掩模电镀镍微结构的镀层均匀性研究

在给定的电镀液组分下,对掩模电镀微结构的厚度均匀性及镀层横截面轮廓进行了研究,讨论了影响微结构镀层厚度均匀性的主要因素,分析了镀层横截面轮廓随电流密度的改变而变化的原因.电镀液中无添加剂时,镀层均匀性与阴极极化度及电镀边缘效应直接相关;电镀液中有添加剂时,本实验所使用添加剂所具有的并存吸附状态是影响镀层均匀性的主要因素.通过实验得到可获得良好均匀性镀层的电镀参数为:i＝(6±2)mA/cm2,t＝25℃.     

掩模电镀镍微结构均匀性的研究

在给定的电镀液组分下,对掩膜电镀微结构的厚度均匀性及镀层横截面轮廓进行了研究。讨论了影响微结构镀层厚度均匀性的主要因素。分析了镀层横截面轮廓随电流密度的改变而变化的原因。电镀液中无添加剂时,提出镀层均匀性与阴极极化度直接相关;电镀液中有添加剂时,本实验所使用添加剂所具有的并存吸附状态是影响镀层均匀性的主要因素。通过实验得到可获得良好均匀性镀层的电镀参数：i=6±2 mA/cm2,T=25°C。     

锡晶须形成的影响因素研究

用电镀方法制备锡锰合金镀层,用扫描电镜观察其表面自然生长的晶须,分析基体表面粗糙度、搅拌、电流密度参数等对晶须生长的影响。结果表明,增大电流密度可提高晶须密度,这与镀层结晶组织密切相关。     

锌镍合金镀层和镉镀层对30CrMnSiA结构钢疲劳性能影响的对比

采用电镀工艺在30CrMnSiA结构钢光滑与缺口试样上制备了锌镍合金镀层,采用升降法得到了锌镍合金镀层试样的疲劳极限,采用S-N曲线研究了锌镍合金镀层试样的疲劳性能,并与镉镀层试样的疲劳性能进行了对比。结果表明:不同循环周次下,锌镍合金镀层试样的疲劳极限与镉镀层试样的基本相同,不同应力水平下两种镀层试样的疲劳寿命也基本相当;从对基体材料疲劳性能的影响考虑,锌镍合金镀层可以替代镉镀层。     

HK碱性锌镍合金工艺在单体支柱电镀中的应用

一、概述 含Ni8-10％的碱性锌镍合金镀层,具有工艺性能稳定、镀层光亮、镍共析稳定、抗蚀性能好等显著特性,容易进行彩色钝化,经钝化后的Zn-Ni合金镀层其中性盐雾试验,出现红锈时间大于2000小时。目前广泛地应用于汽车、输电、煤矿及国防工业中。 1.溶液中金属离子浓度对合金组成的影响 通常情况下,溶液中金属离子的浓度对合金镀层的组成影响较大,碱性zn—Ni合金电镀也不例外。在HK碱性锌-镍合金电镀溶液中,锌的浓度的变化对镀层镍的影响较大,随着氧化锌浓度的不断提高,镀层中镍含量逐步下降。当溶液中氧化锌的浓度控制在6-15g/L范围内时,镀层中的镍含量为7％-12％,     

变截面梁的微电镀研究

介绍了微电镀原理和设计了微电镀平台,设计了悬臂梁的微电镀工艺流程.为了提高镍微电镀镀层的均匀性和降低镀层的内应力,以及如何解决表面积差异悬殊的镀层厚度的一致性问题,研究了不同电镀参数下的悬臂梁的电镀效果.实验结果表明,脉冲电源电镀优于直流电源电镀,且在阴极前放置细铁丝网、适当降低电流密度、增大占空比、延长电镀时间可以提高镀层厚度的一致性和镀层表面的均匀性.     

汇流环钯镍镀层制备工艺研究

汇流环作为一种连续传输电能与信号的电子器件,在长期转动过程中要求其表面修饰具有高耐磨性且电接触性能良好的镀层,而钯镍镀层(80/20) 就是一种理想的选择。文中探讨了汇流环表面钯镍镀层(80/20)的制备工艺。研究了镀液比例和电流密度对钯镍镀层厚度和含量的影响以及镀层厚度对钯镍成分的影响,探索了不同环结构及内外表面钯镍镀层的沉积规律。通过制备工艺选择与改进,能够得到厚2 um ~ 20 um、钯含量为77. 6% ~ 83%的钯镍镀层。最后还考察了经钯镍镀层修饰的汇流环的动态跑合情况。动态跑合70 万转,汇流环端电阻阻值为30 m赘~ 34 m赘,阻值波动小于10 m赘,测试结果符合动态跑合的技术指标。     

纳米SiC/Ni复合镀层的制备及其摩擦磨损性能

用电沉积方法在316L不锈钢表面制备了纯镍镀层和纳米SiC/Ni复合镀层,考察了电镀时间、SiC质量浓度、电流密度和镀液温度对复合镀层中纳米SiC含量的影响,表征了镀层的表面形貌和SiC纳米颗粒的尺寸;最后研究了镀层的摩擦磨损性能。结果表明:复合镀层中纳米SiC的含量随着电镀时间延长、电流密度增大、镀液温度升高以及SiC质量浓度的增大先升高后降低,且最佳工艺参数为电镀时间30min,SiC质量浓度20g·L-1,电流密度2A·dm-2,镀液温度60℃,镀液pH4.5,搅拌速度300r·min-1;与纯镍镀层相比,纳米SiC/Ni复合镀层的晶粒更细小,组织更致密,具有更好的摩擦磨损性能,摩擦因数降低了7%以上,磨损率降低了50%。     

锌酸盐电沉积锌镍合金工艺研究

本文重点研究了锌酸盐电沉积锌镍合金的镀液组成及工艺条件；各因素对镀层合金成分的影响，并测试了镀液和镀层性能；最后得到了比较理想的电镀镍合金工艺。     

脉冲电镀及其在合金镀中的应用

本文阐述了脉冲镀合金时的质量传递和电结晶的行为,介绍了脉冲电镀所得合金镀层在组成、性质、均匀性、整平性和镀速等方面的特性,及其在电子、功能性和装饰性电镀等领域中的应用。     

Sensitivity analysis of plating conditions on mechanical properties of thin film for MEMS applications

In this paper, we report the detailed investigation into the effects of plating temperature and applied current density upon the mechanical properties of plated nickel film such as Young’s modulus and residual stresses. This method uses the resonance method of atomic force microscope, which does not require specially microfabricated cantilevers and additional experimental set-up. Thin layers of nickel are electroplated onto the tip surface of AFM cantilevers and plating thicknesses were measured at the end of each plating step. The self-deformation of the released AFM cantilever is also measured as a function of the plated nickel thickness, which is converted into the quantitative residual stress by appropriate mechanics. The measured Young’s modulus is as high as that of bulk nickel at low plating temperature and at low applied current density, but drastically drops at high temperature or current density. The dependence of Young’s modulus on the plating thickness is negligible in thin film less than few microns. The residual stress is also a strong function of the process conditions, and decreased with the elevation of the current density and plating temperature. And the intrinsic and extrinsic stresses of plated nickel are separated from the measured residual stress, and correlated with plating conditions. Dependence of the plated thickness on Young’s modulus and residual stress is also considered.     

高速钢领表面涂层技术的新发展

分析了目前适合细纱机钢领专件的各种表面涂层技术的发展.特别是对性价比优、摩擦系数小、耐磨、防腐的表面涂层进行了分析,列举了一些适合钢领表面涂层的新技术,如镀铬、镍磷复合镀、金刚石涂层、纳米镀膜、非晶态以及自润滑等表面处理技术,有的已经开始使用这些表面处理,而有的还需要在生产实践中进一步探索.     

关于镀镍铜母线温升的分析

通过对镀镍铜母线产生温升进行分析,通过对镀镍过程以及镀层成分进行分析,提出控制镀镍层中有害元素的含量来解决降低温升的措施.     

铝合金表面电沉积Ni-SiC复合镀层的研究

针对铝合金表面的电镀特点,采用化学侵锌、预镀镍等预处理方法,在铝合金表面得到了表面光洁平整,内部质量优良,与铝合金基体结合紧密的Ni-SiC复合镀层。研究了镀液中SiC浓度、电流密度、搅拌速度、镀液pH值和镀液温度等电镀参数对复合镀层厚度、镀层中的SiC体积分数及镀层显微硬度的影响。结果表明,电镀工艺条件的改变影响Ni-SiC复合镀层的共沉积速度与SiC粒子在镀层中的体积分数。当镀液SiC浓度为120g/L时,镀层中的SiC体积分数为8.5％,硬度为504.6HV,较纯铝(82.5HV)提高5倍,较纯镍(242.5.HV)提高l倍。     

电镀超硬磨料工艺的改进及参数优化

电镀磨料法是制造超硬磨料工具的常用方法,电镀质量直接影响到电镀超硬磨料工具的寿命和使用性能,而电镀工艺是影响电镀质量的主要因素.文中首先对原有的电镀基础工艺中镀前处理及镀底镍工序进行了改进,提出了镀前处理中增加去毛刺、电化学除油、阳极处理等过程及镀底镍工序中带电入槽和冲击电流的一套新的电镀工艺,并进行了实验研究,结果表明:新的工艺增强了镀层的结合力,提高了电镀质量;其次实验研究了电镀液配方及电流密度、镀液温度、PH值等工艺参数对电镀质量的影响,并得到了优化结果.     

热沉衬底金刚石/铜复合材料表面金属化工艺研究

为了改善金刚石/铜复合材料的表面特性,采用化学镀镍与电镀金结合的方式。先通过SnCl₂溶液和PdCl₂溶液对复合材料表面进行敏化、活化等预处理,并研究预处理对后续化学镀镍层产生的影响。通过SEM（扫描电子显微镜）、EDXS（能量色散X射线光谱仪）、OM（光学显微镜）和热振、高温烘烤等实验措施数据的分析对复合镀层进行研究,研究结果表明,通过化学镀加电镀的方法在金刚石/铜复合材料表面得到了高结合力、均匀致密的镍合金镀层。     

金铜双金属表面增强拉曼散射基底的制备及应用

双金属材料结合了两种金属的特性从而获得远超单一金属的性能,因而在材料应用领域获得了广泛关注。如何以低成本获得高性能功能性材料是双金属推广应用的关键。以Cu30Mn70合金片材为前驱体,采用自由腐蚀和化学电镀两步法制备了金包铜纳米多孔基底(Au@NPC)。金包覆层在有效抑制铜在空气中氧化的同时,减小了韧带间孔径距离,进一步增大了紧邻韧带间的电磁耦合效应,使Au@NPC具有更强的局域电磁场增强特性,表现出优于纳米多孔铜的表面增强拉曼散射活性。金铜双金属材料可用作表面拉曼增强散射基底,具有优异的稳定性和较低的成本。     

Development of an electrolyte jet type apparatus for manufacturing electroplated diamond wires

Multi-wire sawing with a fixed diamond wire is widely used for the mass production of wafers. In this study, a novel electrolyte jet type electroplating method was devised to improve the productivity of these wires. The method is based on increasing the limiting current density (LCD) in the electroplating unit. First, an electrolyte jet type electroplating unit was designed, and the plating characteristics were investigated. To increase the LCD during plating process, the method of decreasing the depletion layer of nickel ions around the core wire was approached. The experimental results indicated that the LCD can be increased by increasing the flow rate of the electrolyte. Next, the influences of composite plating conditions on the state of abrasive distribution and density of the diamond wires were experimentally verified, and the process of selecting the optimal fabricating conditions was clarified. Lastly, the cutting performance of the prototype diamond wires was verified by slicing a polycrystalline silicon ingot. The relationship between the surface roughness of the sliced wafers and the abrasive density of the diamond wires was studied.     

镍基纳米复合电刷镀层的滑动磨损性能研究

用电刷镀技术制得了镍基 n-SiO_2复合镀层、镍基 n-SiC 复合镀层以及镍基镀层,并对镀层的滑动磨损性能进行了试验研究.纳米复合镀层的表面形貌比较细腻,镀层中纳米粒子分布均匀,与基质金属结合紧密.显微硬度高,可达到 HV692,比镍基镀层提高约50%.滑动磨损试验结果表明,纳米粒子的加入可以提高镀层的耐磨性.纳米复合镀层的磨损机制以疲劳磨损为主,而纯镍镀层以粘着磨损为主.