磁记录体

<正> 发明的背景 1、发明的范围本发明是关于磁记录体的发明,进一步说,它与磁记录个质有密切关系。在这个磁记录介质中磁层的表面电阻降低了而又不破坏磁记录层的特性。 2、以前工艺的说明通常,由于磁带之间或磁带与它的传导系统中的导杆之间     

中国科学院物理研究所

<正> 物理研究所是1974年开始磁记录研制工作的。早期,为了了解我国磁带与国外磁带性能之间的差距,开展了磁粉和磁带的剖析工作,熟悉磁带的制备工艺以及从磁学和磁记录的基本原理寻找磁带的电磁性能和它的基本磁性参数之间的定性关系等等。在此基础上,研制了一些磁记录材料,并建立了制备材料的连续生产设备等。     

富士胶片公司又建-录像磁带厂

<正> 为满足对磁带需求量的日益增长,富士胶片公司在它的Odwara工厂内将再建一家录像磁带厂,施工日期业已确定。该公司还宣布。为发展磁记录(材料)将建磁记录研究     

全世界磁记录介质的预测——3.5in FD将高速增长

<正> 日本磁记录介质工业协会公布了磁记录介质(音频磁带、视频磁带、软磁盘)1993年的世界需求预测和国内生产预测。尽管音频磁带、视频磁带的世界需求呈上升趋势,但日本国内苦于视一听设备生产不景气而使需求有继续下降的倾向。相反,软磁盘由于     

磁记录述评

<正> 磁带及磁盘的信息存贮和处理是工业发达国家发展最快的工业之一,它们在应用中得到的增长与录放设备性能的迅速提高相一致。因而,回顾近年磁记录的发展和磁带涂层的改进,是彼有意义的。从某种意义上讲,信息既指数据信号又指高频信号。本文着重讨论     

磁带工业技术述评

<正> 磁带作为一种记录和存储信息的带状记录媒体,是目前世界上应用最广、用量最大的磁记录材料。随着科学技术的发展,广泛地用于各个领域,包括家庭生活在内。本文概述了从磁记录技术问世至磁带工业发展近百年的历史,充分说明了磁带工业随着磁记录技术的迅速推进,相应的     

向高密度磁记录的极限挑战(一)——日立麦克塞尔的MCMT技术

<正> 对高密度磁记录的希望以磁带磁头为代表的磁记录的历史,简言之,就是不断向高密度记录极限发展的历史,如果用第1图的记录密度的进步来观察这一过程,就会看到,它正在以每10年提高一个数量级的高速度发展着。     

磁带应用及其参数

象磁头已称为磁记录装置的“心脏”一样,磁带被誉之为磁记录的“血液”。磁带应用范围十分广泛,根据不同的用途磁带,可分为四大类,即:录音磁带,仪器磁带、计算机磁带和录象磁带。     

单畴颗粒磁记录材料的晚近进展

<正> 已有不少关于磁记录材料的总结性文章,可参阅文献[1][2]等。1979年以后,出现了金属薄膜磁带等,但目前使用单畴颗粒磁记录材料仍占绝大多数。因此,本文只简要介绍单畴颗粒磁记录材料的晚近进展。包括三方面内容:1、目前单畴颗粒磁记录材料的水平;2、磁带的静态磁性和电声性能之间的关系;3、磁性材料     

金属磁记录介质的发展

<正> 一、概况应用磁现象记录信号已有九十余年的历史。今天的通用型磁带,起源于1933年Fe_2O_3的纸基磁带。五十年来磁记录技术已发展成为一门新的科学技术,磁记录装置和记录介质都有了迅速发展。     

Co-Ni合金的连续蒸镀实验

<正> 一、前言采用金属磁性材料作为磁记录介质,已越来越引起人们的广泛兴趣,而将真空镀膜技术运用到磁带工艺,是磁记录技术的一次重大革新。金属镀膜型磁带具有高密度、高输出、低噪声的优良性能,从而能够实现微型化、慢速化。我们利用自己设计改装的镀膜设备,对钴镍合金进行了斜方蒸镀,得到了具有较高磁性能的Co-Ni合金薄膜磁带。     

为什么磁带表面要光洁?

<正> 磁带表面光洁,可以减少磁带对磁头的磨损,延长磁头的寿命。然而,要求磁帶表面光洁的真正含义则在于:减小间隔损失,提高高频灵敏度。磁记录理论表明,磁带和磁头之间的     

垂直磁记录和钡铁氧体磁粉

<正> 一、引言迄今为止,磁记录技术已经历了许多重大的革新和改进。同时,磁记录材料的研究也取得了飞速发展。目前,磁记录技术发展的标志之一就是记录密度的不断提高。由于记录装置的小型化和轻量化,对磁带的记录密     

磁带的摩擦——有关理论及测定

<正> 随着磁记录系统向高密度、高分辨率和高速度的方向发展,为保证信息存储和输出的可靠性,要求磁头和磁带的接触愈来愈紧密,磁带的耐磨性和耐用性愈来愈高。同时,还要求磁头和磁带的接触张力及带速在运转过程中保持恒定。因此,如何减少磁带与磁头及驱动部     

磁带的原材料

<正> 近年来,随着音频记录的大众化和视频记录普及时代的到来,磁记录媒体的主体——磁带产量有了显著的增加。仅以日本国内生产额为例,去年已突破2,000亿日元。磁记录技术正在不断地向高密度化方向进展。为了使形成记录最小单位的磁迹宽度、记录波长,磁带总厚度等进一步缩     

下一代磁记录介质用片基

日本宇部兴产公司宣布,用BOPA型全芳香族聚酰亚胺薄膜,开发了下一代高密度磁记录介质片基——磁带用带基和软磁盘用基片。并已向部分磁性介质厂家提供样品。磁记录介质迄今主要是涂布型的,下一代高密度磁记录介质将是金属薄膜型介质占主导地位。该公司新开发的磁带用带基厚度     

磁记录技术的新发展

磁记录技术已经经历了一个世纪的发展 ,迄今仍然是最重要的信息存储技术。本文简要介绍硬磁盘、软磁盘和磁带等磁记录系统近年来在技术方面的主要进展。     

化工部第一胶片厂磁带分厂

<正> 化工部第一胶片厂磁带分厂位于河北省保定市西郊,是我国磁带研究和生产最早的厂家之一。自1960年到现在,该厂从事磁记录材料的研究开发和生产销售已达26年之久,并由最初的磁带研究组发展到目前拥有先进设备和技术、能够独立生产经营的磁带分厂。磁带分厂的主要发展情况: 1960年成立磁带研究组,开始磁带研究的准备工作。     

磁性介质γ—Fe_2O_3制备

l 前言 磁记录技术发展到今天,经历了相当长 的历史变革。纵观其整个变革过程,磁记录技术的发展都是围绕如何提高记录密度这样一 个中心课题而展开的。而这一课题的根本所 在,就是如何改善磁性记录材料的性能,提高 单位面积的记录容量。 磁记录材料包括磁带、磁卡、磁盘和磁 泡,而最早研制使用的磁带,至今仍是用途最 广、用量最大的一种磁记录材料。自1935年 开始把氧化铁磁粉涂布到塑料带基上以来,     

软磁盘高密度化技术展望

<正> 1.前言软磁盘是在硬磁盘和磁带的基础上发展起来的一种数字磁记录介质。它兼有硬磁盘随机存取数据和磁带容易制造,成本低廉的优点,并且体积小、重量轻结构简单,盘片可以更换。所以,70年代初以来,在数据