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Nikon光刻机对准系统概述及模型分析 总被引:1,自引:0,他引:1
对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机(Stepper)的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式:LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点。并结合数学模型对影响Nikon对准模型信号强度进行分析,为提高对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。 相似文献
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Nikon光刻机对准机制和标记系统研究 总被引:4,自引:0,他引:4
套刻精度是步进式光刻机最重要的指标之一。从应用角度探讨了Nikon系列光刻机的对准方法,举例说明了众多标准标记在实际掩模版上的摆放原则。 相似文献
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用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计 总被引:1,自引:1,他引:0
比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了其优缺点,在此基础上对双面深度光刻机底面对准系统的设计原理、结构及对准过程做了详细阐述,并进行了对准系统的精度分析,最后介绍了为系统实现所采取的其他技术措施。实践证明,该对准系统应用于深紫外双面深度光刻机中,系统运行稳定、可靠,完全能满足系统的精度要求。 相似文献
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论述了ASML公司某型投影光刻机TTL对准系统的基本原理和主要构成,介绍了对准系统在光刻工艺中的工作过程,结合多年的投影光刻机维修经验总结了对准系统的常见故障,并给出了分析以及解决方法。 相似文献
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讨论了双面对准光刻机的底部对准原理,并着重介绍了图像处理在高精度光刻机中的应用。通过对采集到的标记图形进行图像分割和边缘定位,使标记的边缘精确定位在亚像素级。从实验的结果来看,这种方法能够对对准标记达到很好的边缘定位,提高了对准精度。 相似文献
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晶片传输系统中切边探测和预对准技术 总被引:4,自引:0,他引:4
杨兴平 《电子工业专用设备》2003,32(1):43-47
介绍投影光刻机设备的晶片传输系统中切边探测和晶片预对准技术。 相似文献
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