铜-钨复合镀层电沉积工艺及其性能

采用复合电沉积的方法,通过在镀铜液中加入直径为1～3μm的钨颗粒,在纯铜表面制备了铜_钨复合镀层.研究了镀液中钨质量浓度、阴极电流密度.搅拌速率、镀液温度等工艺参数对镀层中钨质量分数的影响,测定了复合镀层的显微硬度和接触电阻.得到了复合电沉积的最优工艺为:钨质量浓度35 g/L,电流密度4 A/dm2,搅拌强度600 r/min,温度5℃.所得铜-钨复合镀层具有合适的显微硬度(98.5～112.0 Hv)、稳定且较低的接触电阻及较长的电接触寿命,可以取代AgCdO触头.     

电镀镍-磷合金工艺

综述了镍-磷合金镀层的特性及热处理、溶液组成、操作条件等对镀层结构和物性的影响,介绍了电镀镍-磷合金的维护与管理方法,不良镀层的退除方法及影响镍-磷合金镀层硬度及耐蚀性的因素。此外,还介绍了一种较为成熟的该合金的电镀工艺。     

电沉积制备镍-铁-钨合金析氢电极的工艺研究

以紫铜片为基体电沉积制备了Ni–Fe–W合金电极。研究了镀液中不同组分的浓度和工艺条件对Ni–Fe–W合金析氢性能的影响,得到最佳镀液配方和工艺条件为:NiSO4·6H2O80g/L,FeSO4·7H2O20g/L,Na2WO4·2H2O0.020mol/L,Na3C6H5O7·2H2O 0.5 mol/L,H3BO3 0.65 mol/L,Na2SO4 0.1 mol/L,十二烷基硫酸钠0.1 g/L,pH 5~6,温度30°C,电流密度4 A/dm2,磁力搅拌800 r/min,时间30 min。在该条件下所得Ni–Fe–W合金电极表面Ni、Fe和W的原子分数为63.79%、34.35%和1.86%,具有较大的比表面积,在30%KOH溶液中的析氢催化活性较好。     

非晶态镍—钨—磷合金电沉积层的组织结构及耐蚀性

非晶态镍－钨－磷合金镀层由于具有优良的耐蚀性而被广泛用作材料的防护处理。采用扫描电子显微技术、Ｘ射线衍射分析及腐蚀介质浸泡试验研究了镍－钨－磷合金电镀层的组织结构,成分及耐蚀性。试验发现,所得合金镀层呈非晶态。进行热处理,当温度达３００℃以上时,镀层开始由非晶态向晶态转化;当加热至４００℃以上,镀层已完全转变为晶态结构,腐蚀试验发现,镍－钨－磷合金镀层在８５％Ｈ３ＰＯ４、１０％Ｈ２ＳＯ４、２０％Ｈ     

铁-镍-钨合金电镀在缸套上的应用

以45钢缸套内孔表面为基体,电沉积得到Fe-Ni-W合金镀层.采用目视评价、显微硬度计.中性盐雾试验,盐水浸泡试验及干性条件的摩擦磨损试验等方法,研究了Fe-Ni-W合金镀层的外观、显微硬度、耐蚀性、耐磨性等性能.结果表明,Fe-Ni W合金镀层光亮、细致,镀层在最佳温度500～650℃下热处理2h后硬度最高可达130...     

超声波功率对电沉积钴−镍−钨合金性能的影响

以纯铜为基体,在100 kHz频率的超声波辅助下电沉积Co-Ni-W合金镀层。镀液组成和工艺条件为:CoSO_4·7H_2O 0.6 mol/L,NiSO_4·6H_2O 0.2 mol/L,Na_2WO_4·2H_2O 0.18 mol/L,H_3BO_3 0.2 mol/L,Na_2SO_4·10H_2O 0.05mol/L,Na_3C_6H_5O_7·2H_2O 0.4 mol/L,pH 6.0,温度(40±2)℃,电流密度0.6 A/dm2,超声波功率0～750 W,时间15 min。研究了超声波功率对电沉积过程及合金镀层表面形貌、元素组成、相结构、显微硬度和耐蚀性的影响。结果表明:超声波辅助可削弱电沉积过程中浓差极化的影响,强化液相传质,促进反应界面的电子转移。超声波功率高于150W时,Co-Ni-W合金镀层的W原子分数显著提升。超声波功率为300～600W时,镀层平整、致密,呈纳米晶结构。超声波功率≥600W时,镀层趋于非晶态结构。超声波功率为450～600W时,Co-Ni-W合金镀层具有较高的显微硬度和良好的耐蚀性。     

非晶态镍磷合金电沉积机理的研究

通过镍磷合金电沉积阴极极化曲线,循环估安曲线,旋转圆盘电极极化曲线以及电位阶跃电流－时间曲线的测量和分析,并根据数学,物理,物理化学,流体力学和电化学动力学等原理,在假设的基础出镍磷合金电沉积的理论模型,镍磷合金电沉积为液相扩散和电化学放电混合控制,与实验结果相一致。     

电沉积Ni-W非晶态合金

研究电沉积Ni-W合金的非晶化条件,划分出结晶与非晶结构区。由X衍射实验判定,Ni-W合金镀层足以Ni为溶剂、W为济质的置换型固溶体,呈面心立方结构。通过计算晶格畸变度、晶粒直径及其随结构的变化,解释了非晶镀层的形成原因。测定了作品镀层在酸溶液中的腐蚀速率,用X射线光电子能谱仪(XPS)对其在酸溶液中形成的钝化膜进行了测试,钝化膜的化学结构式为i(OH)_2·WO_3、·nH_2O。     

电沉积钴-钨合金薄膜的磁性能及其测量方法

采用电沉积技术在纯铜片上制备了钴-钨合金薄膜,并研究了钴-钨合金薄膜的磁性能与其厚度、结构及表面形貌等的关系。结果表明:钴钨电沉积属于诱导共沉积,钨在钴表面氢原子的催化作用下与钴发生共沉积。钴-钨合金薄膜的厚度约为6μm,属于Co₃W四面体结构,其表面由典型瘤状颗粒构成。钴-钨合金薄膜垂直方向的磁性能优于平行方向的磁性能,最大矫顽力为74.42 kA/m。     

Ni-Fe-Cr合金在铁基体上的电沉积

以柠檬酸为配合剂,在氯化物–硫酸盐体系中,通过电沉积的方法在铁基体上获得了含42.2%～63.4%Ni、30%～57.3?和0.5%～6.6%Cr的Ni–Fe–Cr合金镀层。采用能量色散X射线谱分析了合金镀层的成分,研究了电流密度、温度、pH对合金镀层成分的影响。确定了最佳工艺条件为:电流密度12～18A/dm2,pH1.6～2.7,温度20～30°C。X射线衍射分析表明,Ni–Fe–Cr合金镀层为面心立方晶体结构。扫描电镜观察表明,镀层表面由密集的球形小颗粒组成。镀层光亮,与基体结合良好,在w=5%的NaCl溶液中具有良好的耐蚀性。     

锡-铁合金电沉积工艺的优化

通过正交试验对电镀Sn-Fe合金的镀液配方进行优化,研究了电流密度和镀液p H对Sn-Fe合金镀层微观结构、显微硬度、光泽和耐蚀性的影响,得到最优镀液配方和工艺条件为:葡萄糖酸钠120 g/L,硫酸亚锡40 g/L,硫酸亚铁20 g/L,H3BO320 g/L,聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯嵌段聚醚(EPE4600)30 mL/L,pH 4,温度25℃,电流密度2.0 A/dm2。在该条件下可电镀得到表面光亮、结晶细致、耐蚀性良好的Sn-Fe合金镀层。     

电沉积制备钴-钼合金薄膜及其耐蚀性的研究

采用电沉积方法制备了钴-钼合金薄膜,并研究了钼酸钠的浓度对薄膜耐蚀性的影响。研究发现,钴-钼合金薄膜具有一种典型的Co3Mo四面体结构。适当提高镀液中钼酸钠的浓度,有利于提高薄膜中钼的质量分数及薄膜的耐蚀性。但当镀液中钼酸钠的浓度过高时,会阻碍钴的电沉积,促进析氢过程,MoO2的析出使得薄膜表面的粗糙度和孔隙率增大,薄膜的耐蚀性变差。     

锌-镍/纳米氧化铝复合电沉积及镀层结构性能研究

以冷轧钢板为基材,研究了Zn-Ni/纳米Al2O3复合镀层的电沉积工艺,分析了复合镀层的成分和晶体结构.通过中性盐雾试验,考察了复合镀层的耐蚀性.采用X射线衍射和扫描电镜,分别表征了复合镀层腐蚀产物的微观结构以及镀层的表面形貌.结果表明:Zn-Ni/纳米Al2O3复合镀层的结晶比Zn镀层及Zn-Ni合金镀层更细致,晶粒排布更均匀、整齐.当Zn-Ni/纳米Al2O3复合镀层中Ni和Al2O3的质量分数分别为13%左右和0.40%～0.60%时,其耐蚀性最好.Al2O3颗粒的掺入可降低镀层的孔隙率,使镀层平整、致密,从而提高了镀层的耐蚀性.     

Electrodeposition and corrosion behaviour of a Ni–W–B amorphous alloy

Electrodeposition of Ni–W–B alloys from plating baths containing ammonia and citrate is reported. Optimum conditions for plating including current density, temperature, mechanical agitation and pH were studied. The corrosion resistance and amorphous character were also evaluated. The operational conditions for depositing the alloy with good corrosion resistance were: current density 35 mA cm⁻², bath temperature 40 °C, pH 9.0 and cathode rotation at 90 rpm. The alloy was deposited at 38% current efficiency, with an average composition of 73 wt% Ni, 27 wt% W and traces of boron and with E _corr −0.300 V and R _p 3.369×10⁴ Ω. The deposit obtained under these conditions had an amorphous character with the presence of some microcracks on its surface reaching down to the copper substrate. Electrochemical corrosion tests verified that the Ni–W–B alloy had better corrosion resistance than Co–W–B.     

电沉积Ni-Fe合金工艺及镀层耐蚀性的研究

采用电沉积的方法制备了Ni-Fe合金镀层,对其微观形貌和结构进行了表征,并采用电化学方法研究了所制备的Ni-Fe合金镀层在不同介质中的腐蚀行为。结果表明:在5%硫酸溶液以及3.5%氯化钠溶液中,w(Fe)为19.23%的Ni-Fe合金镀层耐蚀性最好,在5%氢氧化钠溶液中w(Fe)为28.16%的Ni-Fe合金镀层的耐蚀性最佳。     

Electrodeposition of Zn–Co alloy coatingsfrom sulfate–chloride electrolytes

The composition, surface morphology and appearance of Zn–Co alloy deposits as a function of current density, electrode potential and Co2+ concentration in the electrolyte was studied. It was found that coatings of good quality with low (1%) Co content are formed at a current density of 0.2Adm–2 and with high (6.5%) Co content at 2Adm–2 from electrolytes containing 1.0M Co2+ under galvanostatic conditions. The potentiodynamic dissolution of coatings with Co content of 6.5% indicates successive deposition of Co enriched phases and a pure Zn phase. The Zn–Co alloys are more corrosion resistant than zinc but are less resistant than cobalt.     

电沉积三元铁基非晶磁性合金薄膜的研究进展

叙述了电沉积三元铁基非晶磁性合金薄膜的工艺条件,包括Fe-Ni-S、Fe-Ni-Cr、Fe-Ni-W、Fe-Co-Ni及Fe-P-B等五种典型合金薄膜。介绍了铁基非晶磁性合金薄膜的耐蚀性、耐磨性、热稳定性以及磁学等功能性能,指出了未来铁基非晶磁性合金薄膜的研究方向。     

水溶液中电沉积Ni-Ce-P合金

通过选择合适的络合剂、电极材料和共沉积元素,成功地从水溶液中电沉积出了Ni Ce P合金。研究了镀液中含磷化合物分别为NaH2PO2与H3PO3时镀层的形貌,并对镀层中Ce含量进行了分析。结果表明,镀液中含磷化合物为H3PO3时得到的镀层较均匀且Ce含量更高,而且当镀液中CeCl3·7H2O浓度低于1 5g/L、H3PO3浓度低于4g/L以及NiCl2·H2O浓度低于8g/L时,得到的镀层中没有Ce元素。     

电沉积纳米晶镍-铁-铬合金

采用直流和脉冲电沉积方式从三价铬的氯化物镀液中沉积出镍-铁-铬纳米合金镀层，利用扫描电镜分析镀层形貌及晶粒尺寸，研究了沉积速率，电流效率，三价铬浓度及pH值随沉积时间的变化关系，结果表明，脉冲电沉积所得镀层的结构和性能均优于直流电沉积，这是由于脉冲电沉积存在断电时间，使得电极表面扩散层中金属离子的浓度得到及时恢复。