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线性啁啾相位掩模的研制 总被引:2,自引:1,他引:1
利用严格耦合波理论分析了线性啁啾相位掩模的衍射特性,得到只有当相位掩模的占宽比在0.37~0.50之间,槽形深度在242~270 nm之间时,才能保证零级衍射效率小于2%.同时正负一级的衍射效率大于35%.在此基础上,利用全息一离子束刻蚀和反应离子柬刻蚀相结合的新方法,制作了中心周期为1000 nm,啁啾率1 nm/mm,有效面积为100 mmX10 mm的线性啁啾相位掩模.发现先用短时间Ar离子束刻蚀对光刻胶光栅掩模槽形进行修正,然后采用CHF3反应离子束刻蚀,能得到更合适的占宽比,从而确定了刻蚀新工艺.实验测量表明其零级衍射效率小于2%,正负一级衍射效率大于35%,最大非线性系数为1.6%.理论分析表明该相位掩模能够满足制作线性啁啾光纤光栅的需要. 相似文献
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紫外写入光纤光栅用亚μm相位掩模板制作误差容限分析 总被引:2,自引:1,他引:1
本文采用电磁波标量衍射理论研究了紫外写入光纤光栅用亚μm相位掩模的近场衍射特性,并据此得出了零级衍射抑制的条件,2数值模拟方法研究了相位掩模制作误差对有衍射抑制的影响,分析表明,为使零级衍射效率小于5%,相位掩模的刻槽深度和占空比制作误差必须控制在/△h/〈38nm和/△f/〈0.11的范围内。 相似文献
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镀铬基片全息光栅光刻胶掩模槽形参量光谱检测方法 总被引:7,自引:1,他引:7
为了检测全息光栅掩模槽形,运用严格耦合波理论(RCWT)分析镀铬基片光栅光刻胶掩模反射0级衍射效率光谱曲线与槽形参量的关系。测量了400~700 nm波长范围内60°入射角条件下的镀铬基片全息光栅光刻胶掩模反射0级衍射效率光谱曲线。将实验曲线与不同槽形参数对应理论曲线相减、求标准差进行匹配,标准差最小者为匹配结果,从而找到被测掩模的槽深和占宽比(光栅齿宽占光栅周期的百分比)。结果表明,该方法图形匹配速度快,误差容限大,匹配结果与电镜结果相符。对于要求同时检测矩形或接近矩形槽形的全息光刻胶光栅掩模的槽深和占宽比,该方法完全适用。 相似文献
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相位掩模法制作光纤光栅的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
准分子激光照射相位掩模后,在近场形成周期的条纹分布,利用近场光强对光敏光纤进行曝光,可以在纤芯中写入光栅,从衍射的频谱理论出发,导出具有一定发散的准单色准分子激光照射掩模时产生的近场光强分布,分析了光源发散角及掩模衍射特性对纤芯 强分布及光纤光栅制作的影响,并把分析结果与实验现象进行了比较。 相似文献
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为了从理论上探究介质膜基底光刻胶光栅掩模槽形的检测方法,对此种光栅掩模建立了以C方法为理论基础的衍射效率理论计算的数学模型,并将从实际光栅掩模的SEM照片得出的光栅槽形参数带入到该模型中,得到了一系列-1级衍射光的光谱分布曲线,这些曲线的变化趋势与一定光栅槽形相对应,提出了通过测量衍射光的光谱分布曲线判断光栅槽形的无损检测方法。分析表明,该方法在光栅槽形的检测过程中,可以较为有效地判断光刻胶是否到底,而这一点在掩模的制作工艺中至关重要。 相似文献
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Sui P. Yam Zourab Brodzeli Scott A. Wade Greg W. Baxter Stephen F. Collins 《中国电子科技》2008,6(4):458-461
The use of a phase mask with 536 nm uniform pitch allowed the fabrication of a fiber Bragg grating for use at a Bragg wavelength of 785 nm. Reflection and transmission features at 1552 nm, twice the Bragg wavelength, associated with the phase mask periodicity were observed. However, when phase mask orders other than +1 were absent during fabrication the features at 1552 nm were not evident. 相似文献
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Rourke H.N. Baker S.R. Byron K.C. Baulcomb R.S. Ojha S.M. Clements S. 《Electronics letters》1994,30(16):1341-1342
Fibre Bragg gratings up to 50 mm in length have been fabricated using a phase mask scanning technique. Reflectivities of up to 70% and linewidths as narrow as 0.029 nm have been measured. The fabrication technique lends itself to writing gratings with controllable length, chirp and shading 相似文献
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Young-Seok Kim Jong Ung Lee Sung Hyun Oh Yong Kyoo Choi Munsik Kim Beom-Hoan O Se-Geun Park El-Hang Lee Seung Gol Lee 《Microelectronic Engineering》2009,86(4-6):486-488
In this paper, the effectiveness of grating mask proposed previously was evaluated for line and space patterns, and its fabrication tolerance was analyzed with aerial image simulation. The structure of grating mask was determined from the local features of Cr patterns. It was verified that grating mask could provide locally matched oblique illumination for specific patterns written on the Cr mask. When the fabrication errors of ±10% were randomly introduced into both the widths and the phases of phase gratings in the grating mask, the resulting aerial image showed the CD variation of 15.5%. In order to reduce CD variation to 5% and less, width and phase errors should be maintained to be less than 3.2% and 7.2%, respectively. 相似文献
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为满足空间成像领域对大口径、轻量化、高衍射效率光学衍射元件的需求,研究了薄膜衍射元件微结构设计及制作工艺。应用Zemax光学软件设计了320 mm口径,F/#100的四台阶薄膜菲涅尔衍射元件,并利用Matlab软件将连续位相结构转化为离散化台阶分布。研究了薄膜菲涅尔衍射元件的制作技术,选用透明聚酰亚胺薄膜作为基底材料,以石英玻璃作为复制模板,通过多次旋涂的方式实现了厚度为20 m的衍射薄膜制作。应用Solidworks软件设计并加工薄膜支撑装置。测量复制基板及薄膜对应区域的微结构,实验结果表明条纹线宽转移偏差小于1.3%,台阶深度偏差小于8.6%。搭建光路测试在波长632.8 nm处衍射效率平均值为71.5%,达到了理论值的88%。实验结果表明,制作的薄膜重量轻,复制精度高,并且具有高衍射效率,满足空间望远镜的应用要求。 相似文献