共查询到20条相似文献,搜索用时 31 毫秒
1.
闫金良 《真空科学与技术学报》2003,23(5):359-361
利用静电贴膜技术在MCP输入面制备了4nm厚Al2O3非晶态电子透射膜,此工艺不造成MCP通道壁内表面碳污染。探讨了贴膜与气体辉光放电的关系,测量了MCP电子透射膜的电子透过特性和离子阻挡特性。实验表明,4nm厚Al2O3非晶态电子透射膜能有效地透过电子,阻止反馈离子。 相似文献
2.
研究采用有机衬底掩膜技术和冷基底直流溅射在多孔微通道板输入面制备非晶态Al2O3电子透射膜的可行性,讨论在微通道板输入面形成连续电子透射膜与气体辉光放电的关系,测量带膜微通道板的电特性。结果表明,微通道板带膜后电子增益下降、体电阻增加、暗电流降低。 相似文献
3.
闫金良 《真空科学与技术学报》2003,23(5):356-358
研究采用有机衬底掩膜技术和冷基底直流溅射在多孔微通道板输入面制备非晶态Al2O3电子透射膜的可行性,讨论在微通道板输入面形成连续电子透射膜与气体辉光放电的关系,测量带膜微通道板的电特性。结果表明,微通道板带膜后电子增益下降、体电阻增加、暗电流降低。 相似文献
4.
Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究 总被引:5,自引:1,他引:4
用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜。用X射线光电子谱仪(XPS)和透射电镜(TEM)对样品进行检测。XPS实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2-5nm。Al/Al2O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为1.43-1.85。Ar离子刻蚀的XPS实验结果(刻蚀速率为0.09nm/s)说明:2个对层的Al/Al2O3多层膜截面样品具有周期性结构。TEM观察到了5个对层的Al/Al2O3多层膜的层状态结构,其周期为4nm。由此说明,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2O3多层膜的有效方法。 相似文献
5.
Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2 O3薄膜和多层膜。用X射线光电子谱仪 (XPS)和透射电镜 (TEM)对样品进行检测。XPS实验说明自然氧化的Al2 O3膜层厚在 2~ 5nm。Al/Al2 O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为 1 4 3~ 1 85。Ar离子刻蚀的XPS实验结果 (刻蚀速率为 0 0 9nm/s)说明 :2个对层的Al/Al2 O3多层膜截面样品具有周期性结构。TEM观察到了 5个对层的Al/Al2 O3多层膜的层状态结构 ,其周期为 4nm。由此说明 ,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2 O3多层膜的有效方法 相似文献
6.
掺杂Al2O3纳米粉对ZnO厚膜气敏传感器性能的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
以ZnO纳米粉(平均粒径30 nm)和Al2O3纳米粉(平均粒径5 nm)为原料,利用传统的厚膜气敏传感器制备工艺制备了纯ZnO厚膜气敏传感器和掺杂Al2O3(掺杂量为2wt%和5wt%)的ZnO厚膜气敏传感器.对这三种厚膜传感器的本征电阻及对乙醇蒸汽的敏感特性进行了测试.结果表明:掺杂少量Al2O3纳米粉可明显降低ZnO气敏传感器的本征电阻,改善传感器的烧结性能,同时还可降低其最佳工作温度,提高器件对乙醇的灵敏度.结合厚膜气敏传感器的显微结构分析结果,对出现上述差异的原因进行了讨论. 相似文献
7.
Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究 总被引:4,自引:1,他引:3
《真空科学与技术学报》2002,22(1):73-76
用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜.用X射线光电子谱仪(XPS)和透射电镜(TEM)对样品进行检测.XPS实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2~5
nm.Al/Al2O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为1.43~1.85.Ar离子刻蚀的XPS实验结果(刻蚀速率为0.09
nm/s)说明2个对层的Al/Al2O3多层膜截面样品具有周期性结构.TEM观察到了5个对层的Al/Al2O3多层膜的层状态结构,其周期为4
nm.由此说明,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2O3多层膜的有效方法. 相似文献
8.
9.
Al/Al2O3多层膜的表面分析与电性能的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜。本用X射线光电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱(UPS)对样品进行价带能谱的检测与分析。获得的Al/Al2O3多层膜价带的XPS光电子谱谱形基本相似;通过对Al/Al2O3三层膜在不同极角的UPS谱线的检测,得到其Ei-(Ki∥)关系曲线,此外,测定了低温的I-U特性,发现纳米量级的Al/Al2O3薄膜具有负阻特性。 相似文献
10.
为改善铝合金零部件的摩擦磨损特性,采用微弧氧化和射频磁控溅射技术,在2A12铝合金表面制备Al2O3/CrNx复合膜。用X射线衍射仪、涡流测厚仪、纳米硬度仪、微摩擦磨损试验机、非接触表面三维形貌仪及扫描电镜对Al2O3涂层及复合膜的相组成、膜厚、纳米硬度、摩擦磨损特性和磨痕形貌等进行了研究。实验结果表明:32μm厚的多孔Al2O3陶瓷涂层由α-Al2O3和γ-Al2O3相组成,外层1.2μm厚的CrNx膜由单质Cr,Cr2N和CrN相组成;Al2O3涂层及Al2O3/CrNx复合膜的摩擦因数和磨损率都随法向载荷的增加而增大,在相同实验参数下,复合膜的摩擦因数和磨损率都远小于Al2O3涂层的,这表明在Al2O3涂层表面沉积CrNx膜能明显改善其摩擦磨损特性,将延长对偶件的使用寿命。 相似文献
11.
离子束辅助沉积A12O3薄膜的微观状态及其物理特性研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2O3薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化,并对Al2O3薄膜折射率、显微硬度和膜基结合强度等物理特性及其随沉积温度的变化进行了详细研究。研究发现:用离子束辅助沉积制备的薄膜基本满足Al2O3的标准成分配比;在沉积温度低于500℃制备的Al2O3薄膜以非晶Al2O3相a—Al2O3为主;Al2O3薄膜的表面粗糙度、折射率、显微硬度随沉积温度的增加而增加;当沉积温度高于200℃时,薄膜与基体间的膜基结合强度将随沉积温度的增加而下降。分析表明:薄膜表面形貌与晶体内部的结构相变有关,薄膜的退火相变途径为a—Al2O3800℃→γ-Al2O31000℃→γ-Al2O3 α-Al2O31200℃→α-Al2O3。 相似文献
12.
电泳沉积法所制γ-Al2O3微孔膜的结构和性能的研究 总被引:3,自引:1,他引:2
以制得的Al(OH)3溶胶为电泳液,用电泳沉积法制备了平均孔径为4.6nm的γ-Al2O3微孔膜。采用SEM、孔径分布等测定方法考察了γ-Al2O3膜的微观形貌和孔结构,并研究了其气体透过性。结构表明,γ-Al2O3膜表面是平整的,未见明显开裂,且膜上有气孔存在。随着焙烧温度的升高,γ-Al2O3晶粒长大,形态变得更加规整,粒径大小均匀;孔径分布集中性降低,大孔比例、孔容及孔隙率都有显著增在,表明控制焙烧温度可调探孔大小及其分布。气体H2/N2和O2/N2可充分透过γ-Al2O3膜,其气体透过机理应为努森扩散为主。 相似文献
13.
本文利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段 ,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2 O3 薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化 ,并对Al2 O3 薄膜折射率、显微硬度和膜基结合强度等物理特性及其随沉积温度的变化进行了详细研究。研究发现 :用离子束辅助沉积制备的薄膜基本满足Al2 O3 的标准成分配比 ;在沉积温度低于 5 0 0℃制备的Al2 O3 薄膜以非晶Al2 O3 相a Al2 O3 为主 ;Al2 O3 薄膜的表面粗糙度、折射率、显微硬度随沉积温度的增加而增加 ;当沉积温度高于 2 0 0℃时 ,薄膜与基体间的膜基结合强度将随沉积温度的增加而下降。分析表明 :薄膜表面形貌与晶体内部的结构相变有关 ,薄膜的退火相变途径为a Al2 O380 0℃ γ Al2 O310 0 0℃ γ Al2 O3 +α Al2 O312 0 0℃ α Al2 O3 。 相似文献
14.
Al/Al2O3多层膜的表面分析与电性能的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2/O3薄膜和多层膜.本文用X射线光电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱(UPS)对样品进行价带能谱的检测与分析.获得的Al/Al2/O3多层膜价带的XPS光电子能谱谱形基本相似;通过对Al/Al2O3三层膜在不同极角的UPS谱线的检测,得到其Ei-(k∥i)关系曲线.此外,测定了低温下的I-U特性,发现纳米量级的Al/Al2O3薄膜具有负阻特性. 相似文献
15.
用X射线光电子谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)研究了Ti/Al_2O_3界面形成的过程。研究表明,活性金属Ti在室温下能与衬底Al2O3(1102)形成约20nm强结合的界面区。从Al,O,Ti的光电子谱形状变化以及它们随着Ti覆盖度的增加而出现结合能位移表明,在界面处形成的反应层中,最初几个单层的Ti很容易被Al2O3表面的活性氧所氧化,从而使Ti/Al2O3界面逐步由具有更强相互作用的TiOx/Al2O3界面所代替,并形成由多相混合体[Ti-O相,(Ti,Al)2O3相以及金属Al相]所组成的界面区。就是说,Ti通过Al—O键的O2-离子转移其电子给Al3 并使它还原成金属Al,从而形成Ti-O键所致。本文用AES强度剖面分析观察到了这种被还原的Al。 相似文献
16.
ITO/Al2O3复合透明导电膜的制备及光电性能 总被引:1,自引:0,他引:1
采用磁控溅射技术 ,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜。通过高温热处理 ,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2 O3 复合透明导电膜。研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结构及其光、电性能 ,结果表明 ,当预沉积Al层厚度为 4 0nm左右时 ,ITO的结晶质量得到提高 ,取向性能变好 ,电阻降低 ,而且在 4 0 0 - 80 0nm范围内具有很高的可见光透过率。实验表明 ,通过改变预沉积Al膜的厚度 ,可以改变ITO薄膜最大透过率对应的波长 ,实现ITO预器件工作波长的匹配 相似文献
17.
以聚乙烯醇(PVA)、磷钨酸(PWA)和氧化铝(Al2O3)溶胶为原料,制备得到PVA—PWA—Al2O3无机-有机复合质子交换膜,测定了膜的电导率、含水率、溶胀度和甲醇透过系数等性质.测试结果表明,该复合膜具有较高的导电率和较好的阻醇效果,室温下测得电导率最高达到1.162S/cm,甲醇透过系数在10^-7cm^2/s左右.复合膜中PWA含量增加,膜的电导率、含水率、溶胀度和甲醇透过系数都有所上升;膜中Al2O3含量增加,膜的电导率、含水率、溶胀度提高,但甲醇渗透系数稍有下降. 相似文献
18.
19.
通过离子束辅助沉积(IBAD)在热氧化SiO2上沉积Al2O3薄膜,在120keV下注入5×10115cm-2Er离子,Ar气氛下773~1273K退火1h.低温下测试PL谱线,随退火温度升高,发光强度上升.973K退火下发光强度特别低,并观察到Si衬底的1140nm峰.光透射谱表明几乎在所有的测试范围内尤其在1530nm处973K退火样品的透射谱强度最强,波导损耗最低.1530nm发光强度随退火温度的变化跟发光强度的变化相反.说明Er离子在514.5nm泵谱吸收界面σ跟Al2O3的光吸收损耗有一定关系. 相似文献