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塑料电镀与金属电镀的主要区别在于前处理不同,因为塑料是绝缘体,故必须预先使塑料表面形成一层导电体——金属薄膜,作为底层金属方可进行电镀。目前国内大多数塑料电镀厂采用的工艺是:在塑料制品经过粗化后,用酸性的氯化亚锡溶液进行敏化处理,再经过硝酸银溶液活化后进行化学镀铜,此工艺由于有下列原因而趋向淘汰。 1.工序繁琐,劳动强度大。其工艺流程为:敏化—自来水清洗—蒸馏水清洗—蒸馏水清洗—活化—还原—水清洗—化学镀铜。并且要求从敏化到还原多 相似文献
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天然鳞片石墨粉的化学镀铜工艺 总被引:1,自引:0,他引:1
为提高天然鳞片石墨镀铜效果,首先对天然鳞片石墨粉进行预处理,然后在其表面进行化学镀铜;研究了镀液温度、主盐浓度、还原剂加入量及装载量等因素对化学镀铜的影响,在此基础上获得了最佳工艺参数,最后对镀铜石墨粉进行钝化;对镀铜石墨粉进行了表征。结果表明:最佳化学镀铜工艺参数为镀液温度50.0℃,镀液中硫酸铜质量浓度20.0 g·L~(-1),甲醛加入量25.0mL·L~(-1),装载量为5.0~6.0 g·L~(-1);在此条件下,镀液稳定性好,且镀速较快,能够在石墨表面较为完整地镀覆一层金属铜,得到的镀铜石墨粉色泽光亮;苯并三氮唑(BTA)酒精溶液的钝化效果良好,可以有效防止新生铜的氧化。 相似文献
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<正> 化学镀铜的活化处理方法广泛采用SnCl_2和 PbCl_2溶液。这种方法既简单又可靠,但价格昂贵,而且 SnCl_2溶液相当不稳定。笔者开发利用两种氢氧化物的协同效果,用于化学镀铜的活化处理。一、活化处理方法将0.2mol·dm~(-3)Niso_4(或 NiCl_2)和0.2mol·dm~(-3)CuSO_4(或 CaCl_2)溶液按体积比1∶2混合,用自动滴定装置以10秒为间隔间断滴下0.2mol·dm~(-3)NaoH 溶液,使 相似文献
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在金属电镀和非金属化学镀中常利用铜层具有的孔隙小、韧性好、良好的稳定性、热和电的良导体等属性作为中间层处理,以提高镀层对基体的防护等性能,也利用铜层作为钢铁件防渗碳、氮化等工艺。在众多的使用类型和机加工工艺中,各种酸性或化学镀铜溶液中产生的氧化亚铜、金属铜微粒,造成铜镀层多种形式的严重疵病,使镀层质量下降、槽液不断恶化、经济效益滑坡。我们认为氧化亚铜和金属铜微粒随时产生的原因有:1在各种酸性电解溶液中,如果阳极面积太小(T_阳:T_阴<2.5),电流密度过大,阳极呈钝态,导致阳极溶解不正常,产生一价铜。同时反应生成“铜粉”,即氧化亚铜: Cu-e→Cu~ 2Cu~ 2OH~-→2CuOH→Cu_2O↓ H_2O 相似文献
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对石墨表面处理工艺、石墨表面化学镀铜工艺进行了研究,采用正交实验设计方法对镀铜工艺进行优化,对所制备的镀铜石墨表面进行XRD、SEM微观表征;将所制备的镀铜石墨加入聚四氟乙烯中,采用冷压烧结工艺制备固体润滑剂,并测定其摩擦性能.试验结果表明:选用敏化及活化工艺来进行石墨镀前预处理为佳;化学镀时石墨表面能直接生成大量均匀分布的铜微晶,生长至彼此侧面相连时就得到完整镀层,并且石墨颗粒越小,化学镀铜活性越高,因而非常适合用于制备高性能的金属石墨复合材料;当镀铜温度为75 ℃,CuSO4浓度为25 g/L,EDTA浓度为30 g/L时,所制备的固体润滑剂摩擦因数较低,曲线平稳且磨损量较小. 相似文献
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研究了碳纤维表面预处理和化学镀铜工艺,采用正交设计方法对碳纤维镀铜工艺进行优化,并对制备的镀铜碳纤维进行SEM和XRD微观表征.在镀铜碳纤维中加入PTFE制备固体润滑复合材料,并进行摩擦磨损实验.实验结果表明:碳纤维表面有C= =O及C-O-C等极性基团,能与铜产生较好的机械结合力;经过解胶、还原等表面处理后,碳纤维表面形成凹槽和微孔,便于化学镀时铜附着在其表面;化学镀后铜与碳纤维结合紧密,碳纤维表面镀层光亮、均匀致密、具有较好的结合力;采用化学镀原料配比CuSO4·5H2O 15 g/L,EDTA 25 g/L,NaOH 16 g/L制得的镀铜碳纤维,其镀铜量居中,加入PTFE所制得的固体润滑材料摩擦因数和磨损量较低,且摩擦因数有下降的趋势. 相似文献
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本文介绍无铬脱铜工艺配方、工艺参数、溶液的配制、维护、各种成分的作用,常见故障及纠正方法和无铬与含铬脱铜溶液的对比,此工艺具有成本低、性能好、稳定可靠等特点。 相似文献
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ABS塑料低温化学镀Ni—P合金新工艺 总被引:4,自引:0,他引:4
对传统ABS塑料化学镀镍工艺进行了改进。化学粗化时,成功地以含有一定量添加剂的强碱性高锰酸钾型工艺代替工业上普遍使用的高铬酸型工艺;其次,在40-50℃下,采用双络合剂的化学镀铜浴在ABS表面预镀铜;最后,使用含有添加剂和组合络合剂的碱性化学镍浴进行化学镀镍。结果表明:在35-40℃、pH=9.5、装载量为1.0dm^2/L时施镀,镀速为9.8μm/h,镀层光亮,无裂纹,镀液稳定,耐蚀性良好。 相似文献
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化学镀铜新工艺及其在电子工业中的应用 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了一种国内最新的化学镀铜工艺原理、镀液成分、
配方和操作条件等,叙述了该工艺镀铜层的组成、表面形态及其在电子工业中的应用。 相似文献
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