电流密度对纳米晶Ni-Fe合金镀层性能的影响

采用直流电沉积技术在黄铜基体上制备出纳米晶Ni-Fe合金镀层.研究了电流密度对合金镀层的表面形貌、成分、相结构、硬度和耐蚀性的影响.结果表明:当电流密度为3 A/dm2时,镀层的硬度较高,为6 000 MPa;电流密度为5 A/dm2时,所制得的合金镀层的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度约为0.140 μA/cm2,膜电阻约为166 900 Ω.     

电沉积Ni-Fe合金工艺及镀层耐蚀性的研究

采用电沉积的方法制备了Ni-Fe合金镀层,对其微观形貌和结构进行了表征,并采用电化学方法研究了所制备的Ni-Fe合金镀层在不同介质中的腐蚀行为。结果表明:在5%硫酸溶液以及3.5%氯化钠溶液中,w(Fe)为19.23%的Ni-Fe合金镀层耐蚀性最好,在5%氢氧化钠溶液中w(Fe)为28.16%的Ni-Fe合金镀层的耐蚀性最佳。     

织构对电沉积纳米晶镍耐蚀性的影响

采用脉冲电沉积方法在304不锈钢表面制备出具有(111)或(200)择优取向的纳米晶镍。采用XRD对纳米晶镍的织构进行表征,并利用电化学工作站测试纳米晶镍的动电位极化曲线和交流阻抗谱。结果表明:织构对纳米晶镍的耐蚀性有明显的影响,具有(111)择优取向的纳米晶镍的耐蚀性最好;随着TC(111)的增大,纳米晶镍的耐蚀性增强。     

电沉积镍铁钨纳米晶合金及其表征

在含有FeSO4·7H20、NiSO4·6H2O、Na2WO4·2H2O、Na3C6H5O7·2H2O和YC-4添加剂的溶液中,电沉积制备了不同钨含量的镍铁钨合金,对所得镀层的化学组成、表面形貌、微观结构,显微硬度及耐蚀性进行了表征.随着镍铁钨合金镀层中钨含量的增加,其微观结构由晶态转变为非晶态.钨质量分数为21%的镍铁钨合金镀层表观光亮光滑,具有致密的纳米晶结构,其晶粒尺寸为30～40 nm,即使不通过热处理,也具有很好的显微硬度和耐蚀性.该工艺可望取代传统镀铬工艺.     

Ni-W纳米晶合金电沉积工艺条件的研究

纳米晶材料与常规晶体材料相比有许多优良的性能 ,已受到广泛关注。本文采用电沉积方法获得了Ni W纳米晶合金镀层。研究了镀液中钨酸钠含量、温度、pH值及电流密度对沉积速度的影响。测定了镀层的显微硬度 ,并用X -射线衍射仪对其微观结构进行了观察。结果表明 ,影响沉积速度最大的因素为pH值 ,其次是电流密度 ;镀层显微硬度最高可达 6 70 .3HV。通过正交试验得出适宜工艺条件范围为 :Na2 WO4·2H2 O 1 0～ 30g/L ,电流密度 1 0～1 5A/dm2 ,温度 6 0～ 70℃ ,pH值 6～ 7。     

电沉积Ni-Fe纳米合金工艺研究

采用直流电沉积方法在镀液中加入复合有机添加剂制备了镍铁纳米合金镀层。利用扫描电镜分析镀层形貌及晶粒尺寸,研究了硫酸亚铁铵浓度、电流密度、pH值对镀层中铁含量的影响,测定了镀层的耐腐蚀性能及结合力。结果表明,该纳米镀层表面致密、平整,且结合强度、耐腐蚀性能优良。     

添加剂对喷射电沉积纳米晶Co-Ni合金的影响

在氯化镍-硫酸钴体系电解液中采用添加剂喷射电沉积纳米晶Co-Ni合金,测定了其阴极极化曲线.研究了添加剂对阴极过电位、电流效率、镀层中Co含量、镀层的相结构、晶粒尺寸、表面形貌及显微硬度、软磁性能等影响.结果表明:添加剂增加了极化作用,影响了Co、Ni电沉积的动力学过程.当添加剂为2.5g/L时,与未加添加剂相比较,阴极过电位从3.594V增大到4.755 V,电流效率和沉积层中Co含量变化不大,但沉积层晶粒尺寸从12.8 nm明显降低到5.5 nm,维氏硬度从423升高到511,同时Co-Ni合金的软磁性能得以提高.     

电沉积纳米晶镍-铁-铬合金

采用直流和脉冲电沉积方式从三价铬的氯化物镀液中沉积出镍-铁-铬纳米合金镀层，利用扫描电镜分析镀层形貌及晶粒尺寸，研究了沉积速率，电流效率，三价铬浓度及pH值随沉积时间的变化关系，结果表明，脉冲电沉积所得镀层的结构和性能均优于直流电沉积，这是由于脉冲电沉积存在断电时间，使得电极表面扩散层中金属离子的浓度得到及时恢复。     

Ni-Fe合金电镀的研究进展

回顾了Ni-Fe合金电镀的发展进程。总结了Ni-Fe合金电镀工艺的优点。介绍了其镀液类型、各种电沉积方法的特点、常用体系(柠檬酸体系、BNF体系、Nylon工艺、葡萄糖体系和抗坏血酸体系)的实用工艺配方。综述了Ni-Fe合金电沉积机理、晶体结构及其电沉积影响因素的研究现状,指出了今后的发展方向。     

电沉积高耐蚀性Zn-Ni合金新工艺

Zn-Ni合金镀层具有较好的耐蚀性,应用于金属表面防护具有很大的发展前景。为此开发了一种电沉积高耐蚀性Zn-Ni合金的新工艺,该工艺具有成本低、操作方便、镀液稳定及镀层易钝化等优点。在45#钢表面电沉积Zn-Ni合金镀层,并对镀层的截面形貌、成分以及耐蚀性进行测试。结果表明:所得镀层光亮、平整,结晶细致、均匀;镀层中Ni的质量分数为14.52%;镀层经钝化处理后,其耐蚀性进一步提高,其中黑色钝化的效果最佳。     

换向比对脉冲电沉积镍-铁合金镀层耐蚀性的影响

采用脉冲电沉积方法,在不同换向比下制备镍-铁合金。使用SEM及EDS对镀层的表面形貌及名义成分进行表征;使用电化学工作站对镀层在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的极化曲线和交流阻抗谱进行测量。结果表明:当换向比为2.5~10时,获得致密均匀的合金镀层,其中铁的质量分数基本一致,平均值约为(14.95±0.45)%;当换向比为3.3时,镀层的耐蚀性最佳,沉积镀层电阻约为35 810Ω/cm2,自腐蚀电流密度约为0.79μA/cm2。换向比引起镀层表面形貌的差别可能是由于镀层的耐蚀性不同造成的。     

电沉积镍基和铜基纳米复合镀层耐蚀性的研究

通过腐蚀浸泡实验、阳极极化曲线和电化学阻抗谱等测定,探讨了Ni-W-(Si3N4,Al2O3)和Cu-(Al2O3,SiO2)纳米复合镀层的耐蚀性能;通过综合分析,对比添加不同柱子所得镀层的性能,直观地得到添加不同粒子的镍基和铜基纳米复合镀层耐蚀性能的差异.结果表明:Ni-W-Si3N4、Ni-W-Al2O3纳米复合镀层致密度较高,耐蚀性能较好,Cu-Al2O3、Cu-SiO2纳米复合镀层耐蚀性能较差.     

糖精对脉冲电镀纳米晶镍-铁合金镀层耐蚀性的影响

在不含糖精和含有1g/L糖精的镀液中,采用脉冲电镀法在黄铜基体上分别制备出纳米晶镍-铁合金镀层。采用SEM,EDS,XRD和电化学工作站对镀层的表面形貌、名义成分、结构、极化曲线和交流阻抗谱进行测试。结果表明:当镀液中不含糖精时,镀层的自腐蚀电流密度为0.281μA/cm2,沉积镀层电阻为122 800Ω.cm2,且具有较明显的钝化趋势;当镀液中含有1g/L糖精时,镀层的自腐蚀电流密度为0.778μA/cm2,沉积镀层电阻为24 450Ω.cm2,且钝化趋势不明显。糖精的加入引起镀层晶粒细化及晶界体积分数增加,是造成纳米晶镍-铁合金镀层耐蚀性下降的原因。     

复合电沉积Ni-W-P-CeO_2-Al_2O_3镀层耐蚀性能的研究

采用复合脉冲电沉积法制备Ni-W-P-CeO2-Al2O3复合镀层,研究了该镀层耐蚀性能。实验结果表明：镀层的耐蚀性随着制备温度的升高而明显得到提高,同时随着电流密度的增大,镀层的腐蚀速率降低,耐蚀性能得到提高,升高到一定的程度后,耐蚀性反而降低。随着电沉积时间的延长,镀层的耐蚀性能明显提高,但时间延长到一定程度后,耐蚀性变化不明显。经热处理后,Ni-W-P-CeO2-Al2O3复合镀层耐蚀性均有所提高。     

纳米SiO_2对锌-镍合金镀层耐蚀性的影响

在弱酸性条件下,采用超声电沉积的方法制备(Zn-Ni)-Si O2纳米复合镀层,并与锌-镍合金镀层进行对比。实验采用电镜扫描、能谱分析、极化曲线、交流阻抗测试以及醋酸加速氯化钠浸泡试验等方法,分别研究了镀层的微观形貌、各元素含量以及耐腐蚀性能。结果表明,添加纳米Si O2后(Zn-Ni)-Si O2复合镀层更加致密,镀层中镍含量减少,极化电阻增大,采用超声后效果更加明显,表现出优异的耐蚀性能。     

电沉积Ni-P合金镀层耐蚀性的研究

研究了不同磷含量的Ni-P合金镀层在NaCl介质中的耐腐蚀性能。通过浸泡实验,得出不同磷含量的Ni-P合金镀层在w（NaCl）=5%和饱和NaCl溶液中的腐蚀数据,同时还与纯镍镀层、化学镀Ni-P合金镀层、1Cr18Ni9Ti不锈钢以及A3钢进行了比较。     

Kinetics of Electrophoretic Deposition for Nanocrystalline Zinc Oxide Coatings

An integrated process combining the preparation of ZnO nanoparticles and the formation of ZnO coatings using electrophoretic deposition (EPD) is reported. The work focuses on the deposition kinetics of nanocrystalline ZnO coatings on copper electrodes during EPD by direct measurement of the thickness of the deposited layer. The experimental results show that the EPD process is a powerful route to fabricate uniform coatings with desired thickness and excellent surface smoothness, which might be attributed to small particle size and narrow size distribution. On the other hand, the deposition kinetics changes with applied voltage and deposition time. The deposition thickness increases with increasing applied voltage and deposition time. In a short deposition time, the deviation of deposition rate between the theoretical and experimental values is caused by voltage drops during deposition, and the discrepancy increases with the applied voltage. Moreover, the increasing voltage drop and depletion of the suspension lead to decreasing current and lower deposition rate after longer deposition time. The critical transition time of deposition kinetics is found to exponentially decrease with increasing applied voltage.     

搅拌方式对Ni-Fe合金镀层中铁的质量分数的影响

研究搅拌方式对Ni-Fe合金镀层显微组织形貌、铁的质量分数的影响,最终获得最佳工艺下的搅拌方式.采用扫描电子显微镜观察镀层微观形貌,X-ray衍射仪分析镀层相结构,能谱仪对镀层成分进行分析.结果表明:搅拌方式对镀层成分及显微形貌有较大影响.静止电沉积时镀层中铁的质量分数最低为38.82%;采用空气搅拌时铁的质量分数最高为55.06%,加强搅拌可增加镀层中铁的质量分数.无搅拌或搅拌不均匀时,镀层会出现针孔、裂纹、结晶不致密等疵病;搅拌均匀时,镀层细致,排列致密.