Nikon光刻机对准系统概述及模型分析

对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机（Stepper）的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式：LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点。并结合数学模型对影响Nikon对准模型信号强度进行分析,为提高对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。     

Nikon光刻机对准机制和标记系统研究

套刻精度是步进式光刻机最重要的指标之一。从应用角度探讨了Nikon系列光刻机的对准方法，举例说明了众多标准标记在实际掩模版上的摆放原则。     

用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计

比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了其优缺点,在此基础上对双面深度光刻机底面对准系统的设计原理、结构及对准过程做了详细阐述,并进行了对准系统的精度分析,最后介绍了为系统实现所采取的其他技术措施。实践证明,该对准系统应用于深紫外双面深度光刻机中,系统运行稳定、可靠,完全能满足系统的精度要求。     

投影光刻机TTL对准原理与故障分析

论述了ASML公司某型投影光刻机TTL对准系统的基本原理和主要构成,介绍了对准系统在光刻工艺中的工作过程,结合多年的投影光刻机维修经验总结了对准系统的常见故障,并给出了分析以及解决方法。     

图像处理在双面光刻机中的应用

讨论了双面对准光刻机的底部对准原理,并着重介绍了图像处理在高精度光刻机中的应用。通过对采集到的标记图形进行图像分割和边缘定位,使标记的边缘精确定位在亚像素级。从实验的结果来看,这种方法能够对对准标记达到很好的边缘定位,提高了对准精度。     

分步重复自动对准光刻工艺技术研究

介绍了投影光刻机的分步重复自动对准光刻系统,分析了其工作原理;从对准标记的设计、工艺与对准的关系两方面进行了论述,阐述了采用这类自动对准系统的光刻机可能遇到的工艺问题,并提出了相应的解决措施.     

基于USB2.0与CPLD的光刻机底面对准系统设计

介绍了光刻机底面对准系统的基本原理,并分析了传统底面对准系统存在的缺点,给出了基于USB2.0与CPLD的光刻机底面对准新系统的设计方案。论述了系统硬件和软件的实现,并对其中的关键模块进行了深入分析。与传统底面对准系统相比,该对准系统成本降低约70%,同时,系统的可靠性大幅提高。实验表明,该系统的底面对准精度达到0.25μm,满足系统设计要求。     

晶片传输系统中切边探测和预对准技术

介绍投影光刻机设备的晶片传输系统中切边探测和晶片预对准技术。     

高精度投影光刻机对准微动硅片台

介绍一种高精度的光刻机对准微动硅片台的机械结构，并对其功能和工作原理进行详细叙述。     

制版、光刻、腐蚀与掩模工艺

0327883用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计[刊,中]/马平//电子工业专用设备.—2003,(2).—36-39.55(D2)比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了