the step out spans the view field of the microscope. Therefore, the step should be fully visible in the view field of the microscope for reasonable measurement of thickness. A simple equation, in terms of geometrical configuration, is developed for this requirement.