简明消息

以激光生产经济的通信系统法国通信研究中心用紫外激光可以将连接激光器、传感器和电子线路所需的光波导印制在衬底上。激光束扫描穿越薄膜产生光波导激光辐射用来改变生长在衬底表面薄膜的折射率,形成波导。该工艺不需要任何光致抗蚀剂和蚀刻剂,就可望生产出较经济的通...     

高稳定性半导体激光器功率控制电路设计和测试北大核心CSCD

有些飞行器的表面安装有基于半导体激光器模块的激光信标系统,用于发出指定功率的稳定光束来配合地面光电系统对激光信标的捕获、识别和跟踪。针对该激光信标系统在宽温度范围下的高功率稳定性需求,设计了两种半导体激光器模块功率控制电路,分别对激光输出功率进行闭环控制和开环控制,采用国产和进口的激光器分别测试了两种控制电路在高低温下的功率控制效果,测试结果表明定电压开环控制电路的控制效果优于定功率闭环控制电路。     

亚微米激光光刻技术

<正> 对实验室和小量生产,为获得亚微米分辨率最好的办法是采用远紫外曝光光源,如Cd—He或Hg—Xe真空接触方式进行光刻。其缺点是光源的强度低,同时由于光致抗蚀剂的敏感度差,其曝光时间过长,通常需5～10分钟。 最近卡尔修斯公司采用了新的远紫外光源,即采用准分子激光器(波长为193nm)产生的强光束作为曝光光源(激光物质为氟化氩气体)。其曝光时间缩短到15～30秒钟,采用PMMA光刻胶,分辨率小于0.2微米。 这种激光光源可用于该公司的MJB—3和MA56系列光刻机。     

制造处为准分子激光器寻找又一用途

准分子激光器正在扎实地从实验室仪器发展成生产工具。美国Leitz-Image微系统公司近来推出一种定位标记激光光致烧蚀系统（ALPHA)，专为自动去除覆盖硅晶片上定位标记的光致抗蚀剂材料而设计。最先进的光刻系统使用这些标记在曝光之前获得的定位精度为0.25到0.35微米。这种较高的精度还能改善。     

单波长振荡的分布反馈半导体激光器

日本国际电信电话公司研究所采用将阴性型光致抗蚀剂与阳性型光致抗蚀剂同时以双光束干涉曝光的全新方法，研制成原理上一定从单波长振荡的分布反馈半导体激光器。     

激光直写系统制作掩模和器件的工艺

激光直写系统是国际上９０年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统，通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光，将设计图形直接转移到掩模或硅片上。激光直写系统的应用，可以分成一次曝光制作光刻掩模和多次套刻曝光制作器件两个方面。介绍使用激光直写系统制作光刻掩模和套刻器件的具体工艺，并给出利用激光直写工艺做出的一些掩模和器件的实例     

近阈值能量密度下薄膜的激光损伤特点

采用毫米量级大光斑的近单模的激光器 ,控制入射薄膜表面的激光能量 ,获得了几种常见单层膜和增透膜的损伤形貌 ,实验结果表明 ,薄膜的损伤可区分为熔化型和应力型两种 ,薄膜表面等离子体对损伤斑点的扩大有重要作用。     

激光诱导间质热疗中的治疗参数选择

目的：考察激光诱导间质热疗中各治疗参数对治疗效果的影响，对各治疗参数进行选择和优化。方法：基于光子传输理论，分别采用Monte Carlo模拟方法和Pennes生物传热方程求解生物组织中的能量分布和温度分布。结果：计算得到了一般加热系统、具有冷却设备的加热系统以及暂时阻断血液灌注条件下，激光波长、功率大小及激光加入头曝光时间对凝结区域大小的影响。结论：激光诱导间质热疗中，需要综合考虑生物组织特性和激光波长、功率及曝光时间等治疗参数来制定治疗方案。     

近阈值能量密度下薄膜的激光损伤特点

采用毫米量级大光斑的近单模的激光器,控制入射薄膜表面的激光能量,获得了几种常见单层膜和增透膜的损伤形貌,实验结果表明,薄膜的损伤可区分为熔化型和应力型两种,薄膜表面等离子体对损伤斑点的扩大有重要作用。     

大功率半导体激光驱动电源的研制

介绍了一种利用单片机控制的大功率半导体激光驱动电源。系统采用恒流源、光功率反馈、继电保护、慢启动、慢关闭等软保护措施,实现对半导体激光器输出光功率的软调整及有效保护。同时,采用半导体温度控制技术,对半导体激光器进行恒温控制,从而实现了半导体激光器光功率稳定、可靠、准确输出。经实验证明,在0℃-40℃的环境温度下,该驱动电源可使激光器的光功率稳定度优于0.5%;温度控制精度优于±0.3℃。     

高功率横流CO2激光器集散控制系统的研究

本文研究了一种用于高功率横流CO2激光器的集散控制系统。该系统兼具监测、控制、报警、保护四大功能。同时该系统在对激光器最重要的参量输出激光功率的检测研究方面,有其重要进展,该系统研制了一种新型的围内尚未解决的尾镜取样功率檎测法,该检测方法线性度好,可实现对激光功牢的实时检测叉不影响激光输出。     

大功率CO2激光器尾镜取样功率测控的研究

激光功率是激光器中最基本的参数,激光功率的稳定、准确将对激光加工等领域产生直接而巨大的影响.在大功率CO2激光器功率测控系统中,采用尾镜即全反球面镜漏光进行激光功率采样,并通过西门子S7-200PLC实现对整个系统的激光功率测控,可以有效提高对激光器的控制精度和稳定性,且不影响激光输出     

DPSS激光器系统

加拿大MellesGriot公司最近生产出一系列工作波长为 42 2nm的小型二极管泵浦固体激光器 ,输出功率分别有 5mW ,8mW和 1 0mW。该系列激光器可取代HeCad激光器 ,适于激光诱导荧光计量和控制使用 ,并具有单纵模和单横模两种工作模式和自动功率控制的功能。 (No .2 4)DPSS激光器系统     

用CO2激光器涂镀优质薄膜

西德汉堡菲利浦中心实验室使用高功率、连续CO2激光器以真空涂镀法制成高质量薄膜。使用CO2激光器克服了过去使用红宝石激光器进行试验的某些困难。这些困难在于,在辐照时,熔融物或固态粒子易于逃逸。这一问题是通过控制焦点处CO2激光的能量密度来克服的。同时也发现,为了防止薄膜材料蒸发速率降低,必须缓慢而恒速地移动光束,遍及材料源的表面。     

利用单波长激光器构造远紫外光源

用于光学印刷的远紫外光源可以分为两类:一类是用在曝光照明和其他高功率应用,另一类是用在测量工具上.对于曝光的感光材料,平均功率很高的准分子激光器是可选的光源。而对于测量工具,只要求很低的光学功率,因此可通过小功率、单波长的固体激光器来获得,这样就无须处理有毒气体.通常,一些测量工具要用的波长与准分子激光器用于曝     

脉冲半导体激光器在激光近炸引信应用中应注意的问题

脉冲半导体激光器是激光引信的重要器件,其脉冲峰值功率的大小直接影响着激光引信的作用距离,其使用寿命和光电指标的稳定性直接关系着激光引信的使用寿命和性能。文中针对激光器的脉冲峰值功率的下降问题,分析了激光器发光机理影响其变化的因素,激光器的热效应、激光器的老化和不正确的使用方法。从激光探测原理分析了由于脉冲峰值功率下降对激光引信作用距离的影响。同时,从激光器生产过程和应用两方面剖析了加速激光器老化甚至导致失效的原因,最后根据多年使用经验,总结了脉冲半导体激光器在激光引信系统使用过程中的注意事项,并提出了解决措施。     

一种分布反馈注入放大半导体激光器的研制

研制了一种小型大功率半导体激光器系统。将分布反馈半导体激光器输出的小功率光注入到锥形芯片放大器后实现功率放大,得到功率大于700 mW,波长连续可调谐范围大于1 nm的输出激光。该激光器系统不但结构紧凑、输出功率稳定,而且操作方便。该系统可在激光冷却与囚禁、超冷量子气体、量子信息、原子频标及相关空间实验研究中得到应用。     

多阶母盘刻录系统中的激光多阶功率写入控制

描述了多阶母盘刻录系统中一种基于丁业标准结构(ISA)总线接口和复杂可编程逻辑器件(CPLD)技术的激光多功率写入控制方法及其控制电路的设汁实现。控制电路以丁业标准结构总线接口与计算机通信。以复杂可编程逻辑器件为核心处理单元，采用外加功率探测器进行功率反馈。可以同时控制激光器的写入功率和写入时间，使半导体激光器可以对母盘上感光材料进行多阶功率的曝光刻写，同时写入时间可调，从而实现母盘的多阶刻录。已经用于多阶母盘刻录实验系统，可以兼容不同类型的半导体激光器。实验结果表明，使用此控制电路可以在光致变色材料盘片上实现至少8阶功率写入。并获得8阶信号。其最小写入时间125ns，长时间工作输出功率的不稳定性小于1％，可满足只读型多阶光盘的刻录需要。     

CW YAG激光器辐射功率稳定技术

引起激光辐射功率漂移的因素比较复杂,本文采用了两级稳定控制系统来逐级抑制YAG激光器辐射功率的涨落。第一级利用激光器本身的反馈信号来控制泵浦电源,使激光器自身维持自动平衡;第二级利用电光晶体调制装置从激光器外进一步稳定激光功率,可得到稳定的激光辐射功率,其稳定度优于0.3%/h。     

基于FPGA的数字激光自动功率控制系统设计

半导体激光器的自动功率控制是解决激光器阈值漂移的重要手段,本文设计了一个基于FPGA的数字激光自动功率控制系统,该控制系统主要由光电检测、A/D转换、SOC控制、APC判定、PWM反馈输出及低通滤波几个部分组成。该自动功率控制系统使用硬件资源少,根据不同的设计要求,通过增加PWM模块和简单的模拟器件或者改变控制寄存器的设置,就可以实现多级激光功率和多个激光器的控制,可以大大缩短设计周期。