薄膜中ZnO/Ag的相对厚度对电学性能的影响

银作为低辐射镀膜玻璃的功能层,保证了低辐射镀膜玻璃具有优异的热力学性能.截至目前,银在低辐射镀膜玻璃中仍然起着不可替代的作用.而银层生长质量的好坏则决定了低辐射镀膜玻璃产品性能的好坏.通过对膜层结构中ZnO/Ag的相对厚度对电学性能的研究,当同时满足ZnO的厚度为4nm,Ag的厚度为10nm时,膜层的电学性质最为优异.     

H2O对SnO2:F低辐射薄膜结构和性能的影响

以单丁三氯化锡(C4H9SnCl3)为前驱物,三氟乙酸(CF3COOH)为掺杂元素F的引入剂,H2O为催化剂,采用常压化学气相沉积法在浮法玻璃生产线上直接制备了F掺杂的SnO2膜(SnO2:F).采用X射线衍射、扫描电子显微镜、椭圆偏光仪、紫外-可见光谱研究H2O的用量对薄膜的结构和光电性能的影响.结果表明:水对薄膜结构和性能均有显著的影响,随着催化剂H2O含量的增加,SnO2:F为四方相金红石结构,薄膜结晶度提高,致密性得到改善,膜厚有所增加,方块电阻下降.在H2O含量为1.8mol/L时效果较好.     

低辐射镀膜玻璃的膜系结构及其特性

对采用真空磁控溅射法生产的四种低辐射玻璃,即单银低辐射玻璃、双银低辐射玻璃,阳光控制低辐射玻璃和改进型低辐射玻璃的膜系结构及特性进行了分析。阐述了它在可见光及太阳光透射比和反射比、辐射率、Ｕ值和遮蔽系数等方面有差异以及目前在生产和应用中有待解决的问题。     

浅析磁控溅射镀膜玻璃膜层的形成

通过试验数据和理论分析，详细论述了平面靶是如何将靶材粒子沉积到玻璃表面，形成均匀的膜层及其价值。     

最简配置生产低辐射镀膜玻璃

通过在美国爱柯公司离线镀膜玻璃生产线上调试低辐射镀膜玻璃,详细论述了低辐射镀膜玻璃的分类和节能原理,以及如何巧用最简单的一室三级设备生产低辐射镀膜玻璃.     

Ag基可钢化低辐射镀膜玻璃钢化性能研究

通过对Ag基可钢化低辐射玻璃产品的钢化试验,分析比较钢化前后色差、辐射率等参数的变化,研究其性能变化规律,为深加工客户提供参考。     

最简配置生产低辐射镀膜玻璃

本文通过在美国爱柯公司离线镀膜玻璃生产线上调试低辐射镀膜玻璃，详细论述了低辐射镀膜玻璃的分类和节能原理，以及如何巧用最简单的1室3级设备生产低辐射镀膜玻璃。     

低辐射镀膜玻璃的现状及展望

本文论述了低辐射镀膜玻璃的性能、用途、生产方法及国内外现状，提出对我国浮法在线生产低辐射镀膜玻璃的展望。     

低辐射镀膜玻璃的鉴别

众所周知,镀膜玻璃按生产工艺分为在线镀膜玻璃和离线镀膜玻璃;按功能分为阳光控制镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃。低辐射镀膜玻璃按节能功效分又分为单银、双银、多银低辐射镀膜玻璃;按遮阳效果分为高透型低辐射镀膜玻璃和遮阳型低辐射镀膜玻璃。     

低辐射镀膜玻璃的研究进展

本文介绍了开发低辐射镀膜玻璃的意义及国内外的研究和应用状况,并比较了低辐射镀膜玻璃的制备方法,展望了其应用前景。     

低辐射(Low-E)镀膜玻璃的钢化

通过可钢化低辐射(Low-E)镀膜玻璃加工流程的说明,指出了在膜系结构的设计及膜材选择方面需考虑的问题,并根据钢化工艺流程可能对低辐射(Low-E)镀膜玻璃造成的缺陷进行了分析说明,并提出了需注意的问题.最后对可钢化低辐射(Low-E)镀膜玻璃的强制对流,间接辐射钢化炉的结构,原理进行了描述,指出了可钢化低辐射(Low-E)镀膜玻璃只有采用强制对流炉才能生产出高质量的钢化玻璃产品.     

银基镀膜玻璃耐潮性能的提高

研究了银基低辐射镀膜玻璃的受潮机理及提高银基镀膜玻璃耐潮性和耐候性的方法。在潮湿环境中,银基膜层表面易产生白点缺陷。通过对缺陷进行EPMA分析,发现银膜的受潮过程是水汽扩散进入银层,驱使银膜中的银原子发生迁移聚集,从而造成在银膜之上沉积的介质层内应力过大而脱落,形成白点缺陷。采用银掺杂的方式,可以抑制银原子团聚,降低白点缺陷,显著提高银基低辐射镀膜玻璃的耐潮性和耐候性。     

用溅射工艺镀可钢化低辐射膜玻璃的探索

1概述 离线溅射镀Low—E玻璃具有较高的可见光透过率和很低的热辐射率，其热辐射率比在线镀膜的Low—E玻璃更低，保温隔热性能更好。在镀膜后进行高温热处理方面，溅射镀Low—E玻璃性能处于劣势。探索可钢化热弯的Low—E玻璃一直是离线溅射镀膜玻璃行业的迫切要求。     

改善生长层表面平整度,提高Low-E膜层的性能

通过对Low—E膜系中的ZnO生长层的研究及对其进行离子轰击处理,给出了以适度的离子轰击处理的方式,使得ZnO生长层的平整度得以改善,从而可降低Low—E镀膜玻璃的面电阻,提高对近红外线的反射。即提高了整体Low-E膜层的质量。     

低辐射膜玻璃的生产与发展

对低辐射膜玻璃的生产原理、产品类型和特点以及节能效果等进行了探讨。同时,还对低辐射膜玻璃的发展历史及其在国内外的发展状况进行了简述,分析国内的现状及政策,对低辐射膜玻璃的未来发展进行展望。     

一种低辐射镀膜玻璃

专利申请号:CN201010296018.2公开号:CN101955324A申请日:2010.09.29公开日:2011.01.26申请人:吴江南玻华东工程玻璃有限公司本发明公开一种低辐射镀膜玻璃,它包括玻璃基片,所述的玻璃基片的一侧从内向外依次设置有第一介质层、铜膜层、第一阻挡层、第二介质层、银膜层、第二阻挡层及第三介质层,所述的第一介质层、所述的第二介质层及所述的第三介质层为     

影响镀膜玻璃膜层粘附强度的因素及控制

膜层粘虽度是镀膜玻璃质量的重要指标。本文对影响膜层粘附强度因素进行分析并提出控制措施。指出工艺参数的正确选取及玻璃表面的有效预处理是保证镀膜玻璃膜层粘附强度的关键。     

氧气对磁控溅射HfO2薄膜电学性能的影响

采用射频磁控溅射法在无氧和有氧气氛下制备了HfO2薄膜.通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、傅立叶变换红外光谱(FTIR)、椭圆偏振光谱(SE)以及电容-电压(C-V)测试对薄膜的结构、成分、HfO2/Si界面和HfO2栅介质MOS结构的电学性能等进行了分析表证.结果表明,溅射过程中通入氧气后,薄膜出现了较明显的结晶化;薄膜的氧化程度得到提高,成分更接近理想化学计量比HfO2.在HfO2/Si界面处存在的SiO2界面层,有氧条件下界面层的厚度增大.氧气的通入改善了HfO2栅介质MOS结构的电学性能.     

浅述一种在线生产阳光控制低辐射镀膜玻璃的方法

介绍了一种在线生产阳光控制低辐射镀膜玻璃的方法,它是用常压CVD法将汽化的液态气体喷涂在625—640℃左右的玻璃表面,热解生成含掺杂剂锑的近红外（NIR）阳光吸收底层,顶层为含掺杂剂氟的对中远红外具有反射低热辐射控制层。产品既具有低辐射性能又具有阳光控制性能。