超导薄膜光学开关

日立中心研究实验室利用溅射在氧化镁基片上2微米厚的YBa2Cu3O7层，制成超导薄膜光学开关，这种薄膜陶瓷是最近发现的高温超导化合物之一，在85 K和3000安/厘米2最大电流密度下电阻消失。该组 把0.5微米的沟槽刻入薄膜，两面附上电极。     

薄膜光学性质的测定

薄膜的光学性质一般是指它们随波长变化的透射和反射特性。薄膜光学性质的测定是镀膜工作中不可缺少的检验手段,只有对镀好的薄膜进行必要的测量和分析,才能知道所镀的薄膜是否已达到预定的要求,也才可以进一步改进镀膜工艺,以获得更好的效果。下面介绍几种常用的测量方法。     

薄膜光学厚度定点测量法

本文介绍一种在真空镀膜过程中按相应于膜层透光极值的固定点测量光学厚度的方法。文中列有实验数据,说明1/4波长光学厚度的测量精度提高一个数量级。     

铁电薄膜光学性质的研究

本文对铁电薄膜的光学性质的研究进展进行了详细的总结。与人们对铁电薄膜的电学性质的研究相比,人们对光学性质的研究较少。由于铁电薄及其无定形薄膜都具有许多优良的电学性质,因此对它们的光学性质研究也很有必要。光学手段具有非破坏性,通过这种手段可以获得薄膜的光学常数折射率和消光系数,从而进一步获得它们的禁带宽度。中红外透射可以表征铁电薄膜内部结构的相变过程。通过远红外手段,可以研究薄膜的内部微观机制,如晶格振动等。最后,阐述了铁电薄膜及其无定形薄膜光学性质研究的发展方向。     

吸收薄膜光学常数的计算

提出一种精确快速的计算方法,用以计算镀在透明基片上的吸收薄膜的光学常数而无需计算机具。以PbxTe1-x薄膜的光学常数为例作了计算。     

薄膜光学常数的原位测定

薄膜的光学常数（折射率和消光系数）精度直接影响设计和制造的光学器件的性能。大多数光学常数的测定方法较为复杂,不能直接应用在镀膜过程中。提出了一种薄膜光学常数原位实时测量的方法,通过监测沉积材料的透射率可以快速准确地测量光学常数。测量了高吸收材料Si、低吸收材料Ta₂O₅和超低吸收材料SiO₂的近红外光学常数,用这种方法测得光学常数分别为n=3.22,k=4.6×10^-3,n=2.06,k=1.3×10^-3和n=1.46,k=6.6×10^-5。该方法适用于强吸收材料和弱吸收材料光学常数的测定,为在线精确测量薄膜的光学常数提供了一种有效的方法,对设计和制造高质量的光学器件具有重要意义。     

PLZT非晶薄膜光学性质研究

用溶胶－凝胶技术制备了化学组分为５／５０／５０的ＰＬＺＴ非晶薄膜。测试其２００￣８００ｎｍ波长范围的光学透射谱,和２００￣６７０ｎｍ波长范围的椭偏光谱。得到了ＰＬＺＴ（５／５０／５０）非晶薄膜膜厚和光学常数谱（折射率ｎ谱和消光系数κ谱）,并与组分为９／６５／３５的ＰＬＺＴ非晶薄膜的吸收边和折射率进行了比较。     

DDI法测薄膜光学常数

双光束双波长激光干涉（ＤＤＩ）法采用自行设计的可调双波长氦氖激光器作光源，可在同一光路中通过两次测量获得薄膜样品两个波长（０．６３３μｍ，３．３９μｍ）下的光学常数，即折射率、消光系数和厚度。论述了测量原理、测量装置和测量结果。     

ITO薄膜光学特性的研究

ITO薄膜是一种透明的导电膜,属于N型简并氧化物半导体,它能透过可见光,但反射红外辐射。ITO被广泛用作半导体器件的透明电极和作为形成异质结势垒的半导体材料。本文作者采用喷涂热解法制备ITO薄膜,发现其光学特性和电学特性受掺杂,环境气氛成膜温度和退火温度的影响。ITO的分子式为In_(2-x)Sn_xO_(3-y),作者利用PHI-550型俄歇能谱仪,用原子相对百分比浓度的方法来确定In_(2-x)Sn_xO_(3-y)中x和y值,改变掺杂量和环境气氛来控制x和y值变化。     

干涉法测定薄膜光学常数的精确度

用电子计算机分析了分光光度法(干涉法)测定非吸收基底上的薄膜的折射率、吸收率和厚度的可能误差。所得的结果给出了确定的应用范围,并阐明在实际科学实验中每一种研究方法最适用的范围。     

“薄膜光学”课程建设探索

本文从薄膜光学课程的地位、作用、任务以及教学目的出发,结合研究生教学的特点,对课程的内容设置及教学方法进行了探索,并应用于教学实践,取得了良好的效果,对同类课程的建设有一定的指导意义。     

新技术使薄膜光学涂层发生巨大变化

设计与制备方面的进展,包括一些高能淀积技术,促进了薄膜涂层的迅速发展。     

弱吸收薄膜光学参数的测量

将弱吸收薄膜镀在透明基片上,借助分光光度计测出薄膜的透射率曲线,便可确定薄膜的全部光学参数。     

低折射率薄膜光学参数的测量

借助高精度低反射率计和简单的数学处理,便能测出低折射率薄膜的折射率及其色散.     

磁控溅射LaB6薄膜光学性能研究

采用磁控溅射法在玻璃基片上沉积LaB6薄膜。通过改变溅射功率参数,获得最佳制备工艺条件。采用XPS、X射线衍射仪和分光光度计研究薄膜的成分、结构、晶向以及透过率。当溅射功率为44 W,氩气气压为1.5 Pa,氩气流量为27 sccm时制备的LaB6薄膜表面相对平整,结构致密。 XRD数据也表明,此时LaB6薄膜结晶度最高且(110)晶面发生明显的择优生长。同时分光光度计结果显示：薄膜的透过率随溅射时间的增加而降低,并且最高透过率对应的波长没有发生变化。     

无铅镀层

<正>目前无铅标准还没有完善,因此无铅元器件焊端表面镀层的种类很多。美国镀纯Sn和Sn/Ag/Cu的比较多。日本的元件焊接端镀层种类比较多,各家公司有所不同,除了镀纯Sn和Sn/Ag/Cu外,还有镀Sn/Cu、Sn/Bi等合金层。由于镀Sn的成本比较低,因此采用镀Sn工艺比较多,但由于Sn表面容易氧化形成很薄的氧化层,加电后产生压力,在不均匀处会把Sn推出来,形成Sn须。     

AlCN太阳能选择性吸收薄膜光学常数测定

本文讨论了太阳能选择性吸收薄膜ＡｌＣＮ各膜层的光学常数谱ｎ（λ）与ｋ（λ）的测定方法，用分光度计测量各膜层的反射率谱Ｒ０（λ），运用Ｋ－Ｋ关系，获得ｎ（λ）的谱值，最后用台阶仪测定各膜层的厚度，用分光光度计测量同适射率谱Ｔ０（λ）。运用Ｈａｄｌｅｙ方程，计算出反射率谱Ｒ和透射率谱Ｔ（λ），其值与分光光度计的实测值吻合。