用同步辐射实现X射线干涉技术的实验研究

根据Ｘ射线干涉的特点，制出ＬＬＬ型Ｘ射线干涉仪器。Ｘ射线源选用同步辐射光，充分利用其强度大，波长丰富和准直性好的优点，在北京同步辐射实验室利用４Ｗ１Ａ束线进行了Ｘ射线干涉实验，在拍摄的底片上比较清楚地观察到了Ｘ射线霈条纹。     

聚硅氧烷基纳米多孔薄膜双分形结构的同步辐射小角X射线散射分析

以聚硅氧烷基材料为预聚体,采用两种核壳型致孔剂,以旋涂工艺分别制备两组聚硅氧烷基纳米多孔薄膜,采用北京同步辐射装置(BSRF)光源进行了小角X射线散射测试,在掠入射模式(入射角αi=0.2°)下得到了两组不同孔隙率纳米多孔薄膜的二维散射数据,在此基础上分析了薄膜的分形特征,发现所制备的薄膜除试样A1外,均存在双分形结构...     

X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用

阐述了Ｘ射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室Ｘ射线光刻装置上，采用本文研制的Ｘ射线镂空硅掩模获得胶厚为３０－４０μｍ、侧壁很陡、边缘很直的Ｘ射线深层光刻胶图形。     

同步辐射小角X射线散射及其在材料研究中的应用

小角X射线散射(small angle X-ray scattering,SAXS)是研究物质内部一纳米到数百纳米甚至到微米尺度级别微观结构的有力工具.近年来随着我国同步辐射技术的不断发展,同步辐射SAXS技术被越来越多地应用到各种材料的研究领域.然而,由于SAXS图谱是倒空间的信号,并不像显微镜那么直观,也不如X射线...     

X射线反射法测量铋系超导薄膜的结构参数

以铋系超导薄膜材料为例,应用X射线反射法测量薄膜材料的厚度以及粗糙度等结构参数,对测量方法的原理、衍射仪的调试和步骤等进行了详细的说明。这一方法为薄膜材料结构参数的测量提供了新途径。     

X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用

阐述了X射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室X射线光刻装置上，采用本文研制的X射线镂空硅掩模获得胶厚为30～40μm、侧壁很陡、边缘很直的X射线深层光刻胶图形。     

薄膜X射线应力分析

由于Ｘ射线薄膜衍射几何的特点，致使薄膜Ｘ射线应力分析的精度很骓达到常规应力分析水平。本文采用真空充阑、内标校正的途径来提高薄膜Ｘ射线应力分析的精度。     

同步辐射小角X射线散射研究PAN原丝制备过程中孔结构的演变

采用同步辐射小角X射线散射研究了PAN原丝制备过程中纤维孔结构的演变。结果表明,在水洗工艺中,纤维孔隙较多、较大,孔径分布较宽,近似圆形;在热水牵伸工艺中,纤维孔隙仍较多、较大,孔径分布较宽,近似椭圆形,长轴约17 nm~21 nm,短轴约4 nm~11 nm;在干燥致密化工艺中,孔隙急剧减少、减小,孔径分布较窄,沿纤维轴向约7 nm~9nm,垂直纤维轴向约2 nm;经过蒸汽牵伸,孔隙又增多、增大,孔径分布变宽,孔隙沿纤维轴向被牵伸得很长,近似梭形;但是随后的松弛热定型又使孔隙减小,孔径分布变窄。     

含杂质碳氮薄膜的X射线衍射研究

自从Ｎｉｕ等首次获得接近β－Ｃ３Ｎ４的电子衍射谱以来，许多研究小组都报道说已制备出β－Ｃ３Ｎ４微晶。但在本实验中发现，当含有铁等杂质时，碳膜和碳氮膜的Ｘ射线衍射谱中都再现与β－Ｃ３Ｎ４的理论计算相近的谱线。这提示在β－Ｃ３Ｎ４的研究中，需要排除杂质的影响，制备出净的样品，以便得出明确可靠的结论。     

镧薄膜表面的激活化学吸附研究

用俄歇谱及分子束技术就地与非就地研究了蒸发稀土金属镧薄膜的表面特性。一种情况是在镀膜机内制作镧薄膜，从镀膜机中取出，暴露在大气中，然后放入超高真空室内进行研究。另一种情况是La薄膜在超高真空室内制备并就地研究。结果表明，两种情况下获得的两样品的俄歇谱图不同。样品1的俄歇谐相当于表面组分主要为La（OH）3，它是由空气中的氧和水汽与表面作用形成的。样品2的俄歇谱相当于表面主要组分为La。少量的La（OH）3是La和超高真空室内的残余H2O作用的结果。用分子束技术对CH4在两样品表面的激活化学吸附特性进行了研究。实验发现初始粘着几率S0强烈地依赖于入射分子束的平动能，并以En＝Ecos2θi表征。在两种情况下都有初始粘着几率随平动能增大而线性增加。当样品表面温度由500K升至700K时，两样品的阈值能和活化能都不随表面温度变化，在相同气体作用下，阈值能和活化能仅由样品本身的结构和性质决定。     

中子辐照GaAs的X射线漫散射研究

用Ｘ射线漫散射研究了中子辐照ＧａＡｓ中的缺陷,结果表明：中子辐照产生点缺陷团,辐照剂量为１０＾１９ｍ＾－２和１０＾２１ｍ＾－２时,缺陷团的平均半径分别为３８７ｎｍ和４５５ｎｍ,这可能高剂量辐照下损伤区域交叠的结果,平均半径随退火温度的升高而减小是间隙原子与空位复合造成的。     

智能化涡流薄膜厚度测量的研究

叙述了智能化涡流薄膜厚度测量系统的组成、原理及控制关系，分析了保证测量不确定度很小的措施。指出了采用涡流测量薄膜厚度也是一种实用的测量方法。     

聚酰亚胺结构对聚酰亚胺银复合薄膜的反射和导电性能的影响

以原位一步法制备了具有反射和导电特性的聚酰亚胺银(P I/A g)膜,采用在分子结构中均含有羰基基团的二酐和二胺合成了聚酰胺酸(PAA)后,同时加入银盐溶液,经高温环化缩合形成具有反射和导电特性的P I/A g膜。通过对不同结构的P I/A g膜的反光特性和导电特性的对比研究认为,链段柔顺性相对较好的聚酰亚胺结构有利于银粒子向薄膜表面迁出。     

工艺参数对纳米颗粒Cu/SiO_2复合薄膜结构和光谱特性的影响

用离子束溅射法制备了具有反常光吸收特性的纳米颗粒CU／SiO2复合薄膜。获得了在离子来参数一定时，基片温度、膜料的沉积时间和镀膜后的保温时间等工艺参数对这种薄膜结构和光学特性的影响规律，并对纳米颗粒Cu／SiO2复合薄膜的反常光吸收特性作了计算和解释。     

PI薄膜在炭化过程中热解固态产物结构的X射线衍射分析

用Ｘ射线衍射技术测定了ＰＩ（聚酰亚胺）薄膜在炭化过程中热裂解固态产物结构的演变。据衍射峰随热解炭化温度的变化规律，发现该试样的分子链排列由层状的超分子结构转变为杂乱地无序状态。当加热温度达到７００℃时，观察到代表类似碳六方网面的（００２）衍射峰的出现，其衍射强度随热解炭化温度的升高而加强。同时，依据布拉格公式和谢东经验式所获得的微晶尺寸和面间距与热解炭化温度的依赖关系给予了表征。     

对向靶溅射制备NiCr-NiSi薄膜热电偶的动态特性研究

用对向靶溅射制备NiCr－NiSi薄膜热电偶，实现了薄膜成分与靶材基本一致。对热电偶进行动态特性测试表明，薄膜热电偶的时间常数τ随膜厚变薄而减小，并对此进行讨论。     

PI薄膜在炭化和石墨化过程中表面结构的喇曼散射研究

研究了ＰＩ（聚酰亚胺）薄膜在不同的炭化和石墨化温度条件下进行热处理所获得的激光喇曼光谱的特征及其结构变化的规律。结果表明，随着热处理温度的升高，试样中归属于Ａ１ｇ和Ｅ２ｇ模式的１３５８ｃｍ＾－１峰和１５７８ｃｍ＾－１散射峰的伸缩振动依赖于杂环稠合苯环所构成的分子结构。在２１００℃以前，碳体的分子结构发生明显变化，有序性增加，无序区减小。当温度达到２８００℃时，该试样梗转变为属于Ｄ６ｈ空间群的六角平     

聚乙烯晶态薄膜表面结构的研究

用离子团束－飞行时间质谱（ICB－TOFMS）系统制备了聚乙烯（PE）晶态薄膜。用透射电子显微镜（TEM）分析了样品结构，得到了结晶完善的晶片和（010）面的晶格结构条纹像。用扫描隧道显微镜（STM）分析了这种样品的表面结构，观察到了PE（001）和（010）面的表面形貌。     

纳米颗粒铜膜的制备和光学性能观测

应用离子束溅射技术制备了纳米颗粒铜膜，并在此基础上对其光谱特性进行了研究。结果表明，在特定波长出现了与连续薄膜不同的反常光吸收现象。